專利名稱：蒸鍍?cè)O(shè)備以及蒸鍍方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種蒸鍍?cè)O(shè)備以及蒸鍍方法。
背景技術(shù)：
資訊通訊產(chǎn)業(yè)已成為現(xiàn)今的主流產(chǎn)業(yè)，特別是可攜帶式的各種通訊顯示產(chǎn)品更是發(fā)展的重點(diǎn)。而由于平面顯示器是人與資訊之間的溝通界面，因此其發(fā)展顯得特別重要。有機(jī)電致發(fā)光顯示器(Organic Light Emitting Diode, OLED)以其自發(fā)光、廣視角、省電、程序簡(jiǎn)易、低成本、操作溫度廣泛、高應(yīng)答速度以及全彩化等等的優(yōu)點(diǎn)，使其具有極大的潛力， 因此可望成為下一代平面顯示器的主流。隨著有機(jī)電致發(fā)光顯示器的大型化的發(fā)展，其所面臨的瓶頸為有機(jī)電致發(fā)光顯示器蒸鍍程序中所需的遮罩的尺寸也會(huì)跟著變大。而當(dāng)遮罩的尺寸越大時(shí)，因地心引力的作用會(huì)使得遮罩產(chǎn)生些微的彎曲。為了防止遮罩彎曲，一般會(huì)在蒸鍍?cè)O(shè)備中產(chǎn)用磁性板使遮罩緊緊地貼合在基板上。然而，因磁性板本身不透光，為了使光學(xué)對(duì)位設(shè)備可以檢測(cè)位于磁性板下方的基板與遮罩之間的對(duì)位關(guān)系，通常需要對(duì)磁性板作開(kāi)孔設(shè)計(jì)，以提供光學(xué)對(duì)位設(shè)備的光線可以通過(guò)開(kāi)孔而對(duì)基板與遮罩進(jìn)行對(duì)位檢測(cè)。但是，傳統(tǒng)于磁性板設(shè)計(jì)開(kāi)孔會(huì)衍生其他的缺點(diǎn)，包括在開(kāi)孔附近的磁力均勻度不佳，而容易導(dǎo)致對(duì)應(yīng)開(kāi)孔處的基板與遮罩有未緊密貼合的情況。如此一來(lái)，將可能導(dǎo)致該處的蒸鍍圖案不夠精確。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種蒸鍍?cè)O(shè)備以及蒸鍍方法，其不需要在磁性板上形成開(kāi)孔即可以使基板與遮罩之間精確對(duì)位。本發(fā)明提出一種蒸鍍?cè)O(shè)備，用于處理基板，所述基板具有基板對(duì)位標(biāo)記，所述蒸鍍?cè)O(shè)備包括遮罩、蒸鍍?cè)?、磁性板以及至少一?duì)位檢測(cè)裝置。遮罩位于基板的下方，遮罩具有多個(gè)側(cè)邊，且任兩個(gè)相鄰的側(cè)邊之間具有轉(zhuǎn)角區(qū)域，遮罩的其中一轉(zhuǎn)角區(qū)域中具有遮罩對(duì)位標(biāo)記，且遮罩對(duì)位標(biāo)記對(duì)應(yīng)基板對(duì)位標(biāo)記設(shè)置，且該遮罩對(duì)位標(biāo)記具有第一部份以及第二部分。蒸鍍?cè)次挥谡谡值南路?。磁性板位于基板的上方。?duì)位檢測(cè)裝置對(duì)應(yīng)基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記設(shè)置，且對(duì)位檢測(cè)裝置的檢測(cè)方向與基板的表面之間具有銳角夾角θ， 所述對(duì)位檢測(cè)裝置藉由基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記的第一部份之間的對(duì)位以及基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記的第二部份的對(duì)位，以確定基板與遮罩彼此對(duì)準(zhǔn)。本發(fā)明提出一種蒸鍍方法，其包括提供如上所述的蒸鍍?cè)O(shè)備。利用對(duì)位檢測(cè)裝置對(duì)基板與遮罩進(jìn)行對(duì)位步驟，其中對(duì)位步驟包括利用對(duì)位檢測(cè)裝置以偵測(cè)基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記的第一部份之間的對(duì)位以及基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記的第二部份的對(duì)位。將遮罩與基板貼合，并利用磁性板的磁性作用以確保遮罩與基板貼合。利用蒸鍍?cè)催M(jìn)行蒸鍍程序，以于基板上形成圖案?；谏鲜?，本發(fā)明的對(duì)位檢測(cè)裝置的檢測(cè)方向與基板的表面之間具有銳角夾角
