專利名稱：拋光頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種拋光頭，尤其涉及一種超低壓力拋光頭。
背景技術(shù)：
在集成電路的制造過(guò)程中，隨著特征尺寸的縮小和金屬互連層數(shù)的增加，對(duì)晶圓表面平整度的要求也越來(lái)越高，化學(xué)機(jī)械拋光是目前最有效的全局平坦化技術(shù)。化學(xué)機(jī)械拋光是將晶圓由旋轉(zhuǎn)的拋光頭夾持，并將其以一定壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由磨粒和化學(xué)溶液組成的拋光液在晶圓和拋光墊之間流動(dòng)，晶圓表面在化學(xué)和機(jī)械的共同作用下實(shí)現(xiàn)平坦化。拋光頭起著夾持晶圓并對(duì)其背面施加壓力的作用，是實(shí)現(xiàn)表面平坦化的關(guān)鍵所在。在實(shí)際化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中，有多種原因可以引起晶圓表面或亞表面的破損、坍塌等缺陷，其中拋光頭對(duì)晶圓施加的壓力過(guò)高是產(chǎn)生缺陷的重要原因。拋光頭一般通過(guò)流體壓力來(lái)施加壓力，并通過(guò)電氣伺服閥調(diào)節(jié)流體壓力的大小從而可以改變施加在晶圓上的壓力的大小。然而電氣伺服閥的調(diào)節(jié)是有一定范圍的，在這個(gè)范圍內(nèi)，現(xiàn)有的拋光頭所能達(dá)到的壓力依然比較大。因此有必要提供一種改進(jìn)的拋光頭以實(shí)現(xiàn)更低的壓力。迄今為止， 為解決這一技術(shù)問(wèn)題所做的努力尚沒(méi)有取得成功。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。為此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種可以提供更低壓力的拋光頭。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例提出一種拋光頭，所述拋光頭包括蓋板；基座，所述基座固定在所述蓋板的下表面上，所述基座的下表面形成有環(huán)形凹槽；柔性膜，所述柔性膜固定在所述基座的下表面上且覆蓋在所述環(huán)形凹槽上以形成與外界連通的下腔室；傳遞板，所述傳遞板固定在所述柔性膜的下表面上且與所述環(huán)形凹槽相對(duì)應(yīng)，其中所述傳遞板的上表面的面積小于所述傳遞板的下表面的面積；和保持環(huán)，所述保持環(huán)固定在所述基座的下表面上用于保持晶圓。在利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光時(shí)，向所述環(huán)形凹槽內(nèi)通入一定壓力的流體，這樣在所述環(huán)形凹槽內(nèi)形成有流體壓力。所述流體壓力首先由所述柔性膜傳遞給設(shè)置在所述柔性膜的下表面上且與所述環(huán)形凹槽相對(duì)應(yīng)的所述傳遞板，然后由所述傳遞板傳遞給晶圓。由于所述傳遞板的上表面的面積小于所述傳遞板的下表面的面積， 因此所述晶圓受到的壓力小于所述流體壓力，也就是說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭可以提供更低的拋光壓力。并且在所述流體壓力保持不變的前提下，可以僅通過(guò)改變所述傳遞板的上表面和下表面的面積比來(lái)改變所述晶圓受到的壓力的大小。另外，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭可以具有如下附加的技術(shù)特征根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，拋光頭還包括墊片，所述墊片固定在所述傳遞板的下表面上。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭通過(guò)在所述傳遞板的下表面上設(shè)置所述墊片，從而可以吸收所述傳遞板對(duì)所述晶圓的沖擊，以形成接近平整的表面來(lái)容納所述晶圓，并對(duì)所述晶圓提供均勻的壓力。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述蓋板和基座之間限定有與外界連通的上腔室，且所述上腔室通過(guò)連接通道與所述下腔室相連通。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述基座的上表面上設(shè)有凹部，所述蓋板覆蓋所述凹部以形成所述上腔室。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述上腔室通過(guò)形成在蓋板內(nèi)的蓋板通道與外界連通。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述環(huán)形凹槽為多個(gè)，所述多個(gè)環(huán)形凹槽順序套設(shè)且在徑向方向上彼此間隔開(kāi)，所述傳遞板為多個(gè)，所述多個(gè)傳遞板順序套設(shè)并且分別與所述多個(gè)環(huán)形凹槽對(duì)應(yīng)。