国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      一種電鍍機臺退火腔體氣體管路的制作方法

      文檔序號:3255852閱讀:205來源:國知局
      專利名稱:一種電鍍機臺退火腔體氣體管路的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成電路制造領(lǐng)域,且特別涉及一種電鍍機臺退火腔體氣體管路。
      背景技術(shù)
      隨著集成電路制造工藝的不斷進步,芯片集成度的不斷提高,銅互連已經(jīng)取代鋁互連成為超大規(guī)模集成電路制造中的主流互連技術(shù)。作為鋁的替代物,銅導(dǎo)線可以提高芯片的集成度,提高器件密度,提高時鐘頻率以及降低功耗和成本?,F(xiàn)在主流的電鍍銅機臺,主要由三個模塊組成,電鍍模塊、洗邊模塊和退火模塊。 其中退火模塊是對電鍍之后的銅薄膜進行熱處理,主要作用是銅晶粒再生長,釋放應(yīng)力和降低電阻率,確保得到物理特性穩(wěn)定的銅膜。銅電鍍之后的退火模塊一般會通有熱傳導(dǎo)氣體(一般為氦氣)、還原氣體(一般為氫氣,氫氣本身也是熱傳導(dǎo)氣體)和凈化氣體(氮氣)?,F(xiàn)在某一電鍍銅主流設(shè)備的退火模塊氣體管路圖設(shè)計如下圖1所示它的管路為在氣體總管10上面裝有質(zhì)量流量計(mass flow controller,MFC) 20, 然后從將氣體管路10在退火模塊中從下往上通上去,經(jīng)過腔體31、32、33、34、35。這樣的管路結(jié)構(gòu),在管路中氣體的分子量相差不大的時候是合適的,但如果管路中的氣體分子量相差比較大,這樣的設(shè)計會導(dǎo)致,分子量比較小的越往上部分布的越多,這種狀況在腔體數(shù)量多起來的時候尤為明顯。這樣將導(dǎo)致退火模塊中,不同腔體中的氣體比例是有所差別的, 這將最終在退火之后的銅薄膜上表現(xiàn)出來。即腔體越往上,導(dǎo)熱氣體分布的越多,這樣退火進行的也越充分,導(dǎo)致退火后的應(yīng)力越大,這樣便使得從不同腔體中出來的銅薄膜物理特性有所差別。由于半導(dǎo)體中邏輯芯片的銅線互聯(lián)層數(shù)比較多,有的產(chǎn)品有可能達到10層以上,所以有可能帶來累積效應(yīng),應(yīng)力被放大導(dǎo)致碎片或者應(yīng)力遷移方面問題。綜上所述,現(xiàn)有的電鍍設(shè)備退火模塊,氣體管路設(shè)計方面的缺陷將帶來退火后銅膜性質(zhì)方面的差別,而且隨著互連層數(shù)的增多和技術(shù)節(jié)點的不斷推進,這種差別還會被放大,嚴重的時候可能帶來銅互連的應(yīng)力遷移失效。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明提出一種電鍍機臺退火腔體氣體管路,通過在原有退火模塊的氣體管路中增加通向每個退火腔體的質(zhì)量流量計,來精確控制通向每個腔體的氣體比例,從而使退火后的銅薄膜物理性質(zhì)趨于一致,帶來穩(wěn)定的金屬銅互連線。為了達到上述目的,本發(fā)明提出一種電鍍機臺退火腔體氣體管路,包括多個退火腔體;氣體總管路,通過多個氣體分支管路連接于所述多個退火腔體,其中,所述每個氣體分支管路與氣體總管路連接處設(shè)置有質(zhì)量流量計。進一步的,所述退火腔體的數(shù)量為2到10個。
      進一步的,所述氣體總管路輸送氣體為熱傳導(dǎo)氣體、還原氣體和凈化氣體。進一步的,所述熱傳導(dǎo)氣體為氦氣,所述還原氣體為氫氣,所述凈化氣體為氮氣。進一步的,所述氣體總管路上同樣設(shè)置有質(zhì)量流量計。本發(fā)明提出一種電鍍機臺退火腔體氣體管路,通過在原有退火模塊的氣體管路中增加通向每個退火腔體的質(zhì)量流量計,來精確控制通向每個腔體的氣體比例,通過對電鍍后退火模塊的優(yōu)化設(shè)計,對退火過程中的氣體含量精確的進行控制,從而精確的控制銅薄膜的特性,最后得到我們所需要的一致性和物理特性優(yōu)異的銅膜,減少潛在的應(yīng)力缺陷。


      圖1所示為現(xiàn)有技術(shù)中電鍍銅主流設(shè)備的退火模塊氣體管路圖。圖2所述為本發(fā)明第一較佳實施例的電鍍機臺退火腔體氣體管路結(jié)構(gòu)圖。圖3所述為本發(fā)明第二較佳實施例的電鍍機臺退火腔體氣體管路結(jié)構(gòu)圖。
