專利名稱：精密軸承用鋼珠離子鍍glc鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于材料制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法。
背景技術(shù)：
精密軸承(基體材料常為GCrK)作為機(jī)械裝備領(lǐng)域中的重要基礎(chǔ)零件，其性能直接影響著機(jī)械裝備的工作性能。精密軸承通常應(yīng)用于高轉(zhuǎn)動(dòng)速度、長(zhǎng)疲勞壽命和高運(yùn)行穩(wěn)定性等苛刻工況條件，具體表現(xiàn)在旋轉(zhuǎn)體(鋼珠)上，要求其具有高振動(dòng)精度、高速旋轉(zhuǎn)且摩擦系數(shù)小、磨損率低等特性。因此，提高精密軸承用鋼珠的耐磨性是保證其性能穩(wěn)定性的有效途徑之一。應(yīng)用現(xiàn)代表面改性技術(shù)于鋼珠表面制備固體自潤(rùn)滑鍍層，以突破傳統(tǒng)油脂潤(rùn)滑的有效工作范圍，保證精密軸承在諸如高溫、高載、超高速等極端工況條件下正常工作，能賦予航空發(fā)動(dòng)機(jī)等航空、航天領(lǐng)域所需精密軸承在無(wú)油或貧油情況下，保證飛行器等裝備繼續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行至安全著陸的特性。GLC(類石墨鍍層)因具有良好的潤(rùn)滑、減摩、耐磨等特性，若利用磁控濺射離子鍍技術(shù)于精密軸承用鋼珠表面均勻制備一層GLC自潤(rùn)滑鍍層，則組裝后的精密軸承具有高承載、高轉(zhuǎn)速、低振動(dòng)、低摩擦等特性。然而，目前國(guó)內(nèi)尚無(wú)有關(guān)精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層的相關(guān)表面處理技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供了一種精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，本發(fā)明方法處理后鋼珠具有高承載、高轉(zhuǎn)速、低振動(dòng)、以及低摩擦的特性。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是，一種精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，在精密軸承用鋼珠表面鍍厚度為0. 3 μ m 5 μ m的GLC鍍層，該GLC鍍層的硬度為1500HV 2500HV，摩擦系數(shù)為0. 07 0. 30，包括以下步驟步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗后，用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干；步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)，該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，所述真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材；步驟3 濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. OX 10_3Pa，再通入氣流量為7sCCm lOOsccm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;直接在鉻靶材上施加0. 02A 0. 5A電流，同時(shí)，對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為300V 600V、脈沖寬度為0. 2 μ S 5 μ S、且脈沖頻率為20ΚΗΖ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，濺射清洗時(shí)間為Imin 60min ；步驟4 沉積純鉻打底層
此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至0. 2A 15A，同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至 O 150V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為Imin 30min ；步驟5:沉積過(guò)渡層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1.0 X KT1Pa 9. SXKT1Pa,將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至0. OlA 2A，同時(shí)，將石墨靶材的靶電流調(diào)節(jié)至IA 15A，或?qū)⑹胁纳想妷褐嫡{(diào)節(jié)至500V 1500V ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持在O 150V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為:3min 60min ；步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流和電壓參數(shù)不變；同時(shí)，保持施加在鋼珠上的脈沖偏壓參數(shù)不變，或?qū)⑹┘釉阡撝樯系钠珘褐嫡{(diào)節(jié)至O 120V、脈沖寬度為0. 2μ S 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積類石墨工作層時(shí)間為60min 300mino其中，步驟1中，對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗5min 30min，再放入乙醇中，超聲波清洗5min 30min。步驟2中，保證各靶材與鋼珠之間的距離為30mm 180mm，且工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為lr/min 20r/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士 20_ 士 200mm，鉻靶材上靶電流的調(diào)節(jié)速率均為0. OlA/min 5A/min，石墨靶材的靶電流的調(diào)節(jié)速率為 0. OlA/min 5A/min?；蛘撸t靶材上靶電流的調(diào)節(jié)速率均為0. OlA/min 5A/min，石墨靶材上電壓值的調(diào)節(jié)速率均為lV/min 100V/min。本發(fā)明的另一個(gè)技術(shù)方案是，一種精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，在精密軸承用鋼珠表面鍍厚度為0. 3 μ m 5 μ m的GLC鍍層，該GLC鍍層的硬度為1500HV 2500HV，摩擦系數(shù)為0. 07 0. 