專利名稱：一種壓敏電阻片燒缽研磨的方法及其使用的研磨設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于 壓敏電阻片制作技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種壓敏電阻片燒缽研磨的方法及其使用的研磨設(shè)備。
背景技術(shù)：
壓敏電阻片作為一種敏感元器件，是大功率半導(dǎo)體，屬于新材料應(yīng)用范疇，是一種典型的陶瓷電工元件，其作為過(guò)電壓保護(hù)器件和電壓傳感器，主要用于組裝氧化鋅避雷器及其監(jiān)測(cè)儀器產(chǎn)品來(lái)保護(hù)電網(wǎng)中運(yùn)行的各種電器設(shè)備免受過(guò)電壓損害。在壓敏電阻片的制造工藝中，燒結(jié)是最關(guān)鍵的制造工藝，該工藝過(guò)程直接決定著壓敏電阻片性能的優(yōu)劣。這是因?yàn)樾纬蓧好綦娮杵蔷€性的ZnO晶粒和尖晶石晶界層的發(fā)育過(guò)程都在燒結(jié)過(guò)程中開始和結(jié)束。但是在壓敏電阻的配方中，根據(jù)電性能的需要，存在著大量低熔點(diǎn)物質(zhì)(Bi203、 Sb2O3),在高溫?zé)Y(jié)過(guò)程中，電阻片的配方體系容易由于低熔點(diǎn)物質(zhì)的揮發(fā)而漸趨失衡，從而造成電阻片產(chǎn)品性能的劣化。電阻片坯體在高溫?zé)Y(jié)時(shí)可以看作是一個(gè)熔融體，在此狀態(tài)下，低熔點(diǎn)、易揮發(fā)組分就會(huì)不間斷地?fù)]發(fā)，特別是Bi2O3，因?yàn)槠浞謮狠^高，因此其揮發(fā)相當(dāng)嚴(yán)重，在裝載量較小時(shí)尤為如此。Bi2O3是形成電阻片晶界層的主要物質(zhì)，它能夠向ZnO晶粒邊界分凝而形成晶粒表面無(wú)定形的Bi原子吸附層，引起ZnO晶粒表面能帶彎曲。當(dāng)電阻片燒結(jié)時(shí)，由于燒缽蓋不嚴(yán)Bi2O3的揮發(fā)量大，從而導(dǎo)致一部分晶粒表面的Bi2O3原子吸附層不夠完善，這種情況將直接引起電阻片晶界層發(fā)育的不完善，甚至晶界層消失，引起電阻片性能劣化，對(duì)電性能的影響則表現(xiàn)為殘壓比高、漏電流增大。因此，對(duì)于壓敏電阻片的制造過(guò)程來(lái)說(shuō)，燒缽的密封就顯得尤為重要。燒缽體和蓋體需重新加工后才能繼續(xù)使用。目前，缽子研磨是將缽子口扣在金剛石磨盤上來(lái)回移動(dòng)進(jìn)行研磨，長(zhǎng)時(shí)間、多次使用后，由于磨盤表面磨損物理?yè)p傷，平面度、粗糙度改變，導(dǎo)致缽子面磨不平，使用時(shí)密封不嚴(yán)，而且金剛石磨盤價(jià)格昂貴，綜上可知傳統(tǒng)的方法種種缺陷不利于其在生產(chǎn)制造過(guò)程中推廣應(yīng)用。發(fā)明人在長(zhǎng)期從事壓敏電阻的生產(chǎn)工程中，發(fā)現(xiàn)傳統(tǒng)的壓敏電阻燒缽研磨方法存在操作繁瑣，效率、效果低，成本高的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的目的是提供一種壓敏電阻燒缽研磨的方法及其使用的研磨設(shè)備，該方法操作方便，價(jià)格低廉，研磨效率高。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明是按以下步驟進(jìn)行研磨的將研磨器安裝到鉆床夾具上， 并將水管對(duì)準(zhǔn)研磨器；將燒缽放置在鉆床臺(tái)面上；將鉆床的研磨器降低至燒缽高度，開啟鉆床運(yùn)轉(zhuǎn)并來(lái)回移動(dòng)燒缽進(jìn)行研磨，研磨期間打開冷卻水。