專利名稱：一種制作掩膜板的方法和掩膜板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機電致發(fā)光顯示技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說是涉及一種制作掩膜板的方法和掩膜板。
背景技術(shù)：
應(yīng)用有機電致發(fā)光二極管(OLED，Organic Light-Emitting Diode)的顯示器也被稱為OLED顯示器或者是有機電致發(fā)光顯示器，它是一種新型的平板顯示器，因其具有主動發(fā)光、對比度高以及響應(yīng)速度快等優(yōu)點，而得到廣泛應(yīng)用。如在一些手機中設(shè)置有機電致發(fā)光顯示屏。在制作OLED顯示器的過程中需要將有機材料蒸鍍到玻璃基板表面，而蒸鍍有機材料的過程中需要采用蒸鍍掩膜板，以在玻璃基板上得到所需的圖案。目前采用的蒸鍍掩膜板一般為金屬掩膜板，該種掩膜板是由一種導磁性薄不銹鋼片和導磁不銹鋼外框構(gòu)成。 在該導磁性薄不銹鋼片上開設(shè)有不同形狀的小孔，如矩形、圓形或其他不規(guī)則的孔洞。在進行有機材料蒸鍍時，將該掩膜板與玻璃基板吸附在一起，并在真空環(huán)境下，將有機材料或金屬蒸汽逐漸沉積在玻璃基板上未被掩膜板遮擋的區(qū)域上，從而形成所需的特定圖案。由于制作OLED的過程中對蒸鍍到玻璃基板上的圖案精度要求較高，因此，對掩膜板的加工精度的要求也必然較高。為了保證蒸鍍到玻璃基板上的圖案的精度，制作這種蒸鍍用的金屬掩膜板的過程中，需要將薄鋼片拉伸很強的張力，并且需要保證金屬焊接的精度，因此，制作這種蒸鍍用的金屬掩膜板的制作工藝十分復雜，且很難滿足精度要求。同時， 這種金屬掩膜板很容易在空氣被腐蝕、從而生銹或產(chǎn)生毛刺，進而影響到生產(chǎn)的OLED產(chǎn)品質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種制作掩膜板的方法和掩膜板，該方法可以降低制作蒸鍍用掩膜板的復雜度，同時，利用該方法制作的掩膜板不會由于被空氣腐蝕而影響其使用
壽命ο為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如了一種制作掩膜板的方法，包括提供一指定厚度的玻璃基板；依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在所述玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標；將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與所述玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中，得到蒸鍍用掩膜板。優(yōu)選的，所述依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在所述玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標，包括在所述玻璃基板的兩個表面貼上膠帶，將所述玻璃基板進行密封；依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，利用激光分別在所述玻璃基板兩表面的膠帶上刻出孔洞和對位標圖形，并將附著在所述孔洞和對位標位置上的膠帶去除；
將所述孔洞和對位標位置上未附著膠帶的玻璃基板置于酸性溶液中進行刻蝕，去除未被膠帶附著的玻璃材料，在玻璃基板制作出孔洞和對位標。優(yōu)選的，在將所述制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到所述掩膜金屬框架中之前,還包括將制作出孔洞和對位標的玻璃基板兩表面上附著的膠帶清除。