專利名稱：連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜輔件，尤其涉及一種連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置。
背景技術(shù)：
鍍膜的基本過程是玻璃工件經(jīng)清洗、烘干、抽氣、鍍膜、輸出。其中，鍍膜是在真空濺射鍍膜室進(jìn)行。在真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有濺射靶，從濺射靶濺射出來的金屬或者金屬化合物沉寂于玻璃表面形成膜層，鍍膜完成后玻璃由傳動(dòng)裝置輸出。整個(gè)生產(chǎn)過程是半連續(xù)或連續(xù)的，在濺射靶源周圍設(shè)置有調(diào)節(jié)膜層厚度的擋板，現(xiàn)有技術(shù)中由于考慮到真空容器的密閉問題，都采取固定擋板的方式。但是采用固定擋板在真空狀態(tài)的環(huán)境下無法自主調(diào)整擋板以達(dá)到調(diào)節(jié)膜厚均勻性的目的，只有等到下次破空再根據(jù)光學(xué)數(shù)據(jù)修正擋板，這樣會(huì)造成大量的財(cái)力浪費(fèi)，也會(huì)導(dǎo)致工藝調(diào)試的時(shí)間較長(zhǎng)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型實(shí)施例所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置及真空鍍膜設(shè)備，以解決現(xiàn)有技術(shù)鍍膜過程中由于采用固定擋板造成的大量的財(cái)力浪費(fèi)和工藝調(diào)試的時(shí)間較長(zhǎng)的問題。為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型實(shí)施例提出了一種連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置，包括設(shè)置于真空鍍膜室殼體內(nèi)的活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)和與所述活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)相連接且一端伸出真空鍍膜室殼體外部以便對(duì)活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)進(jìn)行調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)包括與所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)相連接的并在所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)的絲桿、螺合于絲桿上而可在絲桿帶動(dòng)下沿絲桿軸向移動(dòng)的螺母以及與螺母固定連接的擋板。進(jìn)一步地，所述螺母為滾珠絲桿螺母。進(jìn)一步地，所述擋板為三角形。進(jìn)一步地，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括一端與所述絲桿相連接另一端伸出真空鍍膜室殼體外部的轉(zhuǎn)軸、對(duì)轉(zhuǎn)軸與真空鍍膜室殼體相接觸處進(jìn)行密封的軸封、套設(shè)于所述轉(zhuǎn)軸上的軸承以及與所述真空鍍膜室殼體相連接的用于固定軸承和軸封的固定件。本實(shí)用新型還提供了一種真空鍍膜設(shè)備，在真空鍍膜設(shè)備的真空鍍膜室內(nèi)部設(shè)置有用于調(diào)整鍍膜厚度的擋板，所述擋板為上述的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置。本實(shí)用新型的活動(dòng)擋板裝置和采用該活動(dòng)擋板裝置的真空鍍膜設(shè)備在進(jìn)行真空鍍膜過程中出現(xiàn)膜厚不均勻時(shí)不需要破空，也無需關(guān)靶處理，可直接在真空鍍膜室外部通過旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸對(duì)擋板進(jìn)行調(diào)節(jié)。由于擋板為三角形，擋板的上下運(yùn)動(dòng)量的不同所擋住的濺射區(qū)域的面積也是不同的，可以根據(jù)上下膜厚不均勻的情況，調(diào)節(jié)擋板上下運(yùn)動(dòng)量，以調(diào)節(jié)膜厚的均勻性。

圖1是本實(shí)用新型的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。[0011]圖2是本實(shí)用新型的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置的分解圖。
具體實(shí)施方式
圖1、圖2所示分別為本實(shí)用新型實(shí)施例的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置的結(jié)構(gòu)示意圖和分解圖，如圖所示該活動(dòng)擋板裝置包括設(shè)置于真空鍍膜室殼體30內(nèi)的活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)10和與活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)10相連接且一端伸出真空鍍膜室殼體30外部以便對(duì)活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)10進(jìn)行調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)20?；顒?dòng)擋板機(jī)構(gòu)10包括與調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)20相連接的絲桿1、螺母2以及擋板3。其中絲桿1在調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)20帶動(dòng)下可轉(zhuǎn)動(dòng)，螺母2與擋板3固定連接，螺母2螺合套設(shè)在絲桿1 上，當(dāng)絲桿1轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)螺母2沿絲桿1軸向上下移動(dòng)，進(jìn)而帶動(dòng)擋板3上下移動(dòng)。