專利名稱：獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜的制作方法
獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜所屬技術(shù)領(lǐng)域
本方法是將薄膜太陽能中的技術(shù)核心PECVD的傳片技術(shù)，當TCO玻璃放置于臺車上時，會開始利用傳動機構(gòu)進行傳片，讓玻璃可以從臺車傳入到PECVD腔體內(nèi)，而傳動機構(gòu)需要經(jīng)過特殊的設(shè)計，其要能夠進入到臺車內(nèi)部，也要能夠作升降及前后移動的特性，如此才可以將TCO玻璃順利的傳到入口端，并可進入到腔體內(nèi)部抽真空及制程，完成后也需透過這樣的傳動機構(gòu)，將鍍膜后的玻璃順利的傳入到臺車內(nèi)，這樣的設(shè)計除了不需要人工搬運玻璃造成破片之外，也可以去除TCO玻璃本身膜面可能受到人為因素或者是環(huán)境因素造成膜面臟污而造成鍍膜不完整的情形，如此設(shè)計可以提高太陽能硅薄膜的穩(wěn)定性以及鍍膜的完整性。
背景技術(shù)：
目前，業(yè)界對于薄膜太陽能電池中已有許多的研究，在制作核心PECVD時也有特殊的設(shè)計方式，主要是臥式以及直立式為主，當中在業(yè)界與學術(shù)界常使用的機臺模組，是以臥式的設(shè)計居多，而在臥式的設(shè)計當中，較常遇到的問題則是玻璃傳片問題，目前業(yè)界中臥式都是使用Robot進行傳片，但是Robot本身成本高，且在傳片時常會有造成玻璃破片或者 Robot傷及人員的問題，使得在鍍膜時危險性提高，另一種方式則是以人力進行傳片，但是人力傳片常會造成玻璃膜面受到人員觸摸而有臟污的情形，會造成鍍膜時其膜面會有明顯手印，且外觀也不美觀，因此本發(fā)明主要設(shè)計一組傳動機構(gòu)，讓玻璃從臺車到進入PECVD腔體的過程中，不需要人員觸摸，也不需要像Robot傳動有危險性發(fā)生，其主要是設(shè)計傳動機構(gòu)為一直立式架構(gòu)，其架構(gòu)內(nèi)有一平臺，其平臺可以透過線性馬達及傳動軸作升降及前后的動作，而平臺上則設(shè)有多組滾輪，其滾輪也有 升降功能，其動作為將平臺利用升降及前后移動進入到臺車內(nèi)部，隨后滾輪上升接觸玻璃，隨后滾輪將玻璃完整移出到平臺上，隨后滾輪下降到平臺上，再藉由平臺作升降及前后移動方式將玻璃傳入到抽真空腔體，即完成傳片動作，并隨后可進行鍍膜制程等動作，此方式除了可以避免玻璃在Robot傳片的危險性外，也可以避免膜面受到人員觸摸臟污的可能，可以提供整體鍍膜的穩(wěn)定性及完整性。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要目的是獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜。其系統(tǒng)主要包含入口端、入口端傳動機構(gòu)、抽真空腔、P.1. N型半導體制程腔、出口端。在每個腔體內(nèi)都設(shè)有傳動輪軸及真空Pump，且制程腔內(nèi)則有加熱裝置、Showerhead氣流孔與RF電極，以進行制程。 而本發(fā)明傳動機構(gòu)傳片，則是設(shè)置在入口端及出口端處，其主要本體為一平臺，在傳動機構(gòu)傳片上設(shè)有線性馬達及履帶片，可以讓平臺可以作上升及下降工作，另外在平臺上也設(shè)有滾輪軸承，此滾輪軸承可以將玻璃從臺車取片出來放置于平臺上。因此其發(fā)明是將平臺利用線性馬達及履帶片作上升及下降動作，此發(fā)明可以讓平臺可以照順序?qū)ε_車上的玻璃進行取片，而不會造成平臺撞到玻璃的可能，接著平臺上的滾輪會將平臺平移到臺車上，然后使平臺作升降動作，將玻璃頂起，并放置在平臺上，接著平臺會回流至傳動機構(gòu)上，平臺上升至適當位置可以用滾輪方式將玻璃傳入到抽真空腔內(nèi)，隨后抽真空及進行P.1. N型半導體制程，當完成制程后，其玻璃會再利用滾輪傳到出口端并放置于平臺上，接著平臺同樣利用履帶升降，降到可以將玻璃移到臺車位置，隨后滾輪軸承將平臺伸出至臺車內(nèi)部，并將玻璃放置于臺車上，隨后平臺再回到傳動機構(gòu)上，即完成此動作。如此可以提高膜層鍍膜完整度，且不易讓玻璃受到臟污及損傷，可以提高太陽能硅薄膜效率。