優(yōu)選的，所述依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在所述玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標，包括在所述玻璃基板的兩個表面均涂布光刻膠；利用具有孔洞和對位標圖形的掩膜板對所述玻璃基板上兩表面的光刻膠進行曝光，并對曝光后的光刻膠進行顯影，在所述玻璃基板兩表面的光刻膠上制備出孔洞和對位標圖形；以玻璃基板兩表面上具有孔洞和對位標圖形的光刻膠為掩膜，采用濕法腐蝕工藝，去除所述玻璃基板上未被光刻膠覆蓋的玻璃材料，在玻璃基板上制作出孔洞和對位標。優(yōu)選的，在將所述制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到所述掩膜金屬框架中之前,還包括將制作出孔洞和對位標的玻璃基板兩表面上附著的光刻膠清除。優(yōu)選的，所述依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在所述玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標，包括依據(jù)預先輸入到激光雕刻機中的指定掩膜圖形，利用該激光雕刻機在所述玻璃基板指定位置上雕刻出蒸鍍所需的孔洞和對位標。優(yōu)選的，當將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與所述玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中之前，還包括依據(jù)所述掩模板金屬框架的形狀，對所述玻璃基板的四周邊緣進行切割，以得到指定形狀的玻璃基板。優(yōu)選的，所述玻璃基板的厚度為0. 2mm 1. 1mm。另一方面，本發(fā)明提供了采用以上所述的制作掩膜板的方法制作的掩模板，該掩膜板包括掩膜金屬框架，以及嵌設(shè)在所述掩膜金屬框架內(nèi)的玻璃基板；所述玻璃基板上開設(shè)有蒸鍍用掩膜圖形，該掩膜圖形包括孔洞和對位標。優(yōu)選的，該玻璃基板的厚度為0. 2mm 1. 1mm。經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明公開提供了一種制作掩膜板的方法和掩膜板，該方法采用在玻璃基板上制作指定的蒸鍍所需的孔洞和對位標，并將該帶有孔洞和對位標的玻璃基板設(shè)置于指定的掩膜金屬框架當中，得到蒸鍍用掩膜板。該方法無需復雜的金屬焊接工藝，就可以制作出該蒸鍍用掩膜板，且由于該掩膜板由玻璃基板制作而成，當該掩膜板置于空氣中時不會被腐蝕，維護簡單。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。圖1為本發(fā)明一種制作掩膜板的方法一個實施例的流程示意圖；圖2為利用本發(fā)明制作的掩膜板蒸鍍有機材料的示意圖；圖3為本發(fā)明一種制作掩膜板的方法另一個實施例的流程示意圖；圖4為本發(fā)明一種制作掩膜板的方法另一個實施例的流程示意圖；圖5為本發(fā)明一種制作掩膜板的方法另一個實施例的流程示意圖；圖6為本發(fā)明的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。參見圖1，示出了本發(fā)明一種制作掩膜板的方法的一個實施例的流程示意圖，包括步驟101 提供一指定厚度的玻璃基板。在進行有機電致顯示器(0LED顯示器)的過程中需要將有機發(fā)光材料和電極蒸鍍到制作OLED顯示器的玻璃基板上，在蒸鍍的過程中需要用到蒸鍍掩膜?，F(xiàn)有的蒸鍍掩膜均為金屬材料制成，需要保證金屬材料的張力，而且在制作金屬掩模板的過程中需要利用復雜的焊接等工藝，同時金屬掩模板在空氣中也易于生銹或被腐蝕等，因此，現(xiàn)有的蒸鍍用掩膜板存在制作工藝復雜，以及維護繁瑣的問題。與現(xiàn)有的不同，本發(fā)明制作蒸鍍掩膜板時采用玻璃基板制作。選取玻璃基板時可以根據(jù)需要選擇某指定形狀的玻璃基板，該玻璃基板為超薄玻璃，厚度一般在0. 2mm 1. Imm之間，當然也可以根據(jù)適當調(diào)整該玻璃基板的厚薄。為了能夠保證制作出的蒸鍍的玻璃掩膜板的精度較高，在選好玻璃基板之后還需要對該玻璃基板進行清潔。步驟102 依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在該玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標。