專利名稱：一種用于平板硅外延爐的冷卻水分配板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種分配板，尤其是涉及一種平板硅外延爐腔體的分配板，屬于冷卻分配板技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中的冷卻水分配板，譬如，意大利LPE公司的PE3061D設(shè)備的工藝腔體底部的水冷卻裝置，冷卻水主要集中在中心縫隙，不能很好的冷卻工藝腔體底部溫度較高處， 導(dǎo)致腔體在使用一段時間之后，腔體鍍金層被高溫氧化，導(dǎo)致鍍金層發(fā)黑、脫落，腔體鍍金層壽命只有7-9個月時間，較全新的腔體，工藝功率損耗大到10kw。如圖1所示。
發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有的水冷卻裝置不能很好對工藝腔體底部的冷卻，本技術(shù)提供了一種新型的冷卻水分配板，其所采用的技術(shù)方案是水流通過以圓弧的形式分布在外延加熱體底部的水流細孔流過，密布在板盤上的水流細孔的孔徑直徑大小為IOmm左右，以中心圓孔為中心均勻分布在以150mm、220mm、300mm為半徑的圓弧上。本技術(shù)的有益效果是，通過控制腔體底部冷卻水流分布，在腔體高溫位置集中水流，通過噴射狀流動的水流帶走附著在腔體底部的氣泡(此氣泡在高溫時產(chǎn)生，并阻隔腔體表面的熱交換)該冷卻水分配板能夠有效控制腔體底部溫度，從而有效防止腔體表面鍍金層因高溫而氧化剝落，此技術(shù)大幅延長了腔體使用壽命，同時降低了工藝功率損耗，節(jié)約了能耗。本實用新型有效延長腔體使用壽命，從原來的7-9個月延長到了 16個月。相對舊型鍍金層脫落后的腔體，功率消耗節(jié)約了 10-20%。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中舊型冷卻水分配盤俯視圖。圖2是本實用新型的新型冷卻水分配盤俯視圖。圖3是本實用新型的實施例的縱剖面結(jié)構(gòu)圖。圖4是本實用新型的裝配圖。圖5是本實用新型的實施例的縱剖面構(gòu)造圖。圖6是本實用新型的實施例的橫剖面構(gòu)造圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型做進一步詳細的說明。圖2是本實用新型的俯視圖，水流通過直徑大小為IOmm水流孔，水流孔以中心圓孔為中心分布在以150mm、220mm、300mm為半徑的圓弧上，通過均勻設(shè)置的水流孔，有效降低腔體表面的溫度。圖4中是本冷卻水分配盤的裝配示意圖，安裝與箭頭所示位置。[0014]在圖3、圖5、圖6所示實施例中，本實用新型安裝與反應(yīng)腔體底部。通過本應(yīng)用新型的水流分配設(shè)置，控制反應(yīng)腔體位于加熱體底部的溫度，避免高溫引起腔體表面鍍金層氧化脫落。[0015]雖然本發(fā)明通過實施例進行了描述，但實施例并非用來限定本發(fā)明。本領(lǐng)域技術(shù)人員可在本發(fā)明的精神的范圍內(nèi)，做出各種變形和改進，所附的權(quán)利要求應(yīng)包括這些變形和改進。
權(quán)利要求1.一種用于平板硅外延爐的冷卻水分配板，其特征在于板上均勻分布的水流細孔， 所述水流細孔通過以圓弧的形式密布在板盤上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于平板硅外延爐的冷卻水分配板，其特征在于均勻分布的水流細孔的孔徑直徑大小為10mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于平板硅外延爐的冷卻水分配板，其特征在于水流細孔以中心圓孔為中心分布在以150mm、220mm、300mm為半徑的圓弧上。
專利摘要本實用新型涉及一種分配板，尤其是涉及一種用于平板硅外延爐的冷卻水分配板。其所采用的技術(shù)方案是水流通過以圓弧的形式分布在外延加熱體底部的水流細孔流過，密布在板盤上的水流細孔的孔徑直徑大小為10mm左右，以中心圓孔為中心均勻分布在以150mm、220mm、300mm為半徑的圓弧上。
文檔編號C23C16/24GK202246853SQ20112036107
公開日2012年5月30日 申請日期2011年9月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月26日
發(fā)明者施國政, 陳凌兵, 馬利行 申請人:南京國盛電子有限公司