專利名稱：蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于有機(jī)蒸鍍工藝中的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
過(guò)去，用作顯示設(shè)備的主要是陰極射線管(CRT)設(shè)備，近幾年，諸如等離子顯示面板(PDP)設(shè)備、液晶顯示(LCD)設(shè)備和有機(jī)電致發(fā)光顯示(Organic Light EmittingDisplay,以下簡(jiǎn)稱0LED)設(shè)備的平板顯示設(shè)備得到了廣泛研究和使用。在這些平板顯示設(shè)備中，由于OLED設(shè)備與液晶顯示(IXD)設(shè)備不同，為自發(fā)光的且不需要額外光源，所以O(shè)LED設(shè)備具有厚度薄，重量輕，響應(yīng)速度快，視角廣、色彩飽和度高等優(yōu)點(diǎn)并引起了人們廣泛關(guān)注，越來(lái)越多的OLED被應(yīng)用于顯示和照明領(lǐng)域。OLED設(shè)備可以分為無(wú)源矩陣型OLED (PMOLED)和有源矩陣型OLED (AMOLED)，無(wú)論是那種方式，都需要使用蒸鍍掩膜板(shadow mask)。伴隨著超高分辨率的屏幕出現(xiàn)，蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)精度就要求更高，對(duì)位系統(tǒng)的精度直接影響到屏幕質(zhì)量，提高對(duì)位系統(tǒng)的速度可以縮短產(chǎn)品的出貨時(shí)間。現(xiàn)有的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)中，都有兩個(gè)圖形:基板上一個(gè)圖形，掩膜板上一個(gè)圖形。將二者完全中心吻合就證明對(duì)位完成，但是這樣會(huì)出現(xiàn)一個(gè)問(wèn)題，新的掩膜板到貨后需要進(jìn)行校驗(yàn)，這種對(duì)位方式必然導(dǎo)致檢驗(yàn)時(shí)需要蒸鍍好多片基板，進(jìn)行對(duì)位后蒸鍍，取出來(lái)校正，再更正坐標(biāo)，再蒸鍍，往復(fù)好多次，這樣既浪費(fèi)時(shí)間，又浪費(fèi)基板和有機(jī)材料。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于 提供一種對(duì)位方便的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)。為實(shí)現(xiàn)前述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:一種蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其包括設(shè)置在掩膜板的四個(gè)邊角上的第一對(duì)位標(biāo)識(shí)、設(shè)置在基板上的四個(gè)用以分別和第一對(duì)位標(biāo)識(shí)進(jìn)行相對(duì)位的第二對(duì)位標(biāo)識(shí)、以及設(shè)置在掩膜板正上方的用以判斷第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)是否對(duì)齊吻合的四個(gè)攝像頭，該攝像頭分別具有觀察到第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)的可視范圍。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述第一對(duì)位標(biāo)識(shí)上和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)具有與可視范圍相交的對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線與可視范圍相交形成至少兩個(gè)相交點(diǎn)。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，位于掩膜板對(duì)角線上的兩個(gè)可視范圍內(nèi)的對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線上標(biāo)有刻度。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，相鄰的兩根對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線相位于同一條直線上。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)完全相同。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)均為“十”字形。本發(fā)明通過(guò)在掩膜板的四個(gè)邊角上設(shè)置對(duì)位標(biāo)識(shí)，對(duì)應(yīng)的基板上也設(shè)置有四個(gè)對(duì)位標(biāo)識(shí)，只要讓掩膜板上的四個(gè)對(duì)位標(biāo)識(shí)和基板上四個(gè)的對(duì)位標(biāo)識(shí)完全吻合，就證明對(duì)位完成，如果出現(xiàn)偏差也可以直接進(jìn)行補(bǔ)償，不需要打開(kāi)腔室進(jìn)行測(cè)量重新定位，這樣可以節(jié)省大量的時(shí)間，并且可以節(jié)省基板和有機(jī)材料。


圖1為現(xiàn)有蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)中掩膜板及其對(duì)位標(biāo)識(shí)的示意圖。圖2為本發(fā)明蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)中掩膜板及其對(duì)位標(biāo)識(shí)的示意圖。圖3為本發(fā)明蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)中的掩膜板和基板發(fā)生角度偏差時(shí)的示意圖。圖4為本發(fā)明蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)中的掩膜板和基板發(fā)生位移偏差時(shí)的示意圖。
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參見(jiàn)圖1所示的一種現(xiàn)有的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)中的掩膜板，該掩膜板的對(duì)位系統(tǒng)為設(shè)置在掩膜板I的兩對(duì)角上的一對(duì)“十”字形對(duì)位標(biāo)識(shí)11，在使用新的蒸鍍掩膜板時(shí)，都要對(duì)該掩膜板和基板進(jìn)行初調(diào)，確定各坐標(biāo)的值，這個(gè)過(guò)程需要幾片到十幾片的薄膜晶體管(Thin FilmTransistor,以下簡(jiǎn)稱TFT)基板進(jìn)行對(duì)位,并且每次初調(diào)都必須蒸鍍有機(jī)材料到TFT基板，然后將基板取出放到顯微鏡下進(jìn)行測(cè)試，既浪費(fèi)時(shí)間也浪費(fèi)材料。本發(fā)明的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)可適用于有機(jī)電致發(fā)光器件(Organic LightEmitting Diode，以下簡(jiǎn)稱0LED)、有源矩陣有機(jī)發(fā)光顯示器(AMOLED)以及有機(jī)薄膜晶體管(OTFT)等有機(jī)蒸鍍時(shí)使用。蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)包括設(shè)置在掩膜板5的四個(gè)邊角上的四個(gè)“十”字形第一對(duì)位 標(biāo)識(shí)51，并且對(duì)應(yīng)四個(gè)第一對(duì)位標(biāo)識(shí)51上方均安放有四個(gè)CCD(charge-coupled device,電荷稱合器件)攝像頭進(jìn)行對(duì)位，圖2中的圓形區(qū)域即為CXD攝像頭的可視范圍52，所述第一對(duì)位標(biāo)識(shí)51沿平行于掩膜板5的四個(gè)邊緣延伸形成與可視范圍相交的對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線53，對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線與可視范圍相交形成至少兩個(gè)相交點(diǎn)。蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)包括設(shè)置在基板上的四個(gè)第二對(duì)位標(biāo)識(shí)61，只要讓掩膜板5上的四個(gè)第一對(duì)位標(biāo)識(shí)51和基板上的四個(gè)第二對(duì)位標(biāo)識(shí)61完全對(duì)齊吻合，就證明其對(duì)位完成，如果出現(xiàn)偏差也可以直接進(jìn)行補(bǔ)償，不需要打開(kāi)腔室進(jìn)行測(cè)量重新定位。位于掩膜板5和基板對(duì)角線上的兩個(gè)可視范圍52內(nèi)的對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線上標(biāo)有刻度，當(dāng)然，所有的對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線53上都可以標(biāo)有刻度。相鄰的兩根對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線相位于同一條直線上。所述第一對(duì)位標(biāo)識(shí)51和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)61完全相同，可以均為“十”字形。請(qǐng)參見(jiàn)圖3所示，所述CCD鏡頭顯示掩膜板5和基板偏差一定角度，此時(shí)，掩膜板5的第一對(duì)位標(biāo)識(shí)51與基板的第二對(duì)位標(biāo)識(shí)61之間形成一角度。請(qǐng)參見(jiàn)圖4所示，CXD鏡頭顯示掩膜板5和基板偏差一定位移時(shí)，此時(shí)，掩膜板5的對(duì)位標(biāo)識(shí)51與基板的對(duì)位標(biāo)識(shí)61之間形成一定間距。綜上所述，本發(fā)明通過(guò)在掩膜板5的四個(gè)邊角上設(shè)置第一對(duì)位標(biāo)識(shí)51，對(duì)應(yīng)的基板上也設(shè)置有四個(gè)第二對(duì)位標(biāo)識(shí)61，只要讓掩膜板5上的四個(gè)第一對(duì)位標(biāo)識(shí)51和基板上四個(gè)的第二對(duì)位標(biāo)識(shí)61完全吻合，就證明對(duì)位完成，如果出現(xiàn)偏差也可以直接進(jìn)行補(bǔ)償，不需要打開(kāi)腔室進(jìn)行測(cè)量重新定位，這樣可以節(jié)省大量的時(shí)間，并且可以節(jié)省基板和有機(jī)材料。
盡管為示例目的，已經(jīng)公開(kāi)了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將意識(shí)到，在不脫離由所附的權(quán)利要求書(shū)公開(kāi)的本發(fā)明的范圍和精神的情況下，各種改進(jìn)、增加以及取代是可 能的。
權(quán)利要求
1.一種蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于:其包括設(shè)置在掩膜板的四個(gè)邊角上的第一對(duì)位標(biāo)識(shí)、設(shè)置在基板上的四個(gè)用以分別和第一對(duì)位標(biāo)識(shí)進(jìn)行相對(duì)位的第二對(duì)位標(biāo)識(shí)、以及設(shè)置在掩膜板正上方的用以判斷第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)是否對(duì)齊吻合的四個(gè)攝像頭，該攝像頭分別具有觀察到第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)的可視范圍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于:所述第一對(duì)位標(biāo)識(shí)上和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)具有與可視范圍相交的對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于:所述對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線與可視范圍相交形成至少兩個(gè)相交點(diǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于:位于掩膜板對(duì)角線上的兩個(gè)可視范圍內(nèi)的對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線上標(biāo)有刻度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于:相鄰的兩根對(duì)位標(biāo)識(shí)延長(zhǎng)線相位于同一條直線上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于:所述第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)完全相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求 1所述的蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于:所述第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)均為“十”字形。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種蒸鍍掩膜板對(duì)位系統(tǒng)，其包括設(shè)置在掩膜板的四個(gè)邊角上的第一對(duì)位標(biāo)識(shí)、設(shè)置在基板上的四個(gè)用以分別和第一對(duì)位標(biāo)識(shí)進(jìn)行相對(duì)位的第二對(duì)位標(biāo)識(shí)、以及設(shè)置在掩膜板正上方的用以判斷第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)是否對(duì)齊吻合的四個(gè)攝像頭，該攝像頭分別具有觀察到第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)的可視范圍，如此可以節(jié)省對(duì)位時(shí)間，并且可以節(jié)省基板和有機(jī)材料。
文檔編號(hào)C23C14/04GK103160775SQ201110417068
公開(kāi)日2013年6月19日 申請(qǐng)日期2011年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月14日
發(fā)明者敖偉, 邱勇, 陳紅, 黃秀頎, 何麟 申請(qǐng)人:昆山工研院新型平板顯示技術(shù)中心有限公司