專利名稱：吹掃裝置和具有它的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種吹掃裝置和具有該清掃裝置的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著等離子體(Plasma)技術(shù)的不斷發(fā)展，等離子體裝置已經(jīng)被廣泛地應用于制造集成電路(IC)或光伏(PV)產(chǎn)品的制造工藝中。而光伏產(chǎn)品制造過程中用到的平板式 PECVD設(shè)備根據(jù)成膜方式的不同主要分為直接法和間接法兩種，這兩種設(shè)備都是通過平板式載板承放基片。直接法的載板接地，上電極接中頻或者射頻，在上電極和載板之間形成等離子體；間接法的載板不接地，只起到傳輸作用，電極板接高頻或者微波，離子放電空間中就結(jié)合成減反膜并由擴散作用沉積在硅片表面上。直接法成膜致密，可以實現(xiàn)表面鈍化和體鈍化，有利于提高少子壽命，所以短路電流一般比較高。但直接法為了載板接地，都是采用向上鍍膜的方式，成膜表面朝上，在工藝過程中產(chǎn)生的顆粒，或長時間運行后上電極剝落的顆粒會掉落到成膜表面上，影響基片的外觀和質(zhì)量?，F(xiàn)有技術(shù)的缺點是，操作人員手持通有壓縮空氣的管子對沒有基片的空載板進行吹掃，(此時沒有基片的空載板位置不是固定的，有時在卸載臺，有時在裝載臺)直至把載板上的顆粒吹干凈為止，因此既浪費人力，又浪費時間。另外，吹掃方式也是不規(guī)則的左右吹掃，導致不能把顆粒完全吹落。

實用新型內(nèi)容本實用新型旨在至少解決上述技術(shù)問題之一。為此，本實用新型的一個目的在于提出一種吹掃裝置，該吹掃裝置的結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、清掃載板顆粒效果好、提高了基片的外觀。本實用新型的另一目的在于提出一種具有上述吹掃裝置的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型第一方面提出的用于等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備的吹掃裝置，包括內(nèi)管，所述內(nèi)管的第一端敞開且所述內(nèi)管的第二端封閉，所述內(nèi)管的管壁上設(shè)有通孔；和外管，所述外管套設(shè)在所述內(nèi)管外面以在所述外管與所述內(nèi)管之間限定出環(huán)形空間，所述環(huán)形空間通過所述通孔與所述內(nèi)管的內(nèi)腔連通，所述環(huán)形空間的第一端和第二端封閉，所述外管的管壁上設(shè)有將所述環(huán)形空間與外界連通的分配孔。根據(jù)本實用新型的用于等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備的吹掃裝置，氣體從內(nèi)管的一端通入內(nèi)管的內(nèi)腔，內(nèi)腔中的氣體通過所述通孔進入所述環(huán)形空間，然后在環(huán)形空間中經(jīng)過緩沖后的氣體通過外管上的分配孔向外界吹送。環(huán)形空間緩沖氣流壓力，并起到均勻分配壓縮空氣的作用，因此，保證從分配孔吹向外界的氣流更加平穩(wěn)，提高吹掃效果。另外，根據(jù)本實用新型的吹掃裝置還可以具有如下附加的技術(shù)特征[0010]所述通孔為多個，所述多個通孔沿所述內(nèi)管的軸向間隔分布。所述通孔的開口方向與所述分配孔的開口方向之間的夾角α在90° < α < 270°的范圍內(nèi)。所述夾角α為180°。所述內(nèi)管與所述外管同軸。所述分配孔為沿所述外管的軸向延伸的狹槽。所述狹槽為矩形。所述吹掃裝置還包括第一密封件和第二密封件，所述第一密封件連接在所述內(nèi)管和所述外管的第一端以密封所述環(huán)形空間的第一端，所述第二密封件連接在所述內(nèi)管和所述外管的第二端以密封所述內(nèi)管的第二端和所述環(huán)形空間的第二端。所述第一和第二密封件與所述內(nèi)管和所述外管分別螺紋連接。本實用新型第二方面提出的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備，包括依次設(shè)置的裝載臺，預熱腔、工藝腔、冷卻腔和卸載臺；返回裝置，所述返回裝置設(shè)置在所述卸載臺與所述裝載臺之間以將所述卸載臺上的載板輸送到所述裝載臺上；吹掃裝置，所述吹掃裝置為根據(jù)本實用新型第一方面所述的吹掃裝置，所述吹掃裝置設(shè)在所述返回裝置的支架上且位于所述返回裝置上方用于吹掃所述返回裝置上的所述載板；和氣源，所述氣源與所述吹掃裝置的所述內(nèi)管的第一端相連。根據(jù)本實用新型的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備，通過吹掃裝置向載板吹送氣體以清理載板表面的顆粒，保證載板所運載的基片外觀不受顆粒影響，提高基片質(zhì)量。另外，吹掃裝置設(shè)置在載板從卸載臺返回裝載臺的過程中，保證設(shè)備正常運行，提高設(shè)備使用率。另外，根據(jù)本實用新型的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備還可以具有如下附加的技術(shù)特征所述吹掃裝置鄰近所述裝載臺。所述吹掃裝置可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述返回裝置的支架上。所述吹掃裝置的所述外管上的分配孔的開口方向與所述返回裝置的上表面之間的夾角β為銳角。根據(jù)本實用新型的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備還包括設(shè)置在所述氣源與所述內(nèi)管之間的電磁閥。本實用新型的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐了解到。