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭通過(guò)設(shè)置多個(gè)所述環(huán)形凹槽和傳遞板，從而可以根據(jù)晶圓去除量的要求來(lái)對(duì)所述晶圓的不同區(qū)域施加不同的壓力，以保證在化學(xué)機(jī)械拋光結(jié)束時(shí)使所述晶圓的表面接近平整。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述柔性膜通過(guò)內(nèi)壓環(huán)和外壓環(huán)固定在所述基座的下表面上。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述柔性膜通過(guò)粘結(jié)劑固定在所述基座的下表面上。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述傳遞板為剛性傳遞板。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述柔性膜和墊片均由氯丁二烯或者硅橡膠制成，所述剛性傳遞板由金屬、塑料或者陶瓷制成，所述保持環(huán)由聚亞苯基硫醚、聚醚醚酮或者陶瓷制成。本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。


本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的拋光頭的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的拋光頭的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明拋光頭100、蓋板110、基座120、環(huán)形凹槽121、連接通道122、柔性膜130、上腔室 140、傳遞板150、上表面151、下表面152、保持環(huán)160、墊片170、內(nèi)壓環(huán)180、外壓環(huán)190、晶圓 200。
具體實(shí)施例方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、 “左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底” “內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。在本發(fā)明的描述中，除非另有規(guī)定和限定，需要說(shuō)明的是，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、 “連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是機(jī)械連接或電連接，也可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通，可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)的具體含義。下面參照?qǐng)D1描述根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的拋光頭。如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭100包括蓋板110、基座120、柔性膜130、傳遞板150和保持環(huán)160?；?20 固定在蓋板110的下表面上，基座120的下表面形成有環(huán)形凹槽121。柔性膜130固定在基座120的下表面上且覆蓋在環(huán)形凹槽121上以形成與外界連通的下腔室140。傳遞板150 固定在柔性膜130的下表面上且與環(huán)形凹槽121相對(duì)應(yīng)，其中傳遞板150的上表面的面積小于傳遞板150的下表面的面積。保持環(huán)160固定在基座120的下表面上用于保持晶圓 200。在利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭100進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光時(shí)，向環(huán)形凹槽121內(nèi)通入一定壓力的流體，這樣在環(huán)形凹槽121內(nèi)形成有流體壓力。所述流體壓力首先由柔性膜130傳遞給設(shè)置在柔性膜130的下表面上且與環(huán)形凹槽121相對(duì)應(yīng)的傳遞板150，然后由傳遞板150傳遞給晶圓200。由于傳遞板150的上表面151的面積小于傳遞板150的下表面152的面積，根據(jù)牛頓定律可知，晶圓200受到的壓力與所述流體壓力之比等于傳遞板 150的上表面151的面積與傳遞板150的下表面152的面積之比，因此晶圓200受到的壓力小于所述流體壓力。也就是說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭100可以提供更低的拋光壓力。 