30，包括以下步驟步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗后，用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干；步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)，該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，所述真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材；步驟3 濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. OX 10_3Pa，再通入氣流量為7sCCm lOOsccm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;直接在鉻靶材上施加200V 600V電壓，同時(shí)對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為300V 600V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，濺射清洗時(shí)間為Imin 60min ；步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至250V 1500V ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至O 150V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ !350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為Imin 30min ；步驟5 沉積過(guò)渡層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1.0 X KT1Pa 9. SXKT1Pa,將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至200V 800V ；同時(shí)，將石墨靶材的靶電流調(diào)節(jié)至IA 15A，或?qū)⑹胁纳想妷褐嫡{(diào)節(jié)至500V 1500V ；同時(shí)將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持在 O 150V、脈沖寬度為0. 2 μ S 5 μ S、且脈沖頻率為20ΚΗΖ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為3min 60min ；步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流和電壓參數(shù)不變；同時(shí)，保持施加在鋼珠上的脈沖偏壓參數(shù)不變，或?qū)⑹┘釉阡撝樯系钠珘褐嫡{(diào)節(jié)至O 120V、脈沖寬度為0. 2μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積類石墨工作層時(shí)間為60min 300mino其中，步驟1中，對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗5min 30min，再放入乙醇中，超聲波清洗5min 30min。步驟2中，保證各靶材與鋼珠之間的距離為30mm 180mm，且工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為lr/min 20r/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士 20_ 士 200mm，鉻靶材上電壓值的調(diào)節(jié)速率均為lV/min lOOV/min，石墨靶材的靶電流的調(diào)節(jié)速率為 0. OlA/min 5A/min。或者，鉻靶材上電壓值的調(diào)節(jié)速率均為lV/min lOOV/min，石墨靶材上電壓值的調(diào)節(jié)速率均為lV/min 100V/min。本發(fā)明的有益效果是，與現(xiàn)有技術(shù)的精密軸承用鋼珠相比，安裝有本發(fā)明方法處理后的鋼珠的精密軸承，轉(zhuǎn)動(dòng)速度增大的同時(shí)，振動(dòng)增幅緩慢；相同載荷下運(yùn)行振動(dòng)值小且穩(wěn)定性好；隨主軸轉(zhuǎn)速的提高，溫升速度遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)的未鍍膜軸承；斷油情況下，與現(xiàn)有技術(shù)的精密軸承升高相同溫度所用的時(shí)間更長(zhǎng)；即說(shuō)明精密軸承用滾珠在經(jīng)本發(fā)明方法處理以后，具有了低摩擦系數(shù)(磨損率)、低振動(dòng)幅值、高承載能力等特性，且在斷油情況下可穩(wěn)定運(yùn)行的時(shí)間更長(zhǎng)，能滿足于航空、航天等領(lǐng)域?qū)τ诰茌S承的要求。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1
步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗，超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗5min，再放入乙醇中，超聲波清洗5min。再用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干。此步驟能基本去除鋼珠表面的油污。步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)，該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為Ir/ min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士20mm ；真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材，并保證所有鉻靶材和石墨靶材與鋼珠之間的距離均為30mm。步驟3 濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. OX 10_3Pa，再通入氣流量為7sCCm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為1. OX 10-1 ；直接在鉻靶材上施加0. 02A的靶電流，同時(shí)，對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為300V、脈沖寬度為5. 0 μ S、且脈沖頻率為20ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，直至去除鋼珠表面剩余油污和氧化皮，濺射清洗時(shí)間為60min。此步驟中，通過(guò)脈沖偏壓控制等離子中Ar+等正離子對(duì)鋼珠表面的進(jìn)一步清洗效果，使得吸附在鋼珠表面的雜質(zhì)(包括步驟1未去除的雜質(zhì)以及鋼珠表面的氧化皮)脫離鋼珠表面，在凈化鋼珠表面的同時(shí)，引起鋼珠溫升，可大幅度改善界面狀態(tài)，并有助于后續(xù)涂層結(jié)合強(qiáng)度的提高。 步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持7sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1. OXKT1Pa ；以5A/min的速率將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至5A，同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至150V、脈沖寬度為5. 0 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為 lmin。步驟5 沉積過(guò)渡層此步驟中，保持7sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1. OXKT1Pa,以5A/min的速率將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至0. 01A,同時(shí)，以5A/min的速率將石墨靶材的靶電流調(diào)節(jié)至15A ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持在150V、脈沖寬度為 5. 0 μ S、且脈沖頻率為20ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為:3min。