本實用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從結(jié)合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖IA為本實用新型實施例的吹掃裝置的縱截面示意圖；圖IB為圖IA所示吹掃裝置的橫截面示意圖；圖2為本實用新型一個實施例的吹掃裝置與載板的位置關(guān)系示意圖；以及圖3為本實用新型實施例的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備的流程圖。
具體實施方式
下面詳細描述本實用新型的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本實用新型，而不能理解為對本實用新型的限制。在本實用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、 “前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底” “內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為
基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本實用新型中的具體含義。
以下結(jié)合附圖1A-1B首先描述根據(jù)本實用新型實施例的吹掃裝置。如圖IA所示，為本實用新型實施例的吹掃裝置的縱截面示意圖，圖IB為本實用新型實施例的吹掃裝置的橫截面示意圖。根據(jù)本實用新型實施例的吹掃裝置100包括內(nèi)管 110和外管120。其中，內(nèi)管110的第一端(圖IA中的左端)敞開且內(nèi)管的第二端(圖IA中的右端)封閉，內(nèi)管110的管壁上設(shè)有通孔111。在本實用新型的一個示例中，如圖IA所示，通孔111個數(shù)為4個，且4個通孔沿內(nèi)管110的軸向((圖IA中的左右方向)間隔分布。優(yōu)選地，通過111可以為等間隔分布。當然，通孔111的個數(shù)并不限于4個，并且通孔111可以分別在內(nèi)管110的整個長度上。此外，通孔111可以排列成直線，也可以螺旋分布。外管120套設(shè)在內(nèi)管110外面以在外管120與內(nèi)管110之間限定出環(huán)形空間130。 圖IA中示出的內(nèi)管110和外管120為圓管，然而，本實用新型并不限于此，例如也可以為扁管。優(yōu)選地，內(nèi)管110與外管120可以同軸，從而環(huán)形空間130與內(nèi)管110和外管120同軸， 進而氣體在環(huán)形空間130內(nèi)流動順暢且更加均勻。環(huán)形空間130通過通孔111與內(nèi)管110的內(nèi)腔112連通，環(huán)形空間130的第一端和第二端封閉，外管120的管壁上設(shè)有將環(huán)形空間130與外界連通的分配孔121。在本實用新型的一些實施例中，分配孔121例如為沿外管120的軸向延伸的狹槽，狹槽的長度應大于所清理的載板210的寬度，從而能夠吹掃整個載板210。優(yōu)選地，狹槽形狀為矩形，由此，可以增加吹掃效果，并且便于加工。當然，本實用新型并不限于此，例如分配孔120可以為多個間隔分布的通孔。根據(jù)本實用新型實施例的吹掃裝置100，氣體從內(nèi)管110的第一端通入內(nèi)腔112 中，內(nèi)腔112中的氣體通過通孔111進入環(huán)形空間130，氣體在環(huán)形空間130中緩沖后通過外管120上的分配孔121向外界吹送。環(huán)形空間130起到緩沖氣流壓力，均勻分配氣體的
5作用，因此，保證從分配孔121吹向外界的氣流更加平穩(wěn)，由此提高吹掃效果。如圖2所示，在本實用新型的一個實施例中，通孔111的開口方向與分配孔121的開口方向之間的夾角α在90° < α < 270°的范圍內(nèi)，避免氣流經(jīng)過該通孔111后迅速從分配孔121排出，由此可以保證氣體在環(huán)形空間130內(nèi)流經(jīng)一定的距離，更好的緩沖氣體， 進一步提高從分配孔121吹向外界的氣流的平穩(wěn)性。優(yōu)選地，在本實用新型的一些實施例中，通孔111的開口方向與分配孔121的開口方向之間的夾角為180°，如圖IB所示的夾角 α。使氣體從通孔111經(jīng)過環(huán)形空間130到達分配孔121的距離最長。