專利名稱：刻面寶石復(fù)合拋光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種對刻面寶石進行粗拋光和精拋光的合二為一的拋光盤。
二背景技術(shù)：
現(xiàn)有的刻面寶石拋光盤都是由鋅合金材料制作的拋光盤，在加工寶石的時候，首先用金剛石砂盤將寶石石坯磨削成刻面，其次用粗拋光盤(鋅合金材料)對刻面進行粗拋光(由于鋅合金材料硬度較低，容易在粗拋光磨盤上劃出一條條坑道，影響拋光質(zhì)量)，然后再換精拋光盤重復(fù)粗拋光的工序進行精拋光，從粗拋光到精拋光工序時需要停機更換拋光盤和重復(fù)轉(zhuǎn)換八角手操作。這種拋光盤拋光質(zhì)量差、效率低。
三、發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種對刻面寶石進行粗拋光和精拋光合二為一的復(fù)合拋光盤。本實用新型刻面寶石復(fù)合拋光盤，包括外圈鑄鐵拋光盤和內(nèi)圈鋅合金拋光盤，它的特點在于將C 120mm內(nèi)圈鋅合金拋光盤鑄造在C 170mm外圈鑄鐵拋光盤內(nèi)，經(jīng)過車床的切削打磨成光亮的平面。為了提高外圈鑄鐵拋光盤的硬度，采用灰口鑄鐵工藝使其產(chǎn)生細微針孔的效應(yīng)。本實用新型刻面寶石復(fù)合拋光盤，外圈鑄鐵拋光盤尺寸為C 170mm，厚15mm，內(nèi)圈鋅合金拋光盤尺寸為0 120mm，厚8mm。
四
附圖是本實用新型刻面寶石復(fù)合拋光盤的示意圖。
五具體實施方式
參見附圖，本實用新型刻面寶石復(fù)合拋光盤可安裝在任何普通的寶石研磨機上， 用砂盤刻磨寶石的原理與普通寶石研磨機一樣，不同之處是粗拋光和精拋光在同一個盤上，加工時無需更換拋光盤和重復(fù)轉(zhuǎn)換八角手，將W3. 5拋光粉均勻地涂抹在外圈鑄鐵拋光盤1和內(nèi)圈鋅合金拋光盤2上，將用砂盤刻磨好的寶石放在復(fù)合拋光盤上，從外圈向內(nèi)圈方向移動拋光，每個刻面的拋光都是從外圈向內(nèi)圈方向移動拋光(外圈是粗拋光、內(nèi)圈是精拋光)，直到完成所有的刻面拋光。本結(jié)構(gòu)攻克了鋅合金、銅合金、鉛合金等單種材料材質(zhì)較軟致使粗拋光盤表面容易出現(xiàn)坑道的缺陷，解決了傳統(tǒng)寶石的拋光工藝從粗拋光到精拋光工序時需要停機更換拋光盤和重復(fù)轉(zhuǎn)換八角手問題，本結(jié)構(gòu)簡單，節(jié)能，外圈鑄鐵拋光盤1尺寸為C 170mm,厚 15mm,內(nèi)圈鋅合金拋光盤2尺寸為Φ 120mm,厚8mm，減少工序，提高了生產(chǎn)效率，提升了質(zhì)量檔次，降低了生產(chǎn)成本。
權(quán)利要求1.一種刻面寶石復(fù)合拋光盤，包括外圈鑄鐵拋光盤(1)和內(nèi)圈鋅合金拋光盤O)，它的特征在于將C 120mm內(nèi)圈鋅合金拋光盤( 鑄造在C 170mm外圈鑄鐵拋光盤(1)內(nèi)，經(jīng)過車床的切削成光亮的平面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻面寶石復(fù)合拋光盤，其特征在于外圈鑄鐵拋光盤(1)采用灰口鑄鐵工藝使其產(chǎn)生細微針孔的效應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的刻面寶石復(fù)合拋光盤，其特征在于外圈鑄鐵拋光盤(1) 尺寸為0 170mm，厚15mm，內(nèi)圈鋅合金拋光盤⑵尺寸為C 120mm，厚8mm。
專利摘要本實用新型涉及一種能對刻面寶石進行粗拋光和精拋光合二為一的復(fù)合拋光盤，包括外圈鑄鐵拋光盤1和內(nèi)圈鋅合金拋光盤2，其特征在于將￠120mm內(nèi)圈鋅合金拋光盤2鑄造在￠170mm外圈鑄鐵拋光盤1內(nèi)，經(jīng)過車床的切削成光亮的平面。本結(jié)構(gòu)攻克了鋅合金、銅合金、鉛合金等單種材料材質(zhì)較軟，致使粗拋光盤表面容易出現(xiàn)坑道的缺陷，解決了傳統(tǒng)寶石的拋光工藝從粗拋光到精拋光工序時需要停機更換拋光盤和重復(fù)轉(zhuǎn)換八角手問題，本結(jié)構(gòu)簡單，節(jié)能，外圈鑄鐵拋光盤1尺寸為￠170mm，厚15mm，內(nèi)圈鋅合金拋光盤2尺寸為￠120mm，厚8mm。減少工序，提高了生產(chǎn)效率，提升了質(zhì)量檔次，降低了生產(chǎn)成本。
文檔編號B24D13/00GK202318039SQ20112015906
公開日2012年7月11日 申請日期2011年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月15日
發(fā)明者劉福愉, 陳炳忠 申請人:劉福愉, 陳炳忠