蒸鍍用掩膜板上會根據(jù)需要設(shè)計圖形，圖形中包含孔洞，孔洞可以是矩形孔洞、圓形孔洞，也可以是其他形狀的孔洞。孔洞可以有大小之分，具體的可以根據(jù)需要設(shè)定。為了在蒸鍍過程中能夠?qū)⒀谀ぐ搴椭谱鱋LED顯示器的玻璃基板進行對準，在該蒸鍍用的玻璃基板上還需要刻出對位標。對位標就是輔助蒸鍍用掩膜板與制作OLED顯示器的玻璃基板進行對位的標識，如對位標可以設(shè)計成十字，當然也可以為其他形狀。步驟103 將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與該玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中，得到蒸鍍用掩膜板。當在玻璃基板上制作出孔洞和對位標后，需要將該玻璃基板粘貼或者是內(nèi)嵌至掩膜金屬框架中，從而完成該掩膜板的制作。該掩膜金屬框架為固定該玻璃掩膜板的金屬框架，該金屬框架可以為導磁不銹鋼制成。在真空下，將制作OLED顯示器的玻璃基板與本發(fā)明中帶有金屬框架的玻璃掩膜板通過對位標進行位置對準之后，通過磁鐵吸附到一起，并該玻璃掩膜板位于該制作OLED 顯示器的玻璃基板的下方。同時，將該制作OLED的玻璃基板和玻璃掩膜板懸于有機蒸鍍材料的上方，進行蒸鍍。如圖2，為蒸鍍過程示意圖，其中，該玻璃掩膜板2與該制作OLED顯示器的玻璃基板1吸附在一起，并將二者懸于該有機蒸發(fā)源3的上方，這樣有機材料可以逐漸蒸發(fā)到該玻璃基板1未被掩膜板覆蓋的地方，完成蒸鍍過程。由于本發(fā)明采用玻璃基板來制作蒸鍍用掩膜板，避免了一些復雜的金屬焊接工藝，同時，該種玻璃基板置于空氣中也不會被腐蝕，維護過程簡單。在提供的玻璃基板上制作出指定形狀的孔洞和對位標的方法有多種，如可以采用濕法刻蝕工藝或者是直接利用激光在該玻璃基板上刻出指定的圖形。參見圖3，示出了本發(fā)明一種制作掩膜板的方法另一個實施例的流程示意圖，該方法包括步驟301 提供一指定厚度的玻璃基板。步驟302 在該玻璃基板的兩個表面貼上膠帶，將該玻璃基板進行密封。在該玻璃基板的兩面都貼上膠帶，該膠帶為由具有一定抗腐蝕性能材料制成的膠帶。在該玻璃基板兩面貼膠帶的同時，還需要將玻璃基板四周進行密封，以防止后續(xù)操作過程中對該玻璃基板四周的玻璃材料造成腐蝕，或者是由于密封不嚴，而對該玻璃基板的兩個表面的玻璃材料造成腐蝕。步驟303 依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，利用激光分別在該玻璃基板兩表面的膠帶上刻出孔洞和對位標圖形，并將附著在孔洞和對位標位置上的膠帶去除。為了能夠在玻璃基板上制作出符合要求的掩膜圖形，需要利用激光在玻璃基板的上下表面的膠帶上均雕刻出設(shè)定的孔洞和對位標，并將覆蓋在該孔洞位置和對位標位置的膠帶去除，從而該玻璃基板兩表面剩余的膠帶可以作為在該玻璃基板制作孔洞和對位標的掩膜。利用激光在附著在玻璃基板兩個表面的膠帶上刻出孔洞和對位標的具體過程可以為預先在該激光雕刻機中輸入設(shè)定的掩膜圖形，該設(shè)定的掩膜圖形中包含孔洞的位置以及大小，以及對位標的圖形和位置等信息。激光雕刻機依據(jù)輸入的掩膜圖形，在該玻璃基板兩表面指定位置的膠帶上刻出與該掩膜圖形相同的圖形，從而在膠帶上標示并雕刻出孔洞和對位標的形狀以及位置。在該步驟中，當該玻璃基板上附著在該孔洞和對位標位置的膠帶去除后，還可以對該玻璃基板上去除膠帶的部分進行清洗，以便后續(xù)刻蝕的速度以及刻蝕精準度。步驟304 將孔洞和對位標位置上未附著膠帶的玻璃基板置于酸性溶液中進行刻蝕，去除未被膠帶附著的玻璃材料，在玻璃基板制作出孔洞和對位標。、為了最終該玻璃基板制作出孔洞和對位標，可以將步驟304中覆蓋有部分膠帶的玻璃基板置于酸性溶液當中，以便對該玻璃基板上未被膠帶覆蓋的部分玻璃材料進行腐蝕，從而在該玻璃基板上制作出孔洞和對位標。換言之，以覆蓋在該玻璃基板上的剩余膠帶為掩膜，采用濕法刻蝕工藝，從而除去未被膠帶覆蓋的玻璃，得到形成有孔洞和對位標的玻璃基板。為了能夠腐蝕玻璃基板未被膠帶覆蓋的區(qū)域，該酸性溶液可以為含有氟離子的酸性溶液。在酸性溶液中刻蝕的時間可以根據(jù)實際需要進行設(shè)定，一般情況下，在酸性溶液中刻蝕的時間為1小時至4小時。