在本實用新型的一些實施例中，吹掃裝置100還可包括第一密封件140和第二密封件150，第一密封件140連接在內(nèi)管110和外管120的第一端以密封環(huán)形空間130的第一端，第二密封件150連接在內(nèi)管110和外管120的第二端以密封內(nèi)管110的第二端和環(huán)形空間130的第二端。在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中，第一密封件140和第二密封件 150與內(nèi)管110和外管120分別螺紋連接?？蛇x地，內(nèi)管110的第一端與外管120的第一端也螺紋連接，內(nèi)管110的第二端與外管120的第二端也螺紋連接，以便配合第一密封件140和第二密封件150起到封閉作用， 提高密封效果，并且拆卸方便。當然，在本實用新型并不限于此，例如第一密封件140和第二密封件150還可以為密封膠或者密封帶。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以理解，只要將內(nèi)管110的第二端以及環(huán)形空間 130的第一端和第二端密封即可，對于具體的封閉形式?jīng)]有限制。
以下結(jié)合附圖3描述根據(jù)本實用新型實施例的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備。如圖3所示，為本實用新型實施例的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備的示意圖。 本實用新型實施例的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備300包括依次設(shè)置的裝載臺310，預熱腔320，工藝腔330，冷卻腔340和卸載臺350、返回裝置360、吹掃裝置100和氣源(圖中未示出)。在圖3中，上述構(gòu)成部件沿從左向右的方向依次設(shè)置。其中，返回裝置360設(shè)置在卸載臺350與裝載臺310之間以將卸載臺350上的載板210輸送到裝載臺310上。吹掃裝置100可以根據(jù)本實用新型上述實施例描述的吹掃裝置，吹掃裝置100設(shè)在返回裝置360的支架(未示出)上且位于返回裝置360上方，用于吹掃返回裝置360上的載板210。為保證載板210進入裝載臺310之前表面清潔，在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中，吹掃裝置100鄰近裝載臺310設(shè)置，從而保證載板210進入裝載臺310之前表面干凈。 氣源與吹掃裝置100的內(nèi)管110的第一端相連，例如氣源與吹掃裝置100的內(nèi)管110的第一端可以通過電磁閥(未示出)相連。電磁閥可以根據(jù)控制信號自動的開閉氣源，需要清潔載板210時，打開氣源，實現(xiàn)吹掃裝置100的自動化一體。當然，也可以為其它裝置連接氣源與內(nèi)管110，如開關(guān)等。根據(jù)本實用新型實施例的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備300，通過吹掃裝置 100向載板210吹送氣體以清理載板210表面的顆粒，通過電磁閥控制吹掃裝置100對載板210自動吹送以清理載板210表面的顆粒，從而保證載板210所運載的基片外觀不受顆粒影響，提高基片質(zhì)量。另外，吹掃裝置100設(shè)置在載板210從卸載臺350返回裝載臺310 的路徑上，保證設(shè)備正常運行，提高設(shè)備使用率。如圖3所示。在本實用新型的一些實施例中，吹掃裝置100可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在返回裝置360的支架上。吹掃裝置100旋轉(zhuǎn)可以改變外管120上的分配孔121的開口方向與返回裝置360的上表面上載板210之間的夾角β，從而改變吹掃裝置100的分配孔121向載板210表面吹送氣體的角度β。優(yōu)選地，夾角β為銳角，從而吹掃效果更好。根據(jù)本實用新型實施例的吹掃裝置，結(jié)構(gòu)簡單，吹掃效果好，使用該吹掃裝置的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備，載板上的顆?？梢杂行У乇淮祾叩簦岣吡嘶耐庥^，并且設(shè)備使用率高。在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點包含于本實用新型的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。盡管已經(jīng)示出和描述了本實用新型的實施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解 在不脫離本實用新型的原理和宗旨的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本實用新型的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求1.