下面是結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明圖1是本發(fā)明之動作流程示意圖，圖2是本發(fā)明之傳動機構(gòu)傳片及入口端示意圖，圖3是本發(fā)明之抽真空腔體示意圖， 圖4是本發(fā)明之P.1. N型半導體薄膜制程腔示意圖，圖5是本發(fā)明之降溫破真空腔示意圖，圖6是本發(fā)明之傳動機構(gòu)傳片及出口端示意圖，主要元件符號說明1…臺車2…玻璃3···入口端及出口端4…線性馬達5…履帶片6···傳動輪軸7···滾輪8…Slit valve9-SensorlO…抽氣 Pumpll…Showerheadl2…氣流孔 13…RF power supplyl4…電衆(zhòng)。
具體實施方式
茲將本發(fā)明配合附圖，詳細說明如下所示請參閱第一圖，為本發(fā)明獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，由圖中可知，TCO先放置于臺車內(nèi)，隨后傳動機構(gòu)傳片先下降至可以傳送玻璃位置，隨后將玻璃傳送至平臺上，再由傳動機構(gòu)傳片上升至入口端內(nèi)，再由入口端傳至抽真空腔、及進行P.1. N半導體制程腔，完成制程后再到破真空腔內(nèi)，結(jié)束后在出口端位置其傳動機構(gòu)傳片會下降至可放置臺車內(nèi)位置，再由滾輪傳動至臺車上，即完成此動作流程。
請參閱第二圖，此為本發(fā)明獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，由圖中得知， 其臺車I上會承載欲鍍膜的TCO玻璃2，隨后入口端3上面的傳片機構(gòu)傳片會開始轉(zhuǎn)動其線性馬達4，并會帶動履帶片5將平臺開始下降至可進入臺車取玻璃的位置，隨后其傳動輪軸 6會開始將平臺平移進入到臺車內(nèi)部，隨后臺車上升使其滾輪7可以頂?shù)讲ＡВ⒉Ａ秸胖糜谄脚_上，隨后傳動輪軸將平臺平移到入口端，再由履帶片上升至可進 入抽真空腔位置，隨后其Slit valve 8開啟，即可將玻璃傳入到抽真空腔體內(nèi)部。
請參閱第三圖，此為獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，由圖中得知，當Slit valve 8開啟后，其玻璃2由滾輪7傳入到抽真空腔，隨后由sensor 9進行校正定位，并且關(guān)閉Slit valve,即可由Pump 10開始進行抽真空，當真空值達底壓時,其玻璃可以傳入到 P.1. N型半導體制程腔內(nèi)進行鍍膜。
請參閱第四圖，此為獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，由圖中得知，當Slit valve 8開啟將TCO玻璃2由滾輪7傳到制程腔內(nèi)時，會先進行定位，隨后氣體會從氣流孔 12傳入到Showerhead 11內(nèi)，并會擴散到整個腔體，由電腦界面進行控壓，當壓力穩(wěn)定后則由RF power supply 13開啟進行制程,制程結(jié)束后,其玻璃再由Slit valve 8開啟傳到破真空腔內(nèi)。
請參閱第五圖，此為使用獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，由圖中得知，鍍膜后玻璃會在Slit valve 8開啟后，由制程腔傳到破真空腔內(nèi)，并會由Sensor 9進行定位,隨后破真空到大氣，并完成此制程。
請參閱第六圖，此為使用獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，由圖中得知，當鍍膜后的玻璃2會由滾輪7傳送到出口端3的平臺上，隨后平臺由線性馬達4及履帶片5 下降至可將玻璃放入到臺車I位置，隨后傳動輪軸6則將平臺送入到臺車內(nèi)部，并下壓放置玻璃，隨后再將平臺拉回送到出口端，及完整此次的制程，此發(fā)明在傳動機構(gòu)上可以保持整片玻璃鍍膜的完整性，使其不受到外部的污染影響，且可以提升良率及太陽能硅薄膜電池效率。