需要說明的是，本實施例僅以將該玻璃基板置于酸性溶液中進行刻蝕為例進行描述，在實際應(yīng)用中，也可以采用對該玻璃基板進行噴淋刻蝕的方法，在制作孔洞和對位標。步驟305 將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與該玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中，得到蒸鍍用掩膜板。將制作出的帶有孔洞和對位標的玻璃基板設(shè)置于掩膜金屬框中，從而形成了蒸鍍用掩膜板。該步驟305與上一實施例的步驟103的操作過程相似，在此不再贅述。由于刻蝕后的玻璃基板上還附著有一部分膠帶，因此，在步驟305之前還可以包括將制作出孔洞和對位標的玻璃基板兩表面上附著的膠帶清除。也就是說，將已經(jīng)刻蝕后的玻璃基板上附著的所有膠帶清潔干凈后，就可以將該帶有孔洞和對位標的玻璃基板與掩膜金屬框架組合在一起，得到蒸鍍用掩模板。具體的可以先撕去玻璃基板表面以及四周的膠帶，之后可以用 6%的堿液除去玻璃表面的膠帶粘貼過的痕跡。參見圖4，示出了本發(fā)明一種制作掩膜板的方法的另一個實施例的流程示意圖，該方法包括步驟401 提供一指定厚度的玻璃基板。步驟402 在該玻璃基板的兩個表面均涂布光刻膠。本實施例與第二個實施例的不同之處在于，本實施例在玻璃基板的兩個表面上均涂布光刻膠。在該玻璃基板的四周涂布光刻膠的同時，該玻璃基板的四周也會被光刻膠涂布，從而避免后續(xù)刻蝕過程中，該玻璃基板的四周被腐蝕。當然，也可以在該玻璃基板的四周涂一層環(huán)氧樹脂來進行密封保護。步驟403 利用具有孔洞和對位標圖形的掩膜板對該玻璃基板上兩表面的光刻膠進行曝光，并對曝光后的光刻膠進行顯影，在該玻璃基板兩表面的光刻膠上制備出孔洞和對位標圖形。當玻璃基板上涂布光刻膠之后，就可以對該玻璃基板兩表面的光刻膠進行曝光、 顯影操作，從而在該玻璃基板兩表面的光刻膠上形成孔洞和對位標圖形。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可知，在曝光之前都需要在光刻膠上覆蓋一層掩模板，此處所說的掩膜板是為了在光刻膠上得到孔洞和對位標而進行曝光用的掩膜板。該曝光所用的掩膜板可以為現(xiàn)有的蒸鍍所用的金屬掩膜板，當然也可以為其他特定的掩膜板，只要是具有指定的孔洞和對位標即可。步驟404:以玻璃基板兩表面上具有孔洞和對位標圖形的光刻膠為掩膜，采用濕法腐蝕工藝，去除所述玻璃基板上未被光刻膠覆蓋的玻璃材料，在玻璃基板上制作出孔洞和對位標。當玻璃基板兩個表面的光刻膠上形成所需的孔洞和對位標后，就可以以帶有孔洞和對位標的光刻膠作為該玻璃基板的掩膜，進而采用濕法腐蝕工藝，將該玻璃基板上未被光刻膠覆蓋的玻璃刻穿，或得到所需的圖形。此處采用濕法腐蝕工藝，在玻璃基板上制作出孔洞和對位標具體過程可以將該覆蓋有掩膜圖形光刻膠的玻璃基板置于酸性溶液當中，從而對該玻璃基板未被光刻膠覆蓋處的玻璃進行刻蝕，直至刻穿該未被光刻膠覆蓋處的玻璃，形成整齊的邊界，在該玻璃基板上得到所需的圖形。將該光刻膠置于酸性溶液中的時間可以根據(jù)實際需要設(shè)定，一般刻蝕的時間為1至4小時。
當然，也可以采用噴淋刻蝕的方式，即向該玻璃基板的兩表面上不斷噴淋酸性溶液，直至在該玻璃基板上形成所需的孔洞和對位標。其中，對該玻璃基板進行刻蝕的酸性溶液可以為含氟離子的酸性溶液，從而較好的除去未被光刻膠覆蓋處的玻璃。步驟405 將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與該玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中，得到蒸鍍用掩膜板。該步驟與以上實施例中的相應(yīng)步驟的操作相似，在此不再贅述。與上一實施例相似，本實施例中步驟404之后，當在玻璃基板上刻蝕出指定的孔洞和對位標之后，停止對該玻璃基板進行刻蝕，之后需要清除附著在該玻璃基板上剩余的光刻膠。具體的可以為先將該玻璃基板上的光刻膠撕除，之后用 6%的堿液除去殘留在該玻璃基板上的光刻膠痕跡。參見圖5，示出了本發(fā)明一種制作掩膜板的方法的另一實施例的流程示意圖，該方法包括步驟501 提供一指定厚度的玻璃基板。