專利名稱：殼體的制備方法及由該方法所制得的殼體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體的制備方法及由該方法所制得的殼體。
背景技術(shù)：
目前最常用的制備黑色涂層的方法為電化學(xué)方法，如陽極氧化黑色膜，鍍黑鎳、黑鉻等，但該類方法污染重不環(huán)保。PVD鍍膜技術(shù)是一種較為環(huán)保的鍍膜工藝。然而，利用PVD鍍膜技術(shù)于殼體表面形成的黑色膜層容易出現(xiàn)異色、黑中帶藍(lán)及黑中帶紅等現(xiàn)象，嚴(yán)重影響了黑色膜層的美觀性； 且利用PVD制備的黑色膜層往往黑色的深度不夠，膜層的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)中的L*值通常只能達(dá)到35左右，繼續(xù)降低L*值存在很大難度。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種有效解決上述問題的黑色的PVD鍍膜的殼體的制備方法。另外，本發(fā)明還提供一種由上述方法制得的殼體。一種殼體的制備方法，其包括如下步驟
提供一基體；
在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為鉻-碳層，其化學(xué)式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；所述色彩層的形成采用磁控濺射法，使用復(fù)合靶，通入碳源反應(yīng)氣體，該復(fù)合靶中含有金屬鉻和碳化鉻，其中金屬鉻的質(zhì)量百分含量為50、0%，碳化鉻的質(zhì)量百分含量為1(Γ50% ;該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于27至30之間，a*坐標(biāo)介于-O. I至O. I之間，b*坐標(biāo)介于-O. I至O. I之間?！N殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，該色彩層為鉻-碳層，其化學(xué)式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于27至30之間，a*坐標(biāo)介于-O. I至O. I之間，b*坐標(biāo)介于-O. I至O. I之間。本發(fā)明在所述色彩層的制備過程中使用一種含金屬鉻與碳化鉻的靶材，并通入碳源反應(yīng)氣體，使獲得的色彩層的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*低于30。所述殼體呈現(xiàn)出具有吸引力的黑色的外觀，顏色均衡且無黑中帶藍(lán)或紅；另外所述色彩層還具有良好的抗磨損性能，可持久保持其良好的黑色的外觀，同時還可有效防止基體被磨損，相應(yīng)地延長了殼體的使用壽命。


圖I是本發(fā)明一較佳實施例殼體的剖視 圖2是本發(fā)明一較佳實施例真空鍍膜機(jī)的示意圖。主要元件符號說明
權(quán)利要求
1.一種殼體的制備方法，其包括如下步驟 提供一基體； 在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為鉻-碳層，其化學(xué)式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；所述色彩層的形成采用磁控濺射法，使用復(fù)合靶，通入碳源反應(yīng)氣體，該復(fù)合靶中含有金屬鉻和碳化鉻，其中金屬鉻的質(zhì)量百分含量為50、0%，碳化鉻的質(zhì)量百分含量為1(Γ50% ;該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于27至30之間，a*坐標(biāo)介于-O. I至O. I之間，b*坐標(biāo)介于-O. I至O. I之間。
2.如權(quán)利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于形成所述色彩層的工藝參數(shù)為復(fù)合靶的功率為8 12kW，施加于基體的偏壓為-5(T-200V，占空比為3(Γ70% ;碳源反應(yīng)氣體為乙炔，乙炔的流量為8(Tl20sCCm，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為30(T500SCCm，鍍膜溫度為5(T200°C或室溫；沉積所述色彩層的時間為15飛Omin。
3.如權(quán)利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于所述基體的材質(zhì)為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。
4.如權(quán)利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于所述色彩層的厚度為Γ3ΜΠ1。
5.如權(quán)利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于所述色彩層呈現(xiàn)黑色。
6.如權(quán)利要求I所述的殼體的制備方法，其特征在于所述復(fù)合靶的制備方法為將鉻和 碳化鉻的粉體放入球磨機(jī)中混合均勻，其中金屬鉻的質(zhì)量百分含量為50、0%，碳化鉻的混入量為l(T50wt%，球磨時間為1 24小時；采用冷等靜壓對混合后的粉體原料進(jìn)行預(yù)壓，使之成型為一坯體，預(yù)壓壓力10(T300MPa，保壓時間f IOmin ;將坯體放入燒結(jié)爐中進(jìn)行熱壓燒結(jié)，從室溫開始升溫，升溫速率為9(Tl00°C /min,當(dāng)溫度升高到80(T900°C時對坯體進(jìn)行施壓，壓力為2(T40MPa，當(dāng)溫度上升到100(Γ1500 時，將壓力調(diào)節(jié)為5(T70MPa，保壓3 IOmin0
7.一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，其特征在于該色彩層為鉻-碳層，其化學(xué)式為CrxCy，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIELab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于27至30之間，a*坐標(biāo)介于-O. I至O. I之間，b*坐標(biāo)介于-O. I至O. I之間。
8.如權(quán)利要求7所述的殼體，其特征在于所述基體的材質(zhì)為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。
9.如權(quán)利要求7所述的殼體，其特征在于所述色彩層的厚度為Γ3ΜΠ1。
10.如權(quán)利要求7所述的殼體，其特征在于所述色彩層呈現(xiàn)黑色。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具有黑色外觀的殼體的制備方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為CrxCy層，其中x:y的值介于1:6與1:5之間；所述色彩層的形成采用磁控濺射法，使用復(fù)合靶，通入碳源反應(yīng)氣體，該復(fù)合靶中含有金屬鉻和碳化鉻；該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIELab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于27至30之間，a*坐標(biāo)介于-0.1至0.1之間，b*坐標(biāo)介于-0.1至0.1之間。本發(fā)明還提供一種由上述方法制得的殼體。
文檔編號C23C14/06GK102953030SQ201110246229
公開日2013年3月6日 申請日期2011年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月25日
發(fā)明者蔣煥梧, 陳正士, 徐華陽, 張娟 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司