如圖2所示調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)20包括轉(zhuǎn)軸11、軸封12、軸承13和固定件14。其中，轉(zhuǎn)軸 11的一端與絲桿1相連接，轉(zhuǎn)軸11另一端伸出真空鍍膜室殼體30外部。軸封12套設(shè)在轉(zhuǎn)軸11上用于對(duì)轉(zhuǎn)軸11與真空鍍膜室殼體30相接觸處進(jìn)行密封。軸承13和固定件14均套設(shè)在轉(zhuǎn)軸11上，固定件14設(shè)置有與真空鍍膜室殼體30相配合的螺紋，當(dāng)固定件14扣合到真空鍍膜室殼體30時(shí)可將軸承13和軸封12固定。本實(shí)施例中螺母2采用滾珠絲桿螺母，具體實(shí)施時(shí)也采用其他形式的絲桿螺母。 本實(shí)施例中擋板3為三角形，由于擋板3的形狀為三角形，擋板3的上下運(yùn)動(dòng)量的不同所擋住的濺射區(qū)域的面積也是不同的，可以根據(jù)上下膜厚不均勻的情況，調(diào)節(jié)擋板3上下運(yùn)動(dòng)量，以調(diào)節(jié)膜厚的均勻性。本實(shí)用新型還提供了一種真空鍍膜設(shè)備，在該真空鍍膜設(shè)備的真空鍍膜室內(nèi)部設(shè)置有用于調(diào)整鍍膜厚度的擋板，該擋板采用上述圖1和圖2所示的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置，具體結(jié)構(gòu)參見圖1和圖2這里不再贅述。本實(shí)用新型的真空鍍膜設(shè)備在進(jìn)行真空鍍膜過程中出現(xiàn)膜厚不均勻時(shí)不需要破空，也無需關(guān)靶處理，利用兩個(gè)軸封12同向密封，加裝轉(zhuǎn)軸11和絲桿1，根據(jù)上下膜厚不均勻的情況可直接在真空鍍膜室殼體30外部調(diào)節(jié)擋板3，控制擋板3的上下運(yùn)動(dòng)量。以上所述是本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置，其特征在于，包括設(shè)置于真空鍍膜室殼體內(nèi)的活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)和與所述活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)相連接且一端伸出真空鍍膜室殼體外部以便對(duì)活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)進(jìn)行調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)包括與所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)相連接的并在所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)的絲桿、螺合于絲桿上而可在絲桿帶動(dòng)下沿絲桿軸向移動(dòng)的螺母以及與螺母固定連接的擋板。
2.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置，其特征在于，所述螺母為滾珠絲桿螺母。
3.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置，其特征在于，所述擋板為三角形。
4.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括一端與所述絲桿相連接另一端伸出真空鍍膜室殼體外部的轉(zhuǎn)軸、對(duì)轉(zhuǎn)軸與真空鍍膜室殼體相接觸處進(jìn)行密封的軸封、套設(shè)于所述轉(zhuǎn)軸上的軸承以及與所述真空鍍膜室殼體相連接的用于固定軸承和軸封的固定件。
5.一種真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，在真空鍍膜設(shè)備的真空鍍膜室內(nèi)部設(shè)置有用于調(diào)整鍍膜厚度的擋板，所述擋板為權(quán)利要求1 4中任意一項(xiàng)所述的連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線活動(dòng)擋板裝置，包括設(shè)置于真空鍍膜室殼體內(nèi)的活動(dòng)擋板機(jī)構(gòu)和調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)?；顒?dòng)擋板機(jī)構(gòu)包括與調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)相連接的并在調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)的絲桿和通過螺母與絲桿相連接的擋板。本實(shí)用新型還公開了一種真空鍍膜設(shè)備，該鍍膜設(shè)備的真空鍍膜室內(nèi)部設(shè)置有上述活動(dòng)擋板裝置。采用本實(shí)用新型的活動(dòng)擋板裝置的真空鍍膜設(shè)備在進(jìn)行真空鍍膜過程中出現(xiàn)膜厚不均勻時(shí)不需要破空，也無需關(guān)靶處理，可直接在真空鍍膜室外部通過旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸對(duì)擋板進(jìn)行調(diào)節(jié)。由于擋板為三角形，擋板的上下運(yùn)動(dòng)量的不同所擋住的濺射區(qū)域的面積也是不同的，可以根據(jù)上下膜厚不均勻的情況，調(diào)節(jié)擋板上下運(yùn)動(dòng)量，以調(diào)節(jié)膜厚的均勻性。
文檔編號(hào)C23C14/56GK202157118SQ20112025495
公開日2012年3月7日 申請(qǐng)日期2011年7月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月18日
發(fā)明者徐日宏, 李小軍, 羅高軍, 鄭芳平 申請(qǐng)人:深圳市三鑫精美特玻璃有限公司