步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持7sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1. OXKT1Pa ；維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流參數(shù)不變；同時(shí)，保持施加在鋼珠上的脈沖偏壓值、脈沖寬度和脈沖頻率的參數(shù)均不變，沉積類石墨工作層時(shí)間為60min。此實(shí)施例中，得到的精密軸承用鋼珠表面GLC鍍層的厚度為0.3 μ m，硬度為 M90HV，摩擦系數(shù)為0. 07。實(shí)施例2步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗，超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗16min，再放入乙醇中，超聲波清洗16min。再用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干。步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)， 該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為 lOr/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士90mm ；真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材，并保證所有鉻靶材和石墨靶材與鋼珠之間的距離均為105mm。步驟3 濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. OX 10_3Pa，再通入氣流量為53sCCm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為5. OX 10-1 ；直接在鉻靶材上施加0. 25A的靶電流，同時(shí)，對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為450V、脈沖寬度為2. 5 μ S、且脈沖頻率為160ΚΗΖ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，直至去除鋼珠表面剩余油污和氧化皮，濺射清洗時(shí)間為30min。步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持53sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 5. OXKT1Pa ；以2. 5A/min的速率將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至15A，同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至70V，脈沖寬度為2. 5 μ s、且脈沖頻率為160ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為6min。步驟5 沉積過(guò)渡層此步驟中，保持53sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 5. OXKT1Pa,以2. 5A/min的速率將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至1A，同時(shí)，以1. 5A/min的速率將石墨靶材的靶電流調(diào)節(jié)至3A ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持在70V、脈沖寬度為 2. 5 μ S、且脈沖頻率為160ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為6min。步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持53sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 5. OXKT1Pa ；維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流參數(shù)不變；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至120V、脈沖寬度為5 μ S、且脈沖頻率為320ΚΗζ，沉積類石墨工作層時(shí)間為180min。此實(shí)施例中，得到的精密軸承用鋼珠表面GLC鍍層的厚度為2.6μπι，硬度為 1980HV，摩擦系數(shù)為0. 16。實(shí)施例3步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗，超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗30min，再放入乙醇中，超聲波清洗30min。再用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干。步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)， 該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為 20r/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士200mm ；真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材，并保證所有鉻靶材和石墨靶材與鋼珠之間的距離均為180mm。步驟3 濺射清洗
將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. 0X10_3Pa，再通入氣流量為lOOsccm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為9. SXlO-1Pa ；直接在鉻靶材上施加0. 5A的靶電流，同時(shí)，對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為600V、脈沖寬度為0. 2 μ S、且脈沖頻率為350ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，直至去除鋼珠表面剩余油污和氧化皮，濺射清洗時(shí)間為lmin。步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 9. 5 X IO^1Pa ；以0. OlA/min的速率將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至0. 2A，同時(shí)，將施加在鋼珠上的脈沖偏壓值調(diào)節(jié)為0，即沒(méi)有脈沖負(fù)偏壓的作用，沉積純鉻打底層時(shí)間為19min。步驟5 沉積過(guò)渡層此步驟中，保持lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 9. 5 X IO^1Pa,以0. 04A/min的速率將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至2A，同時(shí)，以30V/min的速率將石墨靶材上電壓值調(diào)節(jié)至600V ；鋼珠負(fù)偏壓值為0，沉積過(guò)渡層時(shí)間為50min。步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 9. 5 X IO^1Pa ；維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流和電壓參數(shù)不變；鋼珠負(fù)偏壓值為0，沉積類石墨工作層時(shí)間為300min。