4θ，且所述對(duì)位檢測(cè)裝置藉由基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記的第一部份之間的對(duì)位以及基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記的第二部份的對(duì)位即可確定基板與遮罩彼此對(duì)準(zhǔn)。由于本發(fā)明不需要在磁性板上制作開(kāi)孔，因此可以解決傳統(tǒng)磁性板因有開(kāi)孔而容易導(dǎo)致磁力分布不均勻的問(wèn)題。以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。


圖1至圖2是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的蒸鍍方法的示意圖；圖3是圖1的蒸鍍?cè)O(shè)備的局部示意圖；圖4是圖3的側(cè)視示意圖；圖5是是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的遮罩的示意圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的蒸鍍?cè)O(shè)備的局部示意圖。其中，附圖標(biāo)記100 基板102:遮罩102a 102d:側(cè)邊103a、103b 轉(zhuǎn)角處104 遮罩支撐結(jié)構(gòu)110:壓著板120 蒸鍍?cè)?20a，120b:方向130 磁性板132 磁性板支撐結(jié)構(gòu)140 對(duì)位檢測(cè)裝置150 移動(dòng)裝置1002、1004 基板對(duì)位標(biāo)記1020、1022 遮罩對(duì)位標(biāo)記1020a、1022a 第一部份1020b、1022b 第二部份1020c、1020c 鄰接處D1、D2:檢測(cè)方向θ 銳角夾角Η1、Η2:距離L、L1、L2、L3、L4 距離
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的描述，以更進(jìn)一步了解本發(fā)明的目的、方案及功效，但并非作為本發(fā)明所附權(quán)利要求保護(hù)范圍的限制。圖1至圖2是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的蒸鍍方法的示意圖。圖3是圖1的蒸鍍?cè)O(shè)備的局部示意圖。圖4是圖3的側(cè)視示意圖。圖5是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的遮罩的示意圖。 為了清楚的說(shuō)明本實(shí)施例，圖3僅繪示出圖1的蒸鍍?cè)O(shè)備中的遮罩、基板、磁性板以及對(duì)位檢測(cè)裝置，且圖4僅繪示出圖1的蒸鍍?cè)O(shè)備中的遮罩、基板以及磁性板。請(qǐng)先參照?qǐng)D1，本實(shí)施例的蒸鍍方法首先提供蒸鍍?cè)O(shè)備，所述蒸鍍?cè)O(shè)備包括遮罩 102、蒸鍍?cè)?20、磁性板130以及至少一對(duì)位檢測(cè)裝置140。根據(jù)一實(shí)施例，所述蒸鍍?cè)O(shè)備更包括遮罩支撐結(jié)構(gòu)104、壓著板110、磁性板支撐結(jié)構(gòu)132以及移動(dòng)裝置150。上述的蒸鍍?cè)O(shè)備主要是用來(lái)對(duì)基板100進(jìn)行蒸鍍處理程序。所述基板100例如是玻璃基板、硅基板或是其他材質(zhì)的基板?；?00可以是空白基板或是已經(jīng)形成有元件或是膜層的基板。特別是，基板100具有基板對(duì)位標(biāo)記1002、1004(如圖3所示)?；鍖?duì)位標(biāo)記1002、1004可以是圓形、矩形、正方形、多邊形或是不規(guī)則形。根據(jù)本實(shí)施例，基板對(duì)位標(biāo)記1002與基板對(duì)位標(biāo)記1004是設(shè)置在基板100的對(duì)角線上。換言之，基板對(duì)位標(biāo)記 1002與基板對(duì)位標(biāo)記1004以基板100的中心點(diǎn)鏡像對(duì)稱設(shè)置。雖然本實(shí)施例是以兩個(gè)基板對(duì)位標(biāo)記1002、1004為例來(lái)說(shuō)明，但本發(fā)明不限制基板對(duì)位標(biāo)記的數(shù)目。換言之，在其他實(shí)施例中，基板100上也可以設(shè)置一個(gè)、三個(gè)或是四個(gè)基板對(duì)位標(biāo)記。遮罩102位于基板100的下方。根據(jù)本實(shí)施例，遮罩102的兩側(cè)邊是由遮罩支撐結(jié)構(gòu)104支撐，而遮罩102的尺寸略大于基板100的尺寸。在此，遮罩102上具有開(kāi)口圖案 (未繪示)，所述開(kāi)口圖案即是欲蒸鍍于基板100上的元件圖案。