并且在所述流體壓力保持不變的前提下，可以僅通過(guò)改變傳遞板150的上表面151和下表面152的面積比來(lái)改變所述晶圓200受到的壓力的大小。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，如圖1所示，拋光頭100還可以包括墊片170，墊片170 可以固定在傳遞板150的下表面152上。拋光頭100通過(guò)在傳遞板150的下表面152上設(shè)置墊片170，從而可以吸收傳遞板150對(duì)晶圓200的沖擊，以形成接近平整的表面來(lái)容納晶圓200，并對(duì)晶圓200提供均勻的壓力。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，墊片170可以是圓形，且墊片170的直徑可以與晶圓 200的直徑相等，從而可以容納整個(gè)晶圓200，并對(duì)整個(gè)晶圓200提供均勻的壓力。如圖2所示，在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，環(huán)形凹槽121可以是多個(gè)，多個(gè)環(huán)形凹槽121可以順序套設(shè)且在徑向方向上彼此間隔開(kāi)，傳遞板150可以是多個(gè)，多個(gè)傳遞板150 可以順序套設(shè)并且分別與多個(gè)環(huán)形凹槽121對(duì)應(yīng)。多個(gè)傳遞板150可以在徑向方向上彼此間隔開(kāi)。其中，多個(gè)傳遞板150分別與多個(gè)環(huán)形凹槽121對(duì)應(yīng)是指?jìng)鬟f板150的數(shù)量和位置分別與環(huán)形凹槽121對(duì)應(yīng)。因?yàn)樗鱿虑皇沂怯森h(huán)形凹槽121和覆蓋在環(huán)形凹槽121上的柔性膜130構(gòu)成，所以所述下腔室也可以是多個(gè)，且多個(gè)傳遞板150可以分別與所述多個(gè)下腔室對(duì)應(yīng)。在利用具有多個(gè)環(huán)形凹槽121的拋光頭100進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光時(shí)，可以根據(jù)晶圓去除量的要求向不同的環(huán)形凹槽121內(nèi)通入不同壓力的流體，這樣在不同的環(huán)形凹槽121 內(nèi)形成有不同的流體壓力，所述不同的流體壓力通過(guò)傳遞板150傳遞給晶圓200，從而對(duì)晶圓200的不同區(qū)域施加不同的壓力，以保證在化學(xué)機(jī)械拋光結(jié)束時(shí)使晶圓200的表面接近平整。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖2所示，多個(gè)環(huán)形凹槽121可以是多個(gè)同心的圓環(huán)形凹槽，多個(gè)傳遞板150的上表面151均可以是圓環(huán)形，最內(nèi)側(cè)的傳遞板150的下表面152 可以是圓環(huán)形或者圓形，其他的傳遞板150的下表面152可以是圓環(huán)形。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，傳遞板150的圓環(huán)形的上表面151可以位于對(duì)應(yīng)的圓環(huán)形的環(huán)形凹槽121的正下方，其中傳遞板150的上表面151的內(nèi)徑大于對(duì)應(yīng)的環(huán)形凹槽121的內(nèi)徑，且傳遞板150 的上表面151的外徑小于對(duì)應(yīng)的環(huán)形凹槽121的外徑。最外側(cè)的傳遞板150的下表面152 的外徑與晶圓200的直徑相等?？蛇x地，環(huán)形凹槽121可以是一個(gè)，且環(huán)形凹槽121可以是圓環(huán)形凹槽，傳遞板150 可以是一個(gè)，且傳遞板150的上表面151可以是圓環(huán)形，傳遞板150的下表面152可以是圓環(huán)形或者圓形。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，傳遞板150的圓環(huán)形的上表面151可以位于圓環(huán)形的環(huán)形凹槽121的正下方，其中傳遞板150的上表面151的內(nèi)徑大于環(huán)形凹槽121 的內(nèi)徑，且傳遞板150的上表面151的外徑小于環(huán)形凹槽121的外徑。傳遞板150的下表面152的外徑或者直徑與晶圓200的直徑相等。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，蓋板110可以設(shè)置有蓋板通道，基座120可以設(shè)置有基座通道，且所述基座通道可以分別與所述蓋板通道和環(huán)形凹槽121相連通，從而可以使環(huán)形凹槽121與外界連通，也就是說(shuō)可以使所述下腔室與外界連通。這樣可以利用例如流體伺服閥通過(guò)所述蓋板通道和基座通道向環(huán)形凹槽121內(nèi)通入一定壓力的流體?