此實(shí)施例中，得到的精密軸承用鋼珠表面GLC鍍層的厚度為5 μ m，硬度為1520HV， 摩擦系數(shù)為0.四。實(shí)施例4步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗，超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗lOmin，再放入乙醇中，超聲波清洗lOmin。再用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干。此步驟能基本去除鋼珠表面的油污。步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)， 該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為 15r/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士 170mm ；真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材，并保證所有鉻靶材和石墨靶材與鋼珠之間的距離均為150mm。步驟3 濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. OX 10_3Pa，再通入氣流量為70sCCm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為8. OX 10-1 ；直接在鉻靶材上施加0. 3A的靶電流，同時(shí)，對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為300V、脈沖寬度為5. O μ S、且脈沖頻率為20ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，直至去除鋼珠表面剩余油污和氧化皮，濺射清洗時(shí)間為35min。此步驟中，通過(guò)脈沖偏壓控制等離子中Ar+等正離子對(duì)鋼珠表面的進(jìn)一步清洗效果，使得吸附在鋼珠表面的雜質(zhì)(包括步驟1未去除的雜質(zhì)以及鋼珠表面的氧化皮)脫離鋼珠表面，在凈化鋼珠表面的同時(shí)，引起鋼珠溫升，可大幅度改善界面狀態(tài)，并有助于后續(xù)涂層結(jié)合強(qiáng)度的提高。步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持70sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 7. 6 X IO^1Pa ；以5A/min的速率將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至5A，同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至50V、脈沖寬度為0. 2 μ s、且脈沖頻率為350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為 30mino步驟5:沉積過(guò)渡層此步驟中，保持70sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為
7.OXKT1Pa,以5A/min的速率將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至2A，同時(shí)，以30V/min的速率將石墨靶材上電壓值調(diào)節(jié)至1500V;同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持在85V、脈沖寬度為 0. 2 μ S、且脈沖頻率為320ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為45min。步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持70sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為
8.6 X IO^1Pa ；維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流參數(shù)不變；同時(shí)，保持施加在鋼珠上的脈沖偏壓值為50、脈沖寬度為0. 2 μ S、且脈沖頻率為20ΚΗζ，沉積類石墨工作層時(shí)間為IOOmin。此實(shí)施例中，得到的精密軸承用鋼珠表面GLC鍍層的厚度為0.4 μ m，硬度為 2300HV，摩擦系數(shù)為0. 06。實(shí)施例5步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗，超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗15min，再放入乙醇中，超聲波清洗15min。再用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干。步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)， 該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為 lOr/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士 IOOmm ；真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材，并保證所有鉻靶材和石墨靶材與鋼珠之間的距離均為110mm。步驟3:濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. O X10_3Pa，再通入氣流量為50sCCm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為4. 8X 10-1 ；直接在鉻靶材上施加400V的靶電壓，同時(shí)對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為450V、脈沖寬度為2. O μ S、且脈沖頻率為200ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，直至去除鋼珠表面剩余油污和氧化皮，濺射清洗時(shí)間為30min。步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持eOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 5. OXKT1Pa ；以25V/min的速率將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至800V ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至0，即沒(méi)有脈沖負(fù)偏壓的作用，沉積純鉻打底層時(shí)間為16min。