一般來(lái)說(shuō)，遮罩102的材質(zhì)可采用金屬或是其他可被磁力吸引的材料。特別是，遮罩具有多個(gè)側(cè)邊10 102d，且相鄰的側(cè)邊102a、102b之間具有轉(zhuǎn)角區(qū)域103a，且相鄰的側(cè)邊102c、102d之間具有轉(zhuǎn)角區(qū)域103b，如圖5所示。遮罩102的轉(zhuǎn)角區(qū)域103a中具有遮罩對(duì)位標(biāo)記1020，且遮罩102的轉(zhuǎn)角區(qū)域10 中具有遮罩對(duì)位標(biāo)記 1022。遮罩對(duì)位標(biāo)記1020具有第一部份1020a以及第二部分1020b，且遮罩對(duì)位標(biāo)記1022 具有第一部份1022a以及第二部分1022b。根據(jù)本實(shí)施例，遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份 1020a是平行側(cè)邊10 設(shè)置且第二部分1020b是平行側(cè)邊10 設(shè)置。因此，遮罩對(duì)位標(biāo)記 1020的第一部份1020a與第二部分1020b實(shí)質(zhì)上彼此垂直。類似地，遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份102 是平行側(cè)邊102c設(shè)置且第二部分1022b是平行側(cè)邊102d設(shè)置。因此，遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份102 與第二部分1022b實(shí)質(zhì)上彼此垂直。另外，遮罩對(duì)位標(biāo)記1020對(duì)應(yīng)基板對(duì)位標(biāo)記1002設(shè)置，且遮罩對(duì)位標(biāo)記1022對(duì)應(yīng)基板對(duì)位標(biāo)記1004設(shè)置。根據(jù)本實(shí)施例，基板對(duì)位標(biāo)記1002與遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a以及第二部份1020b之間的鄰接處1020c對(duì)準(zhǔn)?；鍖?duì)位標(biāo)記1004與遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份1022a以及第二部份1022b之間的鄰接處1022c對(duì)準(zhǔn)。另外，根據(jù)本實(shí)施例，遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份1020a以及第二部份1020b之間的鄰接處1020c 與遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份1022a以及第二部份1022b之間的鄰接處1022c是設(shè)置在遮罩102的對(duì)角線上。換言之，遮罩對(duì)位標(biāo)記1020與遮罩對(duì)位標(biāo)記1022以遮罩102的中心點(diǎn)鏡像對(duì)稱設(shè)置。類似地，雖然本實(shí)施例是以兩個(gè)遮罩對(duì)位標(biāo)記1022、1020為例來(lái)說(shuō)明，但本發(fā)明不限制遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的數(shù)目。換言之，在其他實(shí)施例中，遮罩102上也可以設(shè)置一個(gè)、 三個(gè)或是四個(gè)遮罩對(duì)位標(biāo)記。蒸鍍?cè)?20位于遮罩102的下方。蒸鍍?cè)?20可為金屬蒸鍍?cè)?、絕緣材料蒸鍍?cè)椿蚴瞧渌牧系恼翦冊(cè)?。設(shè)置于遮罩102下方蒸鍍?cè)?20的蒸鍍材料可通過(guò)遮罩102的開(kāi)口圖案而蒸鍍至基板100上，以使基板100具有特定的圖案。磁性板130位于基板100的上方。磁性板130主要是通過(guò)磁性板支撐結(jié)構(gòu)132而固定設(shè)置于基板100的上方。磁性板130主要是于蒸鍍過(guò)程之中對(duì)遮罩102進(jìn)行磁力吸引作用，以使得遮罩102可以緊密地貼附于基板100的表面上。對(duì)位檢測(cè)裝置140是對(duì)應(yīng)基板100的基板對(duì)位標(biāo)記1002、1004與遮罩102的遮罩對(duì)位標(biāo)記1020、1022設(shè)置。根據(jù)本實(shí)施例，對(duì)位檢測(cè)裝置140例如是影像擷取裝置，其例如是電荷耦合元件(CCD)影像擷取裝置。