專利名稱：真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜裝置，尤其涉及一種在給反光鏡片鍍膜時(shí)具有修正板的真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
反光鏡片在鍍膜生產(chǎn)時(shí)，需要在反光鏡片的基片上鍍上光學(xué)薄膜，而膜層的均勻性的好壞，則直接影響著膜系的特性及反光鏡片的質(zhì)量。而反光鏡片常用的鍍膜裝置如圖I所示，包括鍍膜室I、承載架2及鍍膜源3。在鍍膜室I的頂部配置有旋轉(zhuǎn)馬達(dá)(圖中未示出)，承載架2通過(guò)連接軸與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)相連，并懸掛在鍍膜室I的中央位置；鍍膜源3設(shè)置在鍍膜室I的底部。鍍膜時(shí)，將反光鏡片8基片放置在鍍膜室內(nèi)承載架的夾具上，承載架通過(guò)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的帶動(dòng)，按一定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，同時(shí)，在鍍膜源上施加電流，使其散發(fā)蒸氣，從而對(duì)反光鏡片進(jìn)行鍍膜。但是由于系統(tǒng)配置及蒸發(fā)源蒸發(fā)特性的原因，夾具上不同位置處淀積到薄膜的厚度是不完全相同的，由于鍍膜源與承載架上各夾具位置不均衡，使得在鍍膜過(guò)程中，反光鏡片不能有很好的膜層均勻性，鏡片左右兩邊的膜厚分布不均勻，從而使得制得的反光鏡質(zhì)量較差，在使用時(shí)，照射出來(lái)的光是五顏六色的。為了提高產(chǎn)業(yè)化鍍膜效率，僅僅利用系統(tǒng)的自然均勻性是不行的。因此，如何提高鍍膜室內(nèi)光學(xué)薄膜厚度分布的均勻性，從而提高光學(xué)薄膜元件的質(zhì)量和成品率，是本實(shí)用新型要研究的內(nèi)容。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種真空鍍膜裝置，其目的是解決現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜室內(nèi)的光學(xué)薄膜厚度分布的不均勻的問(wèn)題，從而提高光學(xué)薄膜元件的質(zhì)量和成品率。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室、承載架及鍍膜源，所述真空鍍膜室的頂部設(shè)有旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，承載架與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)相連，并懸掛在真空鍍膜室的中央位置；所述鍍膜源設(shè)置在鍍膜室的底部；所述承載架上連接設(shè)有至少兩個(gè)行星工件盤(pán)；還包括一修正板，該修正板固設(shè)于鍍膜源和行星工件盤(pán)的之間。上述技術(shù)方案中的有關(guān)內(nèi)容解釋如下I、上述方案中，所述至少兩個(gè)的行星工件盤(pán)繞真空鍍膜室的周向上均布。2、上述方案中，所述每個(gè)行星工件盤(pán)設(shè)有至少三個(gè)的待鍍?cè)b夾位。3、上述方案中，所述真空鍍膜室的底部固設(shè)一支撐桿，該支撐桿的頂部與修正板固定連接。4、上述方案中，所述修正板為弧形。本實(shí)用新型的原理是光學(xué)薄膜元件賦予光學(xué)元件各種使用性能，對(duì)光學(xué)儀器的質(zhì)量起著重要的作用，其中，光學(xué)薄膜的厚度均勻性便是最為突出的一個(gè)。光學(xué)薄膜厚度均勻性是指光學(xué)薄膜的厚度隨著夾具表面位置的變化而變化的一種性質(zhì)。在實(shí)際的鍍膜生產(chǎn)中，就要求在鍍膜裝置的夾具上盡可能多地放置基片，并鍍制的光學(xué)薄膜同時(shí)達(dá)到質(zhì)量要求。本實(shí)用新型修正板的作用就是采用截流蒸氣云靜止擋板技術(shù)，來(lái)消除真空鍍膜室內(nèi)膜厚分布的不均勻性。將特定形狀的靜止修正板，置于鍍膜源和行星工件盤(pán)(被鍍光學(xué)元件) 之間，以改變真空鍍膜室中膜厚分布，使行星工件盤(pán)各個(gè)位置上的膜厚達(dá)到均勻的要求。由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)I、由于本實(shí)用新型使用，消除了真空鍍膜室內(nèi)膜厚分布的不均勻性。將特定形狀的靜止修正板，置于鍍膜源和行星工件盤(pán)(被鍍光學(xué)元件)之間，以改變真空鍍膜室中膜厚分布，使行星工件盤(pán)各個(gè)位置上的膜厚達(dá)到均勻的要求。本實(shí)用新型工藝簡(jiǎn)單、方便可靠。

