專利名稱：表面處理系統(tǒng)、表面處理工藝和系統(tǒng)處理的構(gòu)件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及制造和處理金屬構(gòu)件的系統(tǒng)和方法。更具體而言，本發(fā)明涉及感應(yīng)加熱和施加流體到金屬構(gòu)件上的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
諸如燃?xì)廨啓C(jī)的壓縮機(jī)葉片燕尾榫的金屬構(gòu)件傾向于由于疲勞和微動疲勞兩者而發(fā)生故障。疲勞能描述為這樣的過程通過該過程，低于材料的抗拉強(qiáng)度的循環(huán)負(fù)荷開始并傳播表面裂紋。微動疲勞可描述為ー種具體形式的疲勞，其中例如在大約50微米與大約200微米之間的小振幅滑動運(yùn)動開始并傳播裂紋?；瑒舆\(yùn)動能通過產(chǎn)生研磨性氧化磨損產(chǎn)物而加重通常的疲勞過程。微動疲勞能出現(xiàn)于諸如翼型件燕尾榫和/或燃?xì)廨啓C(jī)或蒸汽渦輪轉(zhuǎn)子中的附連點(diǎn)的構(gòu)件中。普通和微動疲勞裂紋兩者為傳播到構(gòu)件內(nèi)部的從表面開始的微裂紋。當(dāng)構(gòu)件具有高溫度梯度，且表面處于比內(nèi)部部分更高溫度時，更可能形成微動疲勞裂紋。靠近構(gòu)件表面的壓縮殘余應(yīng)カ減小了疲勞裂紋和微動疲勞裂紋兩者將會形成的可能性。在已知的系統(tǒng)中，能使用激光沖擊加工來通過增加在構(gòu)件表面處的壓縮殘余應(yīng)カ來改進(jìn)抗微動疲勞性。使用激光沖擊加工承受若干缺陷。舉例而言，激光沖擊加工能由于生成高強(qiáng)度沖擊波而損壞諸如葉片燕尾榫的構(gòu)件。沖擊波在基礎(chǔ)材料的表面上反射，生成拉應(yīng)力。拉應(yīng)カ能傳播現(xiàn)有缺陷和裂紋，導(dǎo)致基礎(chǔ)材料故障。此外，激光沖擊加工添加了不需要的成本。在另ー種已知的系統(tǒng)中，涂層施加到壓縮機(jī)葉片燕尾榫上以改進(jìn)抗微動疲勞性。施加涂層承受若干缺陷。舉例而言，施加涂層Alumazite能由于在涂層與基礎(chǔ)材料(例如，馬氏體不銹鋼，諸如包括大約15. 5%鉻、大約6. 3%鎳，大約0. 8%鑰，大約0. 03%碳和余量鐵的合金)之間的界面處的應(yīng)力的拉伸性質(zhì)而具有提早的故障。當(dāng)涂層剝落裂紋時這可導(dǎo)致裂紋傳播到基礎(chǔ)材料內(nèi)。這可減小基礎(chǔ)材料的抗腐蝕性且允許基礎(chǔ)材料有縫隙腐蝕。此外，涂層可導(dǎo)致額外的不希望的成本。在另一已知系統(tǒng)中，使用水射流沖擊來處理構(gòu)件。水射流沖擊移除碎屑且清潔構(gòu)件的表面。水射流沖擊承受若干缺陷。舉例而言，水射流沖擊并不改進(jìn)抗微動疲勞性且水射流沖擊并不增加構(gòu)件表面附近的壓縮殘余應(yīng)力。在本領(lǐng)域中將需要能夠改進(jìn)構(gòu)件的抗微動疲勞性、不承受上述缺陷的系統(tǒng)和方法。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)ー個實(shí)施例，ー種表面處理系統(tǒng)包括感應(yīng)加熱器，其布置且設(shè)置成在處于感應(yīng)處理模式時加熱構(gòu)件以形成熱表面；噴嘴裝置，其被定位成當(dāng)處于流體施加模式時以高于流體的空化壓カ的壓カ施加流體到構(gòu)件的熱表面，以形成經(jīng)加工的表面。經(jīng)加工的表面包括壓縮殘余應(yīng)力。
根據(jù)另ー實(shí)施例，ー種表面處理工藝包括通過感應(yīng)加熱器來以感應(yīng)的方式加熱構(gòu)件，從而形成熱表面；以及以高于流體的空化壓カ的壓カ由噴嘴裝置來施加流體到熱表面上，從而形成經(jīng)加工的表面。經(jīng)加工的表面包括壓縮殘余應(yīng)力。根據(jù)另一實(shí)施例，一種表面處理的構(gòu)件包括經(jīng)加工的表面，經(jīng)加工的表面包括通過以感應(yīng)的方式加熱來形成熱表面且將流體施加到該熱表面而形成的壓縮殘余應(yīng)力。經(jīng)加エ的表面包括比構(gòu)件的內(nèi)部部分或未處理表面更強(qiáng)的抗微動疲勞性。通過結(jié)合附圖得到的對優(yōu)選實(shí)施例的以下更詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將會顯然，附圖以舉例說明的方式說明本發(fā)明的原理。