雖然本實(shí)施例在對(duì)應(yīng)基板100的基板對(duì)位標(biāo)記1002、 1004與遮罩102的遮罩對(duì)位標(biāo)記1020、1022各自設(shè)置了一個(gè)對(duì)位檢測(cè)裝置140(即使用了兩個(gè)對(duì)位檢測(cè)裝置140)，但本實(shí)施例不限制對(duì)位檢測(cè)裝置140的數(shù)目。換言之，在其他實(shí)施例中，也可以僅在對(duì)應(yīng)基板100的基板對(duì)位標(biāo)記1002(或1004)與遮罩102的遮罩對(duì)位標(biāo)記1020(或1022)設(shè)置對(duì)位檢測(cè)裝置140。特別是，對(duì)位檢測(cè)裝置140的檢測(cè)方向Dl或D2與基板100的表面之間具有銳角夾角θ，如圖4所示。根據(jù)本實(shí)施例，上述的銳角夾角θ >30度。另外，如圖4以及圖5所示，若遮罩102與基板100之間的距離為Η1，那么遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a的長(zhǎng)度Ll > Hl/(tan θ )，且遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第二部份1020b的長(zhǎng)度L2 > Hl/(tan θ )。 類似地，遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份1022a的長(zhǎng)度L3 > Hl/(tan θ )，且遮罩對(duì)位標(biāo)記 1022的第二部份1022b的長(zhǎng)度L4 > Hl/(tan θ )。在本實(shí)施例中，遮罩102與基板100之間的距離Hl例如為1 3mm。磁性板130與基板100之間的距離H2例如是大于15mm。根據(jù)本實(shí)施例，如圖4所示，遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a與遮罩102的邊緣之間的最短距離L為15 25mm，且遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第二部份1020b與遮罩102 的邊緣之間的最短距離(未標(biāo)示于圖式中)為15 25mm。類似地，遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份1022a與遮罩102的邊緣之間的最短距離(未標(biāo)示于圖式中)為15 25mm，且遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第二部份1022b與遮罩102的邊緣之間的最短距離(未標(biāo)示于圖式中)為15 25mm。在本實(shí)施例中，遮罩對(duì)位標(biāo)記1020(102 的第一部份1020a (1022a)及第二部分1020b (1022b)與遮罩102的邊緣之間至少保持有最短距離L，主要是為了確保后續(xù)使用對(duì)位檢測(cè)裝置進(jìn)行對(duì)位步驟時(shí)的準(zhǔn)確度。值得一提的是，在本實(shí)施例中，遮罩對(duì)位標(biāo)記1020(102 的第一部份 1020a(1022a)與第二部份1020b (1022b)分別為直線圖案，且第一部份1020a(1022a)與第二部份1020b (1022b)彼此垂直。但本發(fā)明不限制遮罩對(duì)位標(biāo)記的形狀。根據(jù)另一實(shí)施例， 如圖6所示，遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a與第二部份1020b分別為排列成直線狀的多個(gè)點(diǎn)狀圖案，且第一部份1020a的點(diǎn)狀圖案的排列方向與第二部份1020b的點(diǎn)狀圖案的排列方向彼此垂直。類似地，遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份102 與第二部份1022b分別為排列成直線狀的多個(gè)點(diǎn)狀圖案，且第一部份1022a的點(diǎn)狀圖案的排列方向與第二部份 1022b的點(diǎn)狀圖案的排列方向彼此垂直。根據(jù)又一實(shí)施例，遮罩對(duì)位標(biāo)記1022與遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的圖案不相同，例如遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份102 與1022b是直線圖案， 且遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a與1020b是多個(gè)點(diǎn)狀圖案排列而成。承上所述，當(dāng)欲采用上述的蒸鍍?cè)O(shè)備對(duì)基板100進(jìn)行蒸鍍步驟之前，會(huì)先以對(duì)位檢測(cè)裝置140對(duì)基板100以及遮罩102進(jìn)行對(duì)位程序，詳細(xì)說(shuō)明如下。