步驟502 依據(jù)預先輸入到激光雕刻機中的指定掩膜圖形，利用該激光雕刻機在所述玻璃基板指定位置上雕刻出蒸鍍所需的孔洞和對位標。在本實施例中在該玻璃基板上制作孔洞和對位標時，可以直接利用激雕刻機在該玻璃基板上進行雕刻。當然，在該激光雕刻機中已經(jīng)預先輸入了指定的掩膜圖形，因此該激光雕刻機可以根據(jù)該掩膜圖形，確定在玻璃基板的哪些具體位置進行孔洞和對位標的雕刻，從而無需刻蝕等操作，即可直接在該玻璃基板上制作出孔洞和對位標。步驟503 將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與該玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中，得到蒸鍍用掩膜板。本發(fā)明各個實施例中制作掩膜板的方法可以用于制作OLED蒸鍍用掩膜板，優(yōu)選的，該制作掩膜板的方法可以用于制作針對OLED單色顯示面板的掩膜板，即本領(lǐng)域技術(shù)人員所說的Open Mask。需要說明的是，以上任一實施例中當將玻璃基板放入到指定的掩膜金屬框架之前，都需要檢查該制作出該孔洞和對位標的玻璃基板是否為滿足指定的形狀。也就是說， 當最初提供的玻璃基板并不是指定的形狀時，需要對該玻璃基板的四周邊緣進行切割，直至得到指定的形狀，之后將該帶有孔洞和對位標的玻璃基板粘貼或嵌入到該掩膜金屬框架中。如，當提供的玻璃基板為矩形，而需要制作出的掩膜板形狀為正方形時，則在將該帶有孔洞的玻璃基板的四周進行切割，當然，切割前可以現(xiàn)在該玻璃基板上刻畫出切割線，進而沿著該切割線將該玻璃基板四周多余的玻璃材料切割掉。優(yōu)選的，可以依據(jù)掩模板金屬框架的形狀，對該玻璃基板的四周邊緣進行切割，以得到指定形狀的玻璃基板。之后將該玻璃基板粘貼或嵌入到該掩膜金屬框架中。對應(yīng)本發(fā)明的制作掩膜板的方法，參見圖6，本發(fā)明還提供了一種掩膜板，該掩膜板為采用以上制作掩膜板的方法制作出的掩膜板，該掩膜板適用于在制作OLED顯示器的過程中，在制作OLED的玻璃基板上進行有機材料的蒸鍍用。該掩膜板包括掩膜金屬框架 1，以及嵌設(shè)在所述掩膜金屬框架內(nèi)的玻璃基板2。該玻璃基板與該掩膜金屬框架的連接方式，可以是直接嵌入到該掩膜金屬框架中，由該掩膜金屬框架固定該玻璃基板，也可以是在嵌入到該掩膜金屬框架的同時，將該玻璃基板粘貼到該掩膜金屬框架當中。該玻璃基板上開設(shè)有蒸鍍用掩膜圖形，該掩膜圖形包括孔洞3和對位標(圖中未畫出)。該玻璃基板的掩膜圖形中孔洞和對位標的具體位置以及形狀可以根據(jù)實際需要進行設(shè)定，孔洞的形狀并不局限于圖6中所示的形狀。其中，該玻璃基板的厚度可以根據(jù)實際需要進行設(shè)定。優(yōu)選的，該玻璃基板的厚度為 0. 2mm 1. Imm0本說明書中各個實施例采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。對所公開的實施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。 對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求
1.一種制作掩膜板的方法，其特征在于，包括提供一指定厚度的玻璃基板；依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在所述玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標；將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與所述玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中， 得到蒸鍍用掩膜板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在所述玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標，包括在所述玻璃基板的兩個表面貼上膠帶，將所述玻璃基板進行密封；依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，利用激光分別在所述玻璃基板兩表面的膠帶上刻出孔洞和對位標圖形，并將附著在所述孔洞和對位標位置上的膠帶去除；將所述孔洞和對位標位置上未附著膠帶的玻璃基板置于酸性溶液中進行刻蝕，去除未被膠帶附著的玻璃材料，在玻璃基板制作出孔洞和對位標。