；?20可以設(shè)置有與外界連通的基座通道，且所述基座通道可以與環(huán)形凹槽 121相連通，從而可以使環(huán)形凹槽121與外界連通，也就是說(shuō)可以使所述下腔室與外界連通。這樣可以利用例如流體伺服閥通過(guò)所述基座通道向環(huán)形凹槽121內(nèi)通入一定壓力的流體。當(dāng)拋光頭100設(shè)置有多個(gè)環(huán)形凹槽121時(shí)，蓋板110可以設(shè)置有多個(gè)蓋板通道，基座120可以設(shè)置有多個(gè)基座通道，所述多個(gè)基座通道可以分別與所述多個(gè)蓋板通道和多個(gè)環(huán)形凹槽121對(duì)應(yīng)地相連通，從而可以使多個(gè)環(huán)形凹槽121與外界連通，也就是說(shuō)可以使多個(gè)所述下腔室與外界連通。這樣可以利用例如流體伺服閥通過(guò)相對(duì)應(yīng)的所述蓋板通道和基座通道向每個(gè)環(huán)形凹槽121內(nèi)通入一定壓力的流體。在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，基座120可以設(shè)置有多個(gè)與外界連通的基座通道，且所述多個(gè)基座通道分別與多個(gè)環(huán)形凹槽 121對(duì)應(yīng)地相連通，從而可以使多個(gè)環(huán)形凹槽121與外界連通，也就是說(shuō)可以使多個(gè)所述下腔室與外界連通。這樣可以利用例如流體伺服閥通過(guò)相對(duì)應(yīng)的所述基座通道向每個(gè)環(huán)形凹槽121內(nèi)通入一定壓力的流體。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，蓋板110和基座120之間可以限定有與外界連通的上腔室140，且上腔室140可以通過(guò)連接通道122與所述下腔室相連通。通過(guò)設(shè)置上腔室140 可以使向環(huán)形凹槽121內(nèi)通入一定壓力的流體更加簡(jiǎn)便。特別是當(dāng)拋光頭100設(shè)置有多個(gè)環(huán)形凹槽121時(shí)，通過(guò)設(shè)置上腔室140可以使蓋板110或者基座120只需設(shè)置一個(gè)蓋板通道或者基座通道。具有一定壓力的流體通過(guò)所述蓋板通道或者基座通道進(jìn)入上腔室140后， 再通過(guò)連接通道122進(jìn)入與連接通道122相連通的所述下腔室內(nèi)，即通過(guò)連接通道122進(jìn)入與連接通道122相連通的環(huán)形凹槽121內(nèi)。如圖1和圖2所示，在本發(fā)明的一個(gè)示例中，基座120的上表面上可以設(shè)置有凹部，蓋板110可以覆蓋所述凹部以形成上腔室140。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，蓋板110 內(nèi)可以形成有蓋板通道，上腔室140可以通過(guò)所述蓋板通道與外界連通。
在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，如圖1和2所示，柔性膜130可以通過(guò)內(nèi)壓環(huán)180和外壓環(huán)190固定在基座120的下表面上。其中，內(nèi)壓環(huán)180可以設(shè)置在靠近環(huán)形凹槽121的內(nèi)環(huán)處，外壓環(huán)190可以設(shè)置在靠近環(huán)形凹槽121的外環(huán)處，這樣可以使柔性膜130更好地密封環(huán)形凹槽121。在本發(fā)明的一個(gè)示例中，內(nèi)壓環(huán)180和外壓環(huán)190可以通過(guò)螺栓將柔性膜130固定在基座120的下表面上，也就是說(shuō)螺栓依次穿過(guò)內(nèi)壓環(huán)180或者外壓環(huán)190、柔性膜130和基座120。 具體地，柔性膜130可以通過(guò)粘結(jié)劑固定在基座120的下表面上。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，為了使柔性膜130更好地密封環(huán)形凹槽121，柔性膜130可以通過(guò)內(nèi)壓環(huán)180 和外壓環(huán)190固定在基座120的下表面上，且柔性膜130還可以通過(guò)粘結(jié)劑固定在基座120 的下表面上。當(dāng)拋光頭100設(shè)置有多個(gè)環(huán)形凹槽121時(shí)，可以利用一個(gè)柔性膜130密封多個(gè)環(huán)形凹槽121，柔性膜130可以通過(guò)粘結(jié)劑固定在基座120的下表面上，柔性膜130還可以通過(guò)多個(gè)內(nèi)壓環(huán)180和外壓環(huán)190固定在基座120的下表面上。在本發(fā)明的一個(gè)示例中，柔性膜130可以是圓形。在本發(fā)明的另一個(gè)示例中，為了使柔性膜130更好地密封多個(gè)環(huán)形凹槽121，在靠近每一個(gè)環(huán)形凹槽121的內(nèi)環(huán)處和外環(huán)處均分別設(shè)置有內(nèi)壓環(huán)180和外壓環(huán) 190?？