請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D1以及圖3，首先利用對(duì)位檢測(cè)裝置140對(duì)基板100與遮罩102進(jìn)行對(duì)位步驟。更詳細(xì)來(lái)說(shuō)，所述對(duì)位步驟是利用對(duì)位檢測(cè)裝置140偵測(cè)基板對(duì)位標(biāo)記1002與遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a之間的對(duì)位以及基板對(duì)位標(biāo)記1002與遮罩對(duì)位標(biāo)記 1020的第二部份1020b的對(duì)位。倘若對(duì)位檢測(cè)裝置140偵測(cè)到基板對(duì)位標(biāo)記1002與遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a之間有重迭，而且也偵測(cè)到基板對(duì)位標(biāo)記1002與遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第二部份1020b之間有重迭，表示基板100與遮罩102之間在X或Y方向上已經(jīng)有對(duì)準(zhǔn)了。為了確?；?00與遮罩102之間在X方向以及Y方向上都有對(duì)準(zhǔn)，本實(shí)施例更進(jìn)一步利用對(duì)位檢測(cè)裝置140偵測(cè)基板對(duì)位標(biāo)記1004與遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份 102 之間的對(duì)位以及基板對(duì)位標(biāo)記1004與遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第二部份1022b的對(duì)位。 倘若對(duì)位檢測(cè)裝置140偵測(cè)到基板對(duì)位標(biāo)記1004與遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第一部份102 之間有重迭，且也偵測(cè)到基板對(duì)位標(biāo)記1004與遮罩對(duì)位標(biāo)記1022的第二部份1022b之間有重迭，表示基板100與遮罩102之間在X方向以及Y方向上都有對(duì)準(zhǔn)。值得一提的是，在上述的對(duì)位步驟中，對(duì)位檢測(cè)裝置140偵測(cè)基板對(duì)位標(biāo)記1002 與遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a(第二部分1020b)之間的重迭不限定必須是基板對(duì)位標(biāo)記1002與遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a (第二部分1020b)的末端重迭。換言之，只要對(duì)位檢測(cè)裝置140能夠偵測(cè)基板對(duì)位標(biāo)記1002與遮罩對(duì)位標(biāo)記1020的第一部份1020a(第二部分1020b)的任一部分有重迭即表示基板對(duì)位標(biāo)記1002與遮罩對(duì)位標(biāo)記 1020的第一部份1020a (第二部分1020b)已達(dá)到對(duì)位標(biāo)準(zhǔn)。在完成上述之對(duì)位步驟之后，接著請(qǐng)參照?qǐng)D2，利用移動(dòng)裝置150將磁性板130往基板100靠近，直到磁性板130對(duì)于遮罩102能夠產(chǎn)生一定的磁力吸引力，所述磁力吸引力是足以使遮罩102與基板100貼合。之后，將遮罩102與基板100貼合，并利用磁性板130 的磁性作用以確保遮罩102與基板100貼合。在一實(shí)施例中，為了使遮罩102與基板100 緊密貼合，可進(jìn)一步采用壓著板110將基板100壓著于遮罩102上。在此，由于本實(shí)施例不需于磁性板130制作開(kāi)孔，因此磁性板130的磁力可以均勻地分布，以使遮罩102能夠均勻地受到磁性板130的磁力吸引。如此，便可確保遮罩102與基板100能夠均勻地貼合在一起。之后，利用蒸鍍?cè)?20進(jìn)行蒸鍍程序，以于基板100上形成圖案。根據(jù)本實(shí)施例， 利用蒸鍍?cè)?20進(jìn)行蒸鍍程序例如是使蒸鍍?cè)?20沿著方向120a以及方向120b來(lái)回掃描以進(jìn)行蒸鍍。