步驟5:沉積過(guò)渡層此步驟中，保持50sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 4. 8 X IO^1Pa,以25V/min的速率將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至400V ；同時(shí)，以0. 05A/min的速率將石墨靶材的靶電流調(diào)節(jié)至2A ；將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至0，沉積過(guò)渡層時(shí)間為 40mino步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持50sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 4. 8 X IO^1Pa ；維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流和電壓參數(shù)不變；將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至0，沉積類石墨工作層時(shí)間為190min。此實(shí)施例中，得到的精密軸承用鋼珠表面GLC鍍層的厚度為2. 5 μ m，硬度為 1940HV，摩擦系數(shù)為0. 17。實(shí)施例6步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗，超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗5min，再放入乙醇中，超聲波清洗5min。再用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干。步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)， 該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為 20r/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士200mm ；真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材，并保證所有鉻靶材和石墨靶材與鋼珠之間的距離均為180mm。步驟3:濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. 0X10_3Pa，再通入氣流量為lOOsccm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為9. SXlO-1Pa ；直接在Cr靶材上施加550V的靶電壓，同時(shí)對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為600V、脈沖寬度為0. 2 μ S、且脈沖頻率為350ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，直至去除鋼珠表面剩余油污和氧化皮，濺射清洗時(shí)間為lmin。步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 9. 5 X IO^1Pa ；以50V/min的速率將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至1500V ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至150V、脈沖寬度為0. 2 μ S、且脈沖頻率為350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為19min。步驟5:沉積過(guò)渡層此步驟中，保持lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 9. 5 X IO^1Pa,以50V/min的速率將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至800V ；同時(shí)，以100V/min的速率將石墨靶材上電壓值調(diào)節(jié)至1500V ；同時(shí)將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持在150V、脈沖寬度為 0. 2 μ S、且脈沖頻率為350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為Hmin。
步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 9. 5 X IO^1Pa ；維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電壓參數(shù)不變；同時(shí)，將施加在鋼珠上的偏壓值調(diào)節(jié)至120V、脈沖寬度調(diào)節(jié)為0. 5 μ S、且脈沖頻率調(diào)節(jié)為250ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積類石墨工作層時(shí)間為300min。此實(shí)施例中，得到的精密軸承用鋼珠表面GLC鍍層的厚度為4.7 μ m，硬度為 1560HV，摩擦系數(shù)為0. 28。實(shí)施例7步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗，超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗30min，再放入乙醇中，超聲波清洗30min。再用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干。步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)，該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為Ir/ min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士20mm ；真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材，并保證所有鉻靶材和石墨靶材與鋼珠之間的距離均為35mm。步驟3:濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. 0X10_3Pa，再通入氣流量為Ssccm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為1. OX 10-1 ；直接在Cr靶材上施加200V的靶電壓，同時(shí)對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為300V、脈沖寬度為5μ S、且脈沖頻率為20ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，直至去除鋼珠表面剩余油污和氧化皮，濺射清洗時(shí)間為60min。步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持Ssccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1. OXKT1Pa ；以2V/min的速率將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至^OV ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至80V、脈沖寬度為5 μ S、且脈沖頻率為20ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為 30mino步驟5:沉積過(guò)渡層此步驟中，保持Ssccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1. OXKT1Pa,以lV/min的速率將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至200V ；同時(shí)，以lOV/min的速率將石墨靶材上電壓值調(diào)節(jié)至500V ；同時(shí)將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持為80V、脈沖寬度為5 μ s、 且脈沖頻率為20ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為60min。