蛇x地，可以利用多個(gè)環(huán)形的柔性膜130密封多個(gè)環(huán)形凹槽121。具體地，柔性膜130和墊片170可以由彈性材料制成，例如可以由氯丁二烯或者硅橡膠制成。傳遞板150可以是剛性傳遞板。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，傳遞板150可以由金屬、塑料或者陶瓷制成。保持環(huán)160可以由為耐腐蝕、耐磨材料制成，例如保持環(huán)160 可以由聚亞苯基硫醚、聚醚醚酮或者陶瓷制成。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭100可以提供更低的拋光壓力，從而有效地避免了由于拋光壓力過(guò)高而導(dǎo)致晶圓200的表面產(chǎn)生缺陷。在本說(shuō)明書的描述中，參考術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說(shuō)明書中，對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求
1.一種拋光頭，其特征在于，包括蓋板；基座，所述基座固定在所述蓋板的下表面上，所述基座的下表面形成有環(huán)形凹槽；柔性膜，所述柔性膜固定在所述基座的下表面上且覆蓋在所述環(huán)形凹槽上以形成與外界連通的下腔室；傳遞板，所述傳遞板固定在所述柔性膜的下表面上且與所述環(huán)形凹槽相對(duì)應(yīng)，其中所述傳遞板的上表面的面積小于所述傳遞板的下表面的面積；和保持環(huán)，所述保持環(huán)固定在所述基座的下表面上用于保持晶圓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光頭，其特征在于，還包括墊片，所述墊片固定在所述傳遞板的下表面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光頭，其特征在于，所述蓋板和基座之間限定有與外界連通的上腔室，且所述上腔室通過(guò)連接通道與所述下腔室相連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的拋光頭，其特征在于，所述基座的上表面上設(shè)有凹部，所述蓋板覆蓋所述凹部以形成所述上腔室。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋光頭，其特征在于，所述上腔室通過(guò)形成在蓋板內(nèi)的蓋板通道與外界連通。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的拋光頭，其特征在于，所述環(huán)形凹槽為多個(gè)，所述多個(gè)環(huán)形凹槽順序套設(shè)且在徑向方向上彼此間隔開(kāi)，所述傳遞板為多個(gè)，所述多個(gè)傳遞板順序套設(shè)并且分別與所述多個(gè)環(huán)形凹槽對(duì)應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光頭，其特征在于，所述柔性膜通過(guò)內(nèi)壓環(huán)和外壓環(huán)固定在所述基座的下表面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的拋光頭，其特征在于，所述柔性膜通過(guò)粘結(jié)劑固定在所述基座的下表面上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光頭，其特征在于，所述傳遞板為剛性傳遞板。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的拋光頭，其特征在于，所述柔性膜和墊片均由氯丁二烯或者硅橡膠制成，所述剛性傳遞板由金屬、塑料或者陶瓷制成，所述保持環(huán)由聚亞苯基硫醚、聚醚醚酮或者陶瓷制成。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種拋光頭，所述拋光頭包括蓋板；基座，所述基座固定在所述蓋板的下表面上，所述基座的下表面形成有環(huán)形凹槽；柔性膜，所述柔性膜固定在所述基座的下表面上且覆蓋在所述環(huán)形凹槽上以形成與外界連通的下腔室；傳遞板，所述傳遞板固定在所述柔性膜的下表面上且與所述環(huán)形凹槽相對(duì)應(yīng)，其中所述傳遞板的上表面的面積小于所述傳遞板的下表面的面積；和保持環(huán)，所述保持環(huán)固定在所述基座的下表面上用于保持晶圓。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光頭可以提供更低的拋光壓力。
文檔編號(hào)B24B39/06GK102172886SQ20111003912
公開(kāi)日2011年9月7日 申請(qǐng)日期2011年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月16日
發(fā)明者何永勇, 王同慶, 路新春, 雒建斌 申請(qǐng)人:清華大學(xué)