在本發(fā)明中所使用的研磨設(shè)備包括鉆床床體，在所述鉆床床體的臺(tái)面上部設(shè)置有研磨器，在所述研磨器的上部設(shè)置有水箱，從所述水箱中引出一水管。采用上述技術(shù)方案的有益效果是通過(guò)鉆床來(lái)研磨的燒缽平整、密封性好，高溫?zé)Y(jié)時(shí)能有效的減少電阻片低熔點(diǎn)成分的揮發(fā)，提高產(chǎn)品性能；該方法操作方便，價(jià)格低廉， 研磨效率高。


下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。圖1是本發(fā)明所述研磨設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中，1.研磨器，2.鉆床臺(tái)面，3.燒缽，4.水管。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明采用的研磨方法如下將研磨器1安裝到鉆床夾具上，并將水管4對(duì)準(zhǔn)研磨器將燒缽3放置在鉆床臺(tái)面2上，將鉆床的研磨器1降低至燒缽3高度，開啟鉆床運(yùn)轉(zhuǎn)并來(lái)回移動(dòng)燒缽3進(jìn)行研磨，研磨期間必須打開冷卻水。在本發(fā)明中所使用的研磨設(shè)備包括鉆床床體，在所述鉆床床體的臺(tái)面2上部設(shè)置有研磨器1，在所述研磨器1的上部設(shè)置有水箱，從所述水箱中引出一水管4。
權(quán)利要求
1.一種壓敏電阻片的燒缽研磨的方法，其特征在于該研磨方法按下述步驟進(jìn)行研磨的將研磨器安裝到鉆床夾具上，并將水管對(duì)準(zhǔn)研磨器；將燒缽放置在鉆床臺(tái)面上；將鉆床的研磨器降低至燒缽高度，開啟鉆床運(yùn)轉(zhuǎn)并來(lái)回移動(dòng)燒缽進(jìn)行研磨，研磨期間打開冷卻水。
2.一種在權(quán)利要求1中使用的研磨設(shè)備，其特征在于該研磨設(shè)備包括鉆床床體，在所述鉆床床體的臺(tái)面上部設(shè)置有研磨器，在所述研磨器的上部設(shè)置有水箱，從所述水箱中引出一水管。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種壓敏電阻燒缽研磨的方法及其使用的研磨設(shè)備，本發(fā)明是按以下步驟進(jìn)行研磨的將研磨器安裝到鉆床夾具上，并將水管對(duì)準(zhǔn)研磨器；將燒缽放置在鉆床臺(tái)面上；將鉆床的研磨器降低至燒缽高度，開啟鉆床運(yùn)轉(zhuǎn)并來(lái)回移動(dòng)燒缽進(jìn)行研磨，研磨期間打開冷卻水。在本發(fā)明中使用的研磨設(shè)備包括鉆床床體，在所述鉆床床體的臺(tái)面上部設(shè)置有研磨器，在所述研磨器的上部設(shè)置有水箱，從所述水箱中引出一水管。采用上述技術(shù)方案的有益效果是通過(guò)鉆床來(lái)研磨的燒缽平整、密封性好，高溫?zé)Y(jié)時(shí)能有效的減少電阻片低熔點(diǎn)成分的揮發(fā)，提高產(chǎn)品性能；該方法操作方便，價(jià)格低廉，研磨效率高。
文檔編號(hào)B24B37/00GK102152230SQ20111003139
公開日2011年8月17日 申請(qǐng)日期2011年1月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月28日
發(fā)明者傅鵬立, 姚嬰初, 李越, 楊婧, 靳國(guó)青 申請(qǐng)人:南陽(yáng)金牛電氣有限公司