步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持Ssccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1. OXKT1Pa ；維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電壓參數(shù)不變；同時(shí)，將施加在鋼珠上的偏壓值調(diào)節(jié)至40V、脈沖寬度調(diào)節(jié)為5. O μ S、且脈沖頻率調(diào)節(jié)為20ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積類石墨工作層時(shí)間為60min。此實(shí)施例中，得到的精密軸承用鋼珠表面GLC鍍層的厚度為0. 32 μ m，硬度為 M70HV，摩擦系數(shù)為0. 08。實(shí)施例8步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗，超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗20min，再放入乙醇中，超聲波清洗25min。再用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干。步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)， 該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為 15r/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士 150mm ；真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材，并保證所有鉻靶材和石墨靶材與鋼珠之間的距離均為160mm。步驟3:濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. 0X10_3Pa，再通入氣流量為70sCCm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為6. 6X 10-1 ；直接在鉻靶材上施加450V的靶電壓，同時(shí)對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為400V、脈沖寬度為3. 5 μ S、且脈沖頻率為250ΚΗΖ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，直至去除鋼珠表面剩余油污和氧化皮，濺射清洗時(shí)間為40min。步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持70sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 6. 6 X IO^1Pa ；以25V/min的速率將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至850V ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至60V、脈沖寬度為3. 5 μ S、且脈沖頻率為200ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為20min。步驟5:沉積過(guò)渡層此步驟中，保持70sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 6. 6 X IO^1Pa ；以50V/min的速率將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至300V ；同時(shí)，以0. 5A/min的速率將石墨靶材的靶電流調(diào)節(jié)至15A ；同時(shí)將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至50V、脈沖寬度為 3. 5 μ S、且脈沖頻率為200ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為30min。步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持70sCCm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 6. 6 X IO^1Pa ；維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流和電壓參數(shù)不變；同時(shí)，保持施加在鋼珠上的脈沖偏壓參數(shù)不變，沉積類石墨工作層時(shí)間為200min。此實(shí)施例中，得到的精密軸承用鋼珠表面GLC鍍層的厚度為2.9μπι，硬度為 2300HV，摩擦系數(shù)為0. 18。下表為，本專利方法得到的表面鍍有GLC鍍層的鋼珠裝備的精密軸承(a)和未鍍 GLC鍍層的鋼珠所裝備的精密軸承(b)的力學(xué)性能對(duì)比
權(quán)利要求
1.一種精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，在精密軸承用鋼珠表面鍍厚度為0. 3 μ m 5 μ m的GLC鍍層，該GLC鍍層的硬度為1500HV 2500HV，摩擦系數(shù)為0. 07 0. 30，包括以下步驟步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗后，用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干；步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)，該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，所述真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材；步驟3 濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. 0 X 10_3Pa，再通入氣流量為7SCCm lOOsccm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為1.0X KT1I3a 9. 5 X IO^1Pa ；直接在鉻靶材上施加0. 02A 0. 5A電流，同時(shí)，對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為300V 600V、 脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，濺射清洗時(shí)間為Imin 60min ；步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至0. 2A 15A，同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至O 150V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為Imin 30min ；步驟5 沉積過(guò)渡層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1.0 X KT1Pa 9. SXKT1Pa,將鉻靶材的靶電流調(diào)節(jié)至0. OlA 2A，同時(shí)，將石墨靶材的靶電流調(diào)節(jié)至IA 15A，或?qū)⑹胁纳想妷褐嫡{(diào)節(jié)至500V 1500V ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持在O 150V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為3min 60min ；步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1.0 X KT1Pa 9. SXKT1Pa;維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流和電壓參數(shù)不變；同時(shí)，保持施加在鋼珠上的脈沖偏壓參數(shù)不變，或?qū)⑹┘釉阡撝樯系钠珘褐嫡{(diào)節(jié)至O 120V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ S、 且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積類石墨工作層時(shí)間為60min 300min。