附圖I為現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。以上附圖中1、真空鍍膜室；2、承載架；3、鍍膜源；4、修正板；5、行星工件盤(pán)；6、 待鍍?cè)b夾位；7、支撐桿；8反光鏡片。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述實(shí)施例如圖2所示，一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室I、承載架2及鍍膜源3，所述真空鍍膜室I的頂部設(shè)有旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，承載架2與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)相連，并懸掛在真空鍍膜室I的中央位置；所述鍍膜源3設(shè)置在鍍膜室的底部；所述承載架2上連接設(shè)有至少兩個(gè)行星工件盤(pán) 5 ;這至少兩個(gè)的行星工件盤(pán)5繞真空鍍膜室I的周向上均布。所述每個(gè)行星工件盤(pán)5設(shè)有至少三個(gè)的待鍍?cè)b夾位6。還包括一修正板4，該修正板4為弧形，并固設(shè)于鍍膜源3和行星工件盤(pán)5的之間。 所述真空鍍膜室I的底部固設(shè)一支撐桿7，該支撐桿7的頂部與修正板4固定連接。在鍍膜時(shí)鍍膜時(shí)，將反光鏡片8基片裝夾在行星工件盤(pán)5的待鍍?cè)b夾位6上， 啟動(dòng)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)(圖中未示出)，帶動(dòng)承載架2按一定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，同時(shí)，在鍍膜源3上施加電流，使其散發(fā)蒸氣，靠近修正板4位置的蒸汽會(huì)被修正板4吸收掉一部分，從而使得整個(gè)真空鍍膜室I內(nèi)的膜厚分布均勻，使行星工件盤(pán)5各個(gè)位置上的待鍍?cè)b夾位6膜厚達(dá)到均勻的要求，完成對(duì)反光鏡片的鍍膜。上述實(shí)施例只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。 凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室(I)、承載架(2)及鍍膜源(3)，所述真空鍍膜室(I)的頂部設(shè)有旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，承載架(2)與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)相連，并懸掛在真空鍍膜室(I)的中央位置；所述鍍膜源(3)設(shè)置在鍍膜室的底部；其特征在于所述承載架(2)上連接設(shè)有至少兩個(gè)行星工件盤(pán)(5);還包括一修正板(4)，該修正板(4)固設(shè)于鍍膜源(3)和行星工件盤(pán)(5)的之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置，其特征在于所述至少兩個(gè)的行星工件盤(pán)(5) 繞真空鍍膜室(I)的周向上均布。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置，其特征在于所述每個(gè)行星工件盤(pán)(5)設(shè)有至少三個(gè)的待鍍?cè)b夾位(6)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置，其特征在于所述真空鍍膜室(I)的底部固設(shè)一支撐桿(7)，該支撐桿(7)的頂部與修正板(4)固定連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置，其特征在于所述修正板(4)為弧形。
專利摘要一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室、承載架及鍍膜源，所述真空鍍膜室的頂部設(shè)有旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，承載架與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)相連，并懸掛在真空鍍膜室的中央位置；所述鍍膜源設(shè)置在鍍膜室的底部；所述承載架上連接設(shè)有至少兩個(gè)行星工件盤(pán)；還包括一修正板，該修正板固設(shè)于鍍膜源和行星工件盤(pán)的之間。本方案解決了現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜室內(nèi)的光學(xué)薄膜厚度分布的不均勻的問(wèn)題，從而提高光學(xué)薄膜元件的質(zhì)量和成品率。
文檔編號(hào)C23C14/24GK202347082SQ20112041698
公開(kāi)日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月28日
發(fā)明者朱文斌 申請(qǐng)人:蘇州靈菱照明鍍膜科技有限公司