圖1示出了根據(jù)本公開的示例性表面處理系統(tǒng)的ー個實(shí)施例的透視圖。圖2示出了根據(jù)本公開的示例性表面處理系統(tǒng)的ー個實(shí)施例的透視圖。圖3示出了根據(jù)本公開的示例性表面處理系統(tǒng)的ー個實(shí)施例的透視圖。圖4示出了在圖I的示例性表面處理系統(tǒng)中在方向4-4中所得到的放大截面透視圖。圖5示出了在圖2的示例性表面處理系統(tǒng)中在方向5-5中所得到的放大截面透視圖。圖6示出了根據(jù)本公開的示例性表面處理系統(tǒng)的ー個實(shí)施例的透視圖。圖7示出了根據(jù)本公開的示例性表面處理系統(tǒng)的ー個實(shí)施例的透視圖。圖8示出了根據(jù)本公開的示例性的表面處理的構(gòu)件的一個實(shí)施例的透視圖。圖9示出了沿著圖8中的示例性的表面處理的構(gòu)件的線9-9的截面圖。圖10至圖12示出了溫度隨時間的曲線，以比較方式說明了根據(jù)本公開的示例性表面處理工藝。在任何可能的情況下，在所有附圖中將使用相同的參考標(biāo)號來表示相同部件。
具體實(shí)施例方式提供了能改進(jìn)金屬構(gòu)件的抗微動疲勞性的表面處理系統(tǒng)和表面處理工藝。該系統(tǒng)和方法増加壓縮殘余應(yīng)力，從而改進(jìn)抗微動疲勞性。本公開的實(shí)施例允許感應(yīng)加熱和水射流噴射(peening)的自動化，延長了感應(yīng)加熱器的使用壽命，在靠近構(gòu)件表面處生成壓縮殘余應(yīng)カ，減小或排除了裂紋或裂紋在構(gòu)件表面下方的傳播以及它們的組合。根據(jù)本公開，“疲勞”和“微動疲勞”兩者可能性都較低。因此，如下文中所用的那樣，術(shù)語“疲勞”和“微動疲勞”在本公開的上下文中可互換地使用。參看圖I至圖2，系統(tǒng)100包括感應(yīng)加熱器102和噴嘴裝置104。該系統(tǒng)100被構(gòu)造為以感應(yīng)的方式加熱金屬構(gòu)件106。金屬構(gòu)件106包括任何合適的金屬或金屬組合物。舉例而言，在各種實(shí)施例中，金屬構(gòu)件106包括任何類型的合金，包括但不限于奧氏體鋼、鋼/鎳合金、馬氏體/貝氏體不銹鋼等。在一個實(shí)施例中，構(gòu)件106包括馬氏體/貝氏體不銹鋼合金，其具有按重量計(jì)小于大約15 %的鉻，小于大約5%的鎳，小于大約2%的錳和小于大約3%的鑰。在一個實(shí)施例中，構(gòu)件106由硬件(未圖示)固定，以在感應(yīng)處理模式和/或流體施加模式期間限制構(gòu)件106的移動。
在感應(yīng)加熱模式期間，構(gòu)件106由感應(yīng)加熱器102加熱，形成熱表面(在下文中參看圖9所述)。參看圖I，在一個實(shí)施例中，構(gòu)件106在感應(yīng)加熱器102的腔室108中被加熱。在一個實(shí)施例中，感應(yīng)加熱器102可由定位硬件(未圖示)和/或定位設(shè)施(未圖示)而定位。在一個實(shí)施例中，腔室108大體上為圓柱形且由以同軸關(guān)系或一體關(guān)系定位的感應(yīng)加熱器102和噴嘴裝置104形成。在此實(shí)施例中，構(gòu)件106或構(gòu)件106的一部分可定位于腔室108內(nèi)和/或系統(tǒng)100可繞構(gòu)件106或構(gòu)件106的一部分定位或者定位于構(gòu)件106或構(gòu)件106的一部分附近。 在另ー實(shí)施例中，參看圖2，構(gòu)件106通過靠近感應(yīng)加熱器102而被加熱(例如，鄰近感應(yīng)加熱器102定位或者在感應(yīng)加熱器102附近的外周向區(qū)域103內(nèi))。在此實(shí)施例中，構(gòu)件106的內(nèi)表面107由感應(yīng)加熱器102加熱。在一個實(shí)施例中，然后冷卻或允許冷卻