由于上述的蒸鍍程序是在真空條件中進(jìn)行，換言之，蒸鍍?cè)O(shè)備內(nèi)的組件是位于真空環(huán)境中，因此蒸鍍?cè)O(shè)備內(nèi)的空間相當(dāng)有限，而無(wú)法將磁性板130移開(kāi)。因此，本實(shí)施例在磁性板130存在于蒸鍍?cè)O(shè)備內(nèi)的前提之下，采用特定的對(duì)位標(biāo)記的設(shè)計(jì)以及利用特殊的對(duì)位檢測(cè)裝置的量測(cè)方式，便可以達(dá)到對(duì)基板100以及遮罩102進(jìn)行對(duì)位的目的。而且，因本實(shí)施例不需要在磁性板130上制作開(kāi)孔，因此磁性板130的磁力可以均勻地分布，以使遮罩 102能夠均勻地受到磁性板130的磁力吸引。當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
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權(quán)利要求
1.一種蒸鍍?cè)O(shè)備，用于處理一基板，該基板具有一基板對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，該蒸鍍?cè)O(shè)備包括一遮罩，位于該基板的下方，該遮罩具有多個(gè)側(cè)邊，且任兩個(gè)相鄰的側(cè)邊之間具有一轉(zhuǎn)角區(qū)域，其中該遮罩的其中一轉(zhuǎn)角區(qū)域中具有一遮罩對(duì)位標(biāo)記，該遮罩對(duì)位標(biāo)記對(duì)應(yīng)該基板對(duì)位標(biāo)記設(shè)置，且該遮罩對(duì)位標(biāo)記具有一第一部份以及一第二部分； 一蒸鍍?cè)?，位于該遮罩的下?一磁性板，位于該基板的上方；以及至少一對(duì)位檢測(cè)裝置，其中該對(duì)位檢測(cè)裝置對(duì)應(yīng)該基板對(duì)位標(biāo)記與該遮罩對(duì)位標(biāo)記設(shè)置，且該對(duì)位檢測(cè)裝置的一檢測(cè)方向與該基板的一表面之間具有一銳角夾角θ，該對(duì)位檢測(cè)裝置藉由該基板對(duì)位標(biāo)記與該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第一部份之間的對(duì)位以及該基板對(duì)位標(biāo)記與該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第二部份的對(duì)位，以確定該基板與該遮罩彼此對(duì)準(zhǔn)。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，該基板對(duì)位標(biāo)記與該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第一部份以及該第二部份之間的一鄰接處對(duì)準(zhǔn)。
3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，θ>30度。
4.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，該遮罩與該基板之間的距離為Η1，該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第一部份的長(zhǎng)度Ll > Hl/(tan θ )，且該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第二部份的長(zhǎng)度 L2 > Hl/(tan θ )。
5.如權(quán)利要求4所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第一部份與該遮罩的邊緣之間的一最短距離為15 25mm，該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第二部份與該遮罩的邊緣之間的一最短距離為15 25mm。
6.如權(quán)利要求4所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，該遮罩與該基板之間的距離Hl為1 3mm ο
7.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第一部份與該第二部份分別為一直線圖案，且該第一部份與該第二部份彼此垂直。
8.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第一部份與該第二部份分別為排列成直線狀的多個(gè)點(diǎn)狀圖案，且該第一部份的該些點(diǎn)狀圖案的排列方向與該第二部份的該些點(diǎn)狀圖案的排列方向彼此垂直。