2.按照權(quán)利要求1所述精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，步驟1中，對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗5min 30min，再放入乙醇中，超聲波清洗5min 30min。
3.按照權(quán)利要求1所述精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，步驟2中，保證各靶材與鋼珠之間的距離為30mm 180mm，且工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為lr/min 20r/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士 20_ 士 200mm，
4.按照權(quán)利要求1所述精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，鉻靶材上靶電流的調(diào)節(jié)速率均為0. 01A/min 5A/min，石墨靶材的靶電流的調(diào)節(jié)速率為 0. OlA/min 5A/min。
5.按照權(quán)利要求1所述精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，鉻靶材上靶電流的調(diào)節(jié)速率均為0. OlA/min 5A/min，石墨靶材上電壓值的調(diào)節(jié)速率均為lV/min 100V/min。
6.一種精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，在精密軸承用鋼珠表面鍍厚度為0. 3 μ m 5 μ m的GLC鍍層，該GLC鍍層的硬度為1500HV 2500HV，摩擦系數(shù)為0. 07 0. 30，包括以下步驟步驟1 對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗后，用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干；步驟2 將步驟1得到的鋼珠置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)，該工作盤在下述各步驟中保持主軸旋轉(zhuǎn)和軸向振動(dòng)運(yùn)動(dòng)，其中，所述真空腔室內(nèi)放置有鉻靶材和純石墨靶材；步驟3 濺射清洗將步驟2中的真空腔室抽真空，使該真空腔室的真空度小于6. OX 10_3Pa，再通入氣流量為7SCCm lOOsccm的氬氣，保持此步驟中該真空腔室中的工作氣壓為1.0X KT1I3a 9. 5 X IO^1Pa ；直接在鉻靶材上施加200V 600V電壓，同時(shí)對(duì)鋼珠施加負(fù)偏壓值為300V 600V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，以對(duì)鋼珠進(jìn)行濺射清洗，濺射清洗時(shí)間為Imin 60min ；步驟4 沉積純鉻打底層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至250V 1500V ；同時(shí)，將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值調(diào)節(jié)至 O 150V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積純鉻打底層時(shí)間為Imin 30min ；步驟5 沉積過(guò)渡層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 1.0 X KT1Pa 9. SXKT1Pa,將鉻靶材上電壓值調(diào)節(jié)至200V 800V ；同時(shí)，將石墨靶材的靶電流調(diào)節(jié)至IA 15A， 或?qū)⑹胁纳想妷褐嫡{(diào)節(jié)至500V 1500V ；同時(shí)將施加在鋼珠上的負(fù)偏壓值保持在O 150V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ s、且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積過(guò)渡層時(shí)間為3min 60min ；步驟6 沉積類石墨工作層此步驟中，保持7sCCm lOOsccm的氬氣流量，并保持該真空腔室中的工作氣壓為 I-OXKT1Pa 9. SXKT1Pa;維持金屬鉻靶材和石墨靶材的電流和電壓參數(shù)不變；同時(shí)，保持施加在鋼珠上的脈沖偏壓參數(shù)不變，或?qū)⑹┘釉阡撝樯系钠珘褐嫡{(diào)節(jié)至O 120V、脈沖寬度為0. 2 μ s 5 μ S、 且脈沖頻率為20ΚΗζ 350ΚΗζ的脈沖偏壓，沉積類石墨工作層時(shí)間為60min 300min。
7.按照權(quán)利要求6所述精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，步驟1中，對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗的具體方法為將待處理鋼珠置于丙酮溶液中，超聲波清洗5min 30min，再放入乙醇中，超聲波清洗5min 30min。
8.按照權(quán)利要求6所述精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，步驟2中，保證各靶材與鋼珠之間的距離為30mm 180mm，且工作盤的主軸旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為lr/min 20r/min，工作盤軸向振動(dòng)擺幅為士 20_ 士 200mm，
9 按照權(quán)利要求6所述精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，鉻靶材上電壓值的調(diào)節(jié)速率均為lV/min lOOV/min，石墨靶材的靶電流的調(diào)節(jié)速率為 0. OlA/min 5A/min。
10.按照權(quán)利要求6所述精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑的處理方法，其特征在于，鉻靶材上電壓值的調(diào)節(jié)速率均為lV/min lOOV/min，石墨靶材上電壓值的調(diào)節(jié)速率均為 lV/min 100V/min。
全文摘要
一種精密軸承用鋼珠離子鍍GLC鍍層實(shí)現(xiàn)自潤(rùn)滑減摩性能的處理方法，包括以下步驟對(duì)待處理鋼珠進(jìn)行超聲清洗后，用去離子水清洗，并冷風(fēng)吹干；再置于磁控濺射離子鍍?cè)O(shè)備真空腔室中的工件盤內(nèi)再依次進(jìn)行濺射清洗、沉積純鉻打底層、沉積過(guò)渡層步驟以及沉積類石墨工作層等步驟。本發(fā)明方法處理后鋼珠具有高承載、高轉(zhuǎn)速、低振動(dòng)、以及低摩擦的特性，能滿足于航空、航天等領(lǐng)域的應(yīng)用。
文檔編號(hào)C23C14/06GK102230153SQ201110169189
公開(kāi)日2011年11月2日 申請(qǐng)日期2011年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月22日
發(fā)明者李洪濤, 胡鵬飛, 蔣百靈, 賈貴西 申請(qǐng)人:西安理工大學(xué)