專(zhuān)利名稱(chēng)：一種電解高純鈦的清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及高純鈦的生產(chǎn)裝置，特別涉及以低價(jià)氯化物為主體的熔鹽電解質(zhì)電解生產(chǎn)的高純鈦清洗裝置。
背景技術(shù)：
目前，在熔鹽電解法鈦制取高純鈦(鈦含量大于99. 9%)的方法中，在以低價(jià)氯化物為主體的熔鹽電解質(zhì)電解生產(chǎn)高純鈦時(shí)，由于產(chǎn)品中夾雜有許多的低價(jià)氯化物，因此如何去除這些低價(jià)氯化物是保障高純鈦后期處理的關(guān)鍵。

實(shí)用新型內(nèi)容為解決熔鹽電解法生產(chǎn)的高純鈦產(chǎn)品清洗問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種電解高純鈦的清洗裝置。一種電解高純鈦的清洗裝置，主要包括清洗槽、盛料框、振動(dòng)裝置，盛料框置于清洗槽內(nèi)的塞孔板上，在盛料框內(nèi)裝有振動(dòng)裝置，在清洗槽內(nèi)設(shè)有塞孔板，清洗槽下部設(shè)有進(jìn)水控制閥和出水控制閥。采用本實(shí)用新型的裝置，可使夾雜在高純鈦中的低價(jià)氯化物得到徹底的清理，該裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便。

圖1為本實(shí)用新型高純鈦清洗的裝置示意圖圖中1 一振動(dòng)裝置、2—清洗槽、3—盛料框、4一塞孔板、5—進(jìn)水控制閥、6—出水控制閥。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。一種電解高純鈦的清洗裝置，主要包括振動(dòng)裝置1、清洗槽2、盛料框3，振動(dòng)裝置 1置于盛料框3內(nèi)、盛料框3置于清洗槽2內(nèi)的塞孔板4上，清洗槽下部設(shè)有進(jìn)水控制閥5 和出水控制閥6。采用本實(shí)用新型的電解高純鈦的清洗裝置，先將裝有高純鈦的盛料框3放置于清洗槽2中的塞孔板4上，把振動(dòng)裝置1置于盛料框2內(nèi)，打開(kāi)進(jìn)水控制閥5，啟動(dòng)振動(dòng)裝置 1，清洗完畢后打開(kāi)出水控制閥6，即可使電解高純鈦中的低價(jià)氯化物得到清理，本裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便。
權(quán)利要求1. 一種電解高純鈦的清洗裝置，主要包括振動(dòng)裝置(1)、清洗槽(2)、盛料框(3)，其特征在于所述振動(dòng)裝置(1)置于盛料框(3)內(nèi)、盛料框(3)置于清洗槽(2)內(nèi)的塞孔板(4) 上，清洗槽下部設(shè)有進(jìn)水控制閥( 和出水控制閥(6)。
專(zhuān)利摘要一種電解高純鈦的清洗裝置，主要包括振動(dòng)裝置(1)、清洗槽(2)、盛料框(3)，振動(dòng)裝置(1)置于盛料框(3)內(nèi)、盛料框(3)置于清洗槽(2)內(nèi)的塞孔板(4)上，清洗槽下部設(shè)有進(jìn)水控制閥(5)和出水控制閥(6)。采用本實(shí)用新型的電解高純鈦的清洗裝置，可使電解高純鈦中的低價(jià)氯化物得到清理，本裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便。
文檔編號(hào)C23G3/00GK202193850SQ20112021683
公開(kāi)日2012年4月18日 申請(qǐng)日期2011年6月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月24日
發(fā)明者楊國(guó)軍, 林洪波, 袁繼維, 龔正斌 申請(qǐng)人:遵義鈦業(yè)股份有限公司