9.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于該遮罩對(duì)位標(biāo)記的數(shù)目為二，該二遮罩對(duì)位標(biāo)記分別位于該遮罩的一對(duì)角線的兩端；以及該基板對(duì)位標(biāo)記的數(shù)目為二。
10.如權(quán)利要求9所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，該對(duì)位檢測(cè)裝置的數(shù)目為二，該二對(duì)位檢測(cè)裝置分別對(duì)應(yīng)位于該遮罩的該對(duì)角線兩端的遮罩對(duì)位標(biāo)記設(shè)置。
11.如權(quán)利要求9所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，該二遮罩對(duì)位標(biāo)記以該遮罩的一中心點(diǎn)對(duì)稱設(shè)置。
12.—種蒸鍍方法，其特征在于，包括 提供一蒸鍍?cè)O(shè)備，其如權(quán)利要求1所述；利用該對(duì)位檢測(cè)裝置對(duì)該基板與該遮罩進(jìn)行一對(duì)位步驟，其中該對(duì)位步驟包括利用該對(duì)位檢測(cè)裝置以偵測(cè)該基板對(duì)位標(biāo)記與該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第一部份之間的對(duì)位以及該基板對(duì)位標(biāo)記與該遮罩對(duì)位標(biāo)記的該第二部份的對(duì)位；將該遮罩與該基板貼合，并利用該磁性板的磁性作用以確保該遮罩與該基板貼合； 利用該蒸鍍?cè)催M(jìn)行一蒸鍍程序，以于該基板上形成一圖案。
13.如權(quán)利要求12所述的蒸鍍方法，其特征在于，于進(jìn)行該對(duì)位步驟之后，更包括將該磁性板往該基板靠近，以使該磁性板之磁性作用可使該遮罩與該基板貼合。
14.如權(quán)利要求12所述的蒸鍍方法，其特征在于該遮罩對(duì)位標(biāo)記的數(shù)目為二，該二遮罩對(duì)位標(biāo)記分別位于該遮罩的一對(duì)角線的兩端； 該基板對(duì)位標(biāo)記的數(shù)目為二；該對(duì)位檢測(cè)裝置的數(shù)目為二，該二對(duì)位檢測(cè)裝置分別對(duì)應(yīng)位于該遮罩的該對(duì)角線兩端的遮罩對(duì)位標(biāo)記設(shè)置；以及該對(duì)位步驟包括分別使用所述兩個(gè)對(duì)位檢測(cè)裝置對(duì)該二遮罩對(duì)位標(biāo)記以及該二基板對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)位。
全文摘要
一種蒸鍍?cè)O(shè)備以及蒸鍍方法，用于處理基板，基板具有基板對(duì)位標(biāo)記，蒸鍍?cè)O(shè)備包括遮罩、蒸鍍?cè)础⒋判园逡约爸辽僖粚?duì)位檢測(cè)裝置。遮罩位于基板的下方，遮罩具有多個(gè)側(cè)邊，且任兩個(gè)相鄰的側(cè)邊之間具有轉(zhuǎn)角區(qū)域，遮罩的其中一轉(zhuǎn)角區(qū)域中具有遮罩對(duì)位標(biāo)記，且遮罩對(duì)位標(biāo)記對(duì)應(yīng)基板對(duì)位標(biāo)記設(shè)置，且該遮罩對(duì)位標(biāo)記具有第一部份以及第二部分。蒸鍍?cè)次挥谡谡值南路?。磁性板位于基板的上方。?duì)位檢測(cè)裝置對(duì)應(yīng)基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記設(shè)置，且對(duì)位檢測(cè)裝置的檢測(cè)方向與基板的表面之間具有銳角夾角θ，所述對(duì)位檢測(cè)裝置藉由基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記的第一部份之間的對(duì)位以及基板對(duì)位標(biāo)記與遮罩對(duì)位標(biāo)記的第二部份的對(duì)位，以確定基板與遮罩彼此對(duì)準(zhǔn)。
文檔編號(hào)C23C14/24GK102400103SQ201110396270
公開(kāi)日2012年4月4日 申請(qǐng)日期2011年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月31日
發(fā)明者蔡坤錦 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司