      具體實施例方式為了更了解本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容,特舉具體實施例并配合所附圖式說明如下。本發(fā)明是通過對每個退火腔體氣體流量的獨立控制來達到獨立和精確調(diào)節(jié)制程參數(shù)的效果,從而減少潛在的應(yīng)力遷移影響,帶來特性一致和穩(wěn)定的金屬銅膜,請參考圖2, 圖2所述為本發(fā)明第一較佳實施例的電鍍機臺退火腔體氣體管路結(jié)構(gòu)圖。本發(fā)明提出一種電鍍機臺退火腔體氣體管路,包括多個退火腔體300 ;氣體總管路100,通過多個氣體分支管路400連接于所述多個退火腔體300,其中,所述每個氣體分支管路400與氣體總管路 100連接處設(shè)置有質(zhì)量流量計200。根據(jù)本發(fā)明較佳實施例,所述退火腔體的數(shù)量為2到10個,本實施例采用的數(shù)量為5個退火腔體310、320、330、340、350,所述氣體總管路100輸送氣體為熱傳導(dǎo)氣體、還原氣體和凈化氣體,進一步的,所述熱傳導(dǎo)氣體為氦氣,所述還原氣體為氫氣,所述凈化氣體為氮氣。根據(jù)本發(fā)明較佳實施例,所述氣體總管路100上同樣設(shè)置有質(zhì)量流量計200,達到氣體總管路100和氣體分支管路400都設(shè)置有質(zhì)量流量計200,實現(xiàn)對腔體氣體流量的分別控制。再請參考圖3,圖3所述為本發(fā)明第二較佳實施例的電鍍機臺退火腔體氣體管路結(jié)構(gòu)圖。對于退火腔體的設(shè)計可以如圖2所示的疊加豎立模式,也可以采用圖3所示的平鋪的形式,同樣在這種設(shè)計情況下氣體管路也可設(shè)計成氣體總管路100和氣體分支管路400 都設(shè)置有質(zhì)量流量計200,或者僅在氣體分支管路400設(shè)置有質(zhì)量流量計200。綜上所述,本發(fā)明提出一種電鍍機臺退火腔體氣體管路,通過在原有退火模塊的氣體管路中增加通向每個退火腔體的質(zhì)量流量計,來精確控制通向每個腔體的氣體比例, 通過對電鍍后退火模塊的優(yōu)化設(shè)計,對退火過程中的氣體含量精確的進行控制,從而精確的控制銅薄膜的特性,最后得到我們所需要的一致性和物理特性優(yōu)異的銅膜,減少潛在的應(yīng)力缺陷。雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上,然其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),當(dāng)可作各種的更動與潤飾。因此,本發(fā)明的保護范圍當(dāng)視權(quán)利要求書所界定者為準。
      權(quán)利要求
      1.一種電鍍機臺退火腔體氣體管路,其特征在于,包括 多個退火腔體;氣體總管路,通過多個氣體分支管路連接于所述多個退火腔體,其中, 所述每個氣體分支管路與氣體總管路連接處設(shè)置有質(zhì)量流量計。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍機臺退火腔體氣體管路,其特征在于,所述退火腔體的數(shù)量為2到10個。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍機臺退火腔體氣體管路,其特征在于,所述氣體總管路輸送氣體為熱傳導(dǎo)氣體、還原氣體和凈化氣體。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電鍍機臺退火腔體氣體管路,其特征在于,所述熱傳導(dǎo)氣體為氦氣,所述還原氣體為氫氣,所述凈化氣體為氮氣。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍機臺退火腔體氣體管路,其特征在于,所述氣體總管路上同樣設(shè)置有質(zhì)量流量計。
      全文摘要
      本發(fā)明提出一種電鍍機臺退火腔體氣體管路,包括多個退火腔體;氣體總管路,通過多個氣體分支管路連接于所述多個退火腔體,其中,所述每個氣體分支管路與氣體總管路連接處設(shè)置有質(zhì)量流量計。本發(fā)明提出的電鍍機臺退火腔體氣體管路,通過在原有退火模塊的氣體管路中增加通向每個退火腔體的質(zhì)量流量計,來精確控制通向每個腔體的氣體比例,從而使退火后的銅薄膜物理性質(zhì)趨于一致,帶來穩(wěn)定的金屬銅互連線。
      文檔編號C21D1/74GK102534713SQ20121004876
      公開日2012年7月4日 申請日期2012年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月28日
      發(fā)明者文靜, 蘇亞青 申請人:上海華力微電子有限公司
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
      1