一種吹掃裝置，其特征在于，包括內(nèi)管，所述內(nèi)管的第一端敞開且所述內(nèi)管的第二端封閉，所述內(nèi)管的管壁上設(shè)有通孔;和外管，所述外管套設(shè)在所述內(nèi)管外面以在所述外管與所述內(nèi)管之間限定出環(huán)形空間， 所述環(huán)形空間通過所述通孔與所述內(nèi)管的內(nèi)腔連通，所述環(huán)形空間的第一端和第二端封閉，所述外管的管壁上設(shè)有將所述環(huán)形空間與外界連通的分配孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吹掃裝置，其特征在于，所述通孔為多個，所述多個通孔沿所述內(nèi)管的軸向間隔分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吹掃裝置，其特征在于，所述通孔的開口方向與所述分配孔的開口方向之間的夾角α在90° < α < 270°的范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的吹掃裝置，其特征在于，所述夾角α為180°。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吹掃裝置，其特征在于，所述內(nèi)管與所述外管同軸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項所述的吹掃裝置，其特征在于，所述分配孔為沿所述外管的軸向延伸的狹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的吹掃裝置，其特征在于，所述狹槽為矩形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吹掃裝置，其特征在于，還包括第一密封件和第二密封件，所述第一密封件連接在所述內(nèi)管和所述外管的第一端以密封所述環(huán)形空間的第一端，所述第二密封件連接在所述內(nèi)管和所述外管的第二端以密封所述內(nèi)管的第二端和所述環(huán)形空間的第二端。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的吹掃裝置，其特征在于，所述第一和第二密封件與所述內(nèi)管和所述外管分別螺紋連接。
10.一種等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于，包括依次設(shè)置的裝載臺，預熱腔、工藝腔、冷卻腔和卸載臺；返回裝置，所述返回裝置設(shè)置在所述卸載臺與所述裝載臺之間以將所述卸載臺上的載板輸送到所述裝載臺上；吹掃裝置，所述吹掃裝置為根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項所述的吹掃裝置，所述吹掃裝置設(shè)在所述返回裝置的支架上且位于所述返回裝置上方用于吹掃所述返回裝置上的所述載板；和氣源，所述氣源與所述吹掃裝置的所述內(nèi)管的第一端相連。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述吹掃裝置鄰近所述裝載臺。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述吹掃裝置可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述返回裝置的支架上。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述吹掃裝置的所述外管上的分配孔的開口方向與所述返回裝置的上表面之間的夾角β為銳角。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備，其特征在于，還包括設(shè)置在所述氣源與所述內(nèi)管之間的電磁閥。
專利摘要本實用新型提出一種用于等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備的吹掃裝置，包括內(nèi)管，所述內(nèi)管的第一端敞開且所述內(nèi)管的第二端封閉，所述內(nèi)管的管壁上設(shè)有通孔；和外管，所述外管套設(shè)在所述內(nèi)管外面以在所述外管與所述內(nèi)管之間限定出環(huán)形空間，所述環(huán)形空間通過所述通孔與所述內(nèi)管的內(nèi)腔連通，所述環(huán)形空間的第一端和第二端封閉，所述外管的管壁上設(shè)有將所述環(huán)形空間與外界連通的分配孔。本實用新型還提出一種等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備。根據(jù)本實用新型的吹掃裝置，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，具有該吹掃裝置的等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備能夠快速清理載板上的顆粒，從而改善了加工件的外觀，提高設(shè)備使用率。
文檔編號C23C16/44GK202107763SQ20112017329
公開日2012年1月11日 申請日期2011年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月26日
發(fā)明者劉紅義 申請人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責任公司