專利名稱：一種矩形平面磁控濺射陰極的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及到一種濺射真空鍍膜裝置，尤其涉及到一種平面濺射鍍膜陰極裝置。
背景技術(shù)：
濺射陰極作為真空鍍膜設(shè)備的核心部件，目前廣泛應用的矩形平面濺射陰極，其在陰極周圍設(shè)有屏蔽罩，屏蔽罩下端設(shè)有陽極框，其中，陽極框、屏蔽罩，與電源正極和地線相連，并與陰極體保持一定距離，零電位的屏蔽罩截獲非靶材零件發(fā)射的電子，避免氬氣電離產(chǎn)生輝光放電，防止靶座等零部件濺射，有效保證鍍膜質(zhì)量。但根據(jù)“巴邢定律”，在一定壓強下，PXD值小于巴邢曲線的谷底時，不會產(chǎn)生輝光放電，在適合濺射的工藝壓強下，這個D值約等于1. 5-2mm，而在大面積真空鍍膜設(shè)備中，靶材長度大都在2500mm以上，在實際加工和裝配中要想保證這個尺寸是很困難的，所以很多大型的平面磁控濺射陰極的屏蔽罩和陰極體之間，都有放電的現(xiàn)象，陽極框也常常被濺射，這就嚴重影響了鍍膜質(zhì)量。盡管有人針對這種情況提出了在外框內(nèi)側(cè)或外側(cè)加裝導磁板，但帶有陽極框的濺射裝置，經(jīng)長時間使用，其陽極處濺射產(chǎn)生的微粒沉積到一定程度會出現(xiàn)局部放電，最終濺射陰極裝置發(fā)生短路，而無法正常工作，另外，其還存在如下缺點1、陽極框在長期持續(xù)濺射的高溫環(huán)境下，發(fā)生嚴重變形；2、陽極框需要經(jīng)常拆卸清除污垢，減短平面濺射陰極使用壽命，影響生產(chǎn)，增加成本。

實用新型內(nèi)容針對上述設(shè)有陽極框的濺射陰極的缺點，本實用新型設(shè)計出一種新型的矩形平面磁控濺射陰極。為了達到上述的目的，本實用新型采用的技術(shù)方案是提供一種矩形平面磁控濺射陰極，包括陰極組件、設(shè)置陰極組件上端的支承座、支撐座上端的陰極蓋板，其中，所述支承座分為支撐座底板，支撐座中板，支撐座頂板，所述支撐座中板為絕緣體。根據(jù)上述的濺射陰極，其中，在支撐座中板兩側(cè)還設(shè)置有支撐座防護罩。根據(jù)上述的濺射陰極，其中，在陰極組件的外圍還設(shè)有屏蔽罩，所述屏蔽罩通過螺栓與支撐座底板相連。根據(jù)上述的濺射陰極，其中，所述支撐座頂板與陰極蓋板通過螺栓相連。根據(jù)上述的濺射陰極，其中，所述支撐座中板通過螺栓與支撐座底板、支撐座頂板相連，所述螺栓為T型槽專用螺栓。根據(jù)上述的濺射陰極，其中，所述支撐座中板的材質(zhì)為聚甲醛或聚四氟乙烯塑料。根據(jù)上述的濺射陰極，其中，所述防護罩的材質(zhì)為聚四氟乙烯或PEEK塑料。本實用新型的技術(shù)效果一是取消了陽極框，簡化了結(jié)構(gòu)，降低成本，減小加工、裝配、維修和維護的難度。二是取消屏蔽罩接地，防止了屏蔽罩與陰極體放電，有效解決防護罩與陰極導通時的短路，造成靶材不能濺射，停止生產(chǎn)的缺點，從而增長了大型矩形平面濺射陰極的使用周期，減少了其維護次數(shù)，節(jié)約成本。三是結(jié)構(gòu)簡單，便于裝配和拆卸。
以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本發(fā)明作進一步說明。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)剖面示意圖；1-屏蔽罩，2-陰極組件，3-支承座下底板，4-支承座中板，5-支承座防護罩、6_支承座頂板，7-陰極蓋板。
具體實施方式
本發(fā)明保護的是一種矩形平面磁控濺射陰極，只要是本領(lǐng)域技術(shù)人員了解本發(fā)明實施例，不經(jīng)過創(chuàng)造性的勞動，僅是同等技術(shù)的替換，都屬于本發(fā)明的保護范圍。如圖1所示，屏蔽罩1設(shè)置在陰極組件2的外圍，支撐座底板3用螺栓與陰極組件 2外圍的屏蔽罩1相連。支承座中板4通過T型槽專用螺栓分別與支承座下底板3和上頂板6連接，同時上頂板6與陰極蓋板7采用螺栓連接。支承座中板4的材質(zhì)采用聚甲醛或聚四氟乙烯，從而使得支撐座下底板3和支撐座上頂板6相互絕緣，以此保證陰極組件2和陰極蓋板7相互絕緣。為防止中板4表面在長期的濺射環(huán)境中被鍍上導電膜，導致絕緣失效，所以在支撐座中板4外圍設(shè)置有支承座防護罩5，所述支承座防護罩5下端通過螺栓固定在支撐座底板上，支承座防護罩5的材質(zhì)宜采用聚四氟乙烯或PEEK，支承座防護罩5與支承座中板4、支承座底板3組成半封閉的空腔，這種結(jié)構(gòu)大大提高了絕緣的可靠性，使支承座防護罩5成為免維護部件，并且對支撐座中板4提供有效保護。
權(quán)利要求1.一種矩形平面磁控濺射陰極，包括陰極組件、設(shè)置陰極組件上端的支承座、支撐座上端的陰極蓋板，其特征在于，所述支承座分為支撐座底板，支撐座中板，支撐座頂板，所述支撐座中板為絕緣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，在支撐座中板兩側(cè)還設(shè)置有支撐座防護罩。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，在陰極組件的外圍還設(shè)有屏蔽罩，所述屏蔽罩通過螺栓與支撐座底板相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，所述支撐座頂板與陰極蓋板通過螺栓相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，所述支撐座中板通過螺栓與支撐座底板、支撐座頂板相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濺射陰極，其特征在于，所述螺栓為T型槽專用螺栓。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，所述支撐座中板的材質(zhì)為聚甲醛或聚四氟乙烯塑料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，所述防護罩的材質(zhì)為聚四氟乙烯或 PEEK塑料。
專利摘要本實用新型涉及到一種濺射真空鍍膜裝置，尤其涉及到一種平面濺射鍍膜陰極裝置。其采用的技術(shù)方案是提供一種矩形平面磁控濺射陰極，包括陰極組件、設(shè)置陰極組件上端的支承座、支撐座上端的陰極蓋板，其中，所述支承座分為支撐座底板，支撐座中板，支撐座頂板，所述支撐座中板為絕緣體。結(jié)構(gòu)簡單，便于裝配和拆卸，同時還減少了維修和維護的成本。
文檔編號C23C14/35GK201981253SQ20112002357
公開日2011年9月21日 申請日期2011年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月25日
發(fā)明者蘇宜龍, 趙子東 申請人:上海子創(chuàng)鍍膜技術(shù)有限公司