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在將所述制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到所述掩膜金屬框架中之前，還包括將制作出孔洞和對位標的玻璃基板兩表面上附著的膠帶清除。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在所述玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標，包括在所述玻璃基板的兩個表面均涂布光刻膠；利用具有孔洞和對位標圖形的掩膜板對所述玻璃基板上兩表面的光刻膠進行曝光， 并對曝光后的光刻膠進行顯影，在所述玻璃基板兩表面的光刻膠上制備出孔洞和對位標圖形；以玻璃基板兩表面上具有孔洞和對位標圖形的光刻膠為掩膜，采用濕法腐蝕工藝，去除所述玻璃基板上未被光刻膠覆蓋的玻璃材料，在玻璃基板上制作出孔洞和對位標。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，在將所述制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到所述掩膜金屬框架中之前，還包括將制作出孔洞和對位標的玻璃基板兩表面上附著的光刻膠清除。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在所述玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標，包括依據(jù)預先輸入到激光雕刻機中的指定掩膜圖形，利用該激光雕刻機在所述玻璃基板指定位置上雕刻出蒸鍍所需的孔洞和對位標。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項所述的方法，其特征在于，當將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與所述玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中之前，還包括依據(jù)所述掩模板金屬框架的形狀，對所述玻璃基板的四周邊緣進行切割，以得到指定形狀的玻璃基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃基板的厚度為0.2mm 1. Imm0
9.一種采用權(quán)利要求1制作掩膜板的方法制作的掩模板，其特征在于，該掩膜板包括 掩膜金屬框架，以及嵌設(shè)在所述掩膜金屬框架內(nèi)的玻璃基板；所述玻璃基板上開設(shè)有蒸鍍用掩膜圖形，該掩膜圖形包括孔洞和對位標。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩膜板，其特征在于，該玻璃基板的厚度為0.2mm 1. 1mm。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種制作掩膜板的方法和掩膜板，該方法包括提供一指定厚度的玻璃基板；依據(jù)設(shè)定的掩膜圖案，在該玻璃基板上制作出蒸鍍所需的孔洞和對位標；將制作出孔洞和對位標的玻璃基板粘貼到與該玻璃基板相匹配的掩膜金屬框架中，得到蒸鍍用掩膜板。利用該方法制作掩膜板無需采用復雜的焊接工藝，制作工藝簡單，且該方法制作的掩膜板在空氣中不會被腐蝕，比較容易維護。
文檔編號C23C14/24GK102492920SQ20111043424
公開日2012年6月13日 申請日期2011年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月21日
發(fā)明者何基強, 張雪峰, 李建華, 柯賢軍, 蘇君海 申請人:信利半導體有限公司