以上說明，對本發(fā)明而言只是說明性的，非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解， 在不脫離權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可作出許多修正、變化或等效，但都將落入本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，其系統(tǒng)主要包含入口端、入口端傳動機構(gòu)、抽真空腔、p.1.N型半導體制程腔、出口端，在每個腔體內(nèi)都設(shè)有傳動輪軸及真空Pump，且制程腔內(nèi)則有加熱裝置、Showerhead氣流孔與RF電極，以進行制程；而本發(fā)明傳動機構(gòu)傳片，則是設(shè)置在入口端及出口端處，其主要本體為一平臺，在傳動機構(gòu)傳片上設(shè)有線性馬達及履帶片，可以讓平臺可以作上升及下降工作，另外在平臺上也設(shè)有滾輪軸承，此滾輪軸承可以將玻璃從臺車取片出來放置于平臺上；因此其發(fā)明是將平臺利用線性馬達及履帶片作上升及下降動作，此發(fā)明可以讓平臺可以照順序?qū)ε_車上的玻璃進行取片，而不會造成平臺撞到玻璃的可能，接著平臺上的滾輪會將平臺平移到臺車上，然后使平臺作升降動作，將玻璃頂起，并放置在平臺上，接著平臺會回流至傳動機構(gòu)上，平臺上升至適當位置可以用滾輪方式將玻璃傳入到抽真空腔內(nèi)，隨后抽真空及進行P.1.N型半導體制程，當完成制程后，其玻璃會再利用滾輪傳到出口端并放置于平臺上，接著平臺同樣利用履帶升降，降到可以將玻璃移到臺車位置，隨后滾輪軸承將平臺伸出至臺車內(nèi)部，并將玻璃放置于臺車上，隨后平臺再回到傳動機構(gòu)上，即完成此動作；如此可以提高膜層鍍膜完整度，且不易讓玻璃受到臟污及損傷，可以提高太陽能硅薄膜效率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，其中其傳動機構(gòu)傳片可以在線性馬達及履帶片的傳動下，將平臺作上升下降的動作，此可以讓玻璃在不需要人工搬運的情況下作上升下降以避免玻璃膜面受到臟污。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，其中平臺上架設(shè)傳動輪軸，此傳動輪軸可以將平臺作平移動作，可將平臺平移到臺車內(nèi)部作取片或放片的動作，此設(shè)計可以讓玻璃平穩(wěn)的送到臺車內(nèi)，不會有破損的可能性發(fā)生。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，其加熱及破真空腔體都設(shè)有Sensor定位校正,可讓玻璃先進行校正定位,不會受到Slit valve的開關(guān)而導致有擠壓玻璃的可能性，且腔體都設(shè)有真空Pump及Vent的開關(guān)，可以藉由電腦界面觀察其腔體的狀況，可依現(xiàn)場實際狀況作玻璃的抽真空及破真空動作。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的使用獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜，其制程P.1. N型半導體，同樣也有Sensor進行定位校正,且其氣體會從氣流孔順勢而下到Showerhead作分流，當腔體內(nèi)達到制程壓力時，其RF即可開啟進行鍍膜，其鍍膜后再傳片至出口端作傳動機構(gòu)傳片動作已完成制程，不會造成玻璃有破片或膜面受損的可能性發(fā)生，以提高整體制程完整性及良率。
全文摘要
本發(fā)明是獨特傳動機構(gòu)傳片技術(shù)進行硅薄膜鍍膜。其系統(tǒng)主要包含入口端、傳動機構(gòu)、抽真空腔、P.I.N型制程腔、出口端。每個腔體有傳動輪軸及真空Pump，制程腔內(nèi)有加熱裝置、Showerhead氣流孔與RF電極。本發(fā)明傳動機構(gòu)傳片設(shè)置在入口端及出口端，其本體為一平臺，傳動機構(gòu)傳片上有線性馬達及履帶片。將平臺利用線性馬達及履帶片作動作，此發(fā)明讓平臺照順序?qū)ε_車上的玻璃進行取片，接著平臺上滾輪將平臺移到臺車內(nèi)，平臺作升降動作，將玻璃頂起置在平臺上，接著平臺回流至傳動機構(gòu)，平臺用滾輪將玻璃傳入到抽真空腔，隨后抽真空及進行P.I.N型制程，完成制程后，以相反方向完成動作。如此可提高鍍膜完整度，不易讓玻璃受到臟污及損傷，可提高太陽能硅薄膜效率。
文檔編號C23C16/24GK103014678SQ20111027982
公開日2013年4月3日 申請日期2011年9月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月20日
發(fā)明者戴嘉男, 劉幼海, 劉吉人 申請人:吉富新能源科技(上海)有限公司