熱表面。參看圖I至圖2，噴嘴裝置104被構(gòu)造為在流體施加模式期間施加流體到構(gòu)件106上或構(gòu)件106的一部分上。類似于感應(yīng)加熱器102，在一個實(shí)施例中，噴嘴裝置104能在腔室108內(nèi)施加流體到構(gòu)件106上或者構(gòu)件106的一部分上。在一個實(shí)施例中，噴嘴裝置104可由定位硬件(未圖示)和/或定位設(shè)施(未圖示)而定位。在一個實(shí)施例中，噴嘴裝置104能施加流體到靠近噴嘴裝置104的構(gòu)件106上或構(gòu)件106的一部分上(例如，靠近噴嘴裝置104定位或者定位于噴嘴裝置104附近的外周向區(qū)域103內(nèi))，如圖2所示。在一個實(shí)施例中，噴嘴裝置104包括一個或多個噴嘴105 (合適的噴嘴包括用于水射流噴射的超高壓力水射流噴嘴或能在噴嘴裝置104內(nèi)操作的任何其它噴嘴)。噴嘴裝置104施加流體到金屬構(gòu)件106上。在一個實(shí)施例中，通過使用可結(jié)合任何合適的計(jì)算機(jī)操作的控制程序(未圖示)，能夠調(diào)整且協(xié)調(diào)噴嘴參數(shù)。在一個實(shí)施例中，噴嘴105中的ー個或多個被構(gòu)造為以預(yù)定壓カ或預(yù)定壓カ范圍(例如，高于大約1360巴(bar)，在大約2000巴與大約3500巴之間，在大約2000巴與大約3700巴之間，大約3000巴，或大約3500巴)操作。在一個實(shí)施例中，噴嘴105中的ー個或多個被構(gòu)造為以預(yù)定速度或在預(yù)定速度范圍內(nèi)施加流體(例如,250m/min (米姆分鐘)，500m/min,大約560m/min,大約1120m/min,大約250m/min與大約500m/min之間或大約560m/min與大約1120m/min之間)。在一個實(shí)施例中，噴嘴105中的ー個或多個定位于離構(gòu)件106預(yù)定距離109處或在預(yù)定距離范圍內(nèi)(例如，大約0. 25mm,大約0. 5mm,大約2mm,在大約0. 5mm與大約2mm之間，在大約0. 25mm與大約0. 5mm之間)和/或在離其它噴嘴105預(yù)定距離111或預(yù)定距離范圍內(nèi)(例如，大約0. 6cm、大約7. 5cm、大約15cm、在大約0. 6cm與大約15cm之間,在大約0. 6cm與大約7. 5cm之間)。參看圖4至圖5,在一個實(shí)施例中，噴嘴105定向?yàn)轭A(yù)定角度115或在預(yù)定角度范圍內(nèi)(例如，大約75度、大約90度或在大約75與90度之間)。盡管圖I至圖2示出了基本上圓柱形的幾何形狀，該系統(tǒng)100能具有任何合適的幾何形狀。舉例而言，如圖3所示，在一個實(shí)施例中，該系統(tǒng)100為類似于槳的基本上平面形狀。在其它實(shí)施例中，該系統(tǒng)100基本上為對應(yīng)于金屬構(gòu)件106 (例如，對應(yīng)于壓縮機(jī)葉片、壓縮機(jī)燕尾榫或轉(zhuǎn)子的幾何形狀)的立方體、基本上線性的形狀或它們的組合。感應(yīng)加熱器102包括ー個或多個感應(yīng)線圈110。參看圖I和圖4，在一個實(shí)施例中，感應(yīng)線圈110在該系統(tǒng)100內(nèi)以基本上螺旋布置定向。在一個實(shí)施例中，感應(yīng)線圈110容納于外壁302(基本上形成外圓筒)和內(nèi)壁304(基本上形成內(nèi)圓筒)內(nèi)。噴嘴裝置104定位于外壁302上或內(nèi)(參看圖2和圖4)、內(nèi)壁304上或內(nèi)(參看圖I和圖3)或兩種情況。參看圖4，在一個實(shí)施例中，線圈110包括流體通道112以運(yùn)輸流體和從感應(yīng)加熱器102向流體傳熱，從而延長了感應(yīng)加熱器102的可使用壽命。在感應(yīng)加熱模式期間，流體通過入口(未圖示)進(jìn)入流體通道112，冷卻線圈110內(nèi)部且通過出口(未圖示)從流體通道112出來。在一個實(shí)施例中，在感應(yīng)加熱模式期間，通過線圈(ー個或多個)110收集、冷卻且再循環(huán)流體。在流體施加模式期間，閥(未圖示)引導(dǎo)一部分或全部流體通過噴嘴裝置104以施加到構(gòu)件106上。在一個實(shí)施例中，在流體施加模式期間，收集、凈化且再循環(huán)流體。 在一個實(shí)施例中，在超空化條件下在流體施加模式期間施加流體(例如，流體處在大約流體沸點(diǎn)的溫度或者處在對應(yīng)于流體空化壓カ的溫度)。超空化使用空化效果來在流體內(nèi)形成氣泡，允許懸浮于流體中的物體由于該物體完全被氣泡封閉而以極其高的速度行迸。超空化減小了對物體的阻力(例如，大約1000倍)，允許物體以預(yù)定速度范圍施加到構(gòu)件106上。在一個實(shí)施例中，懸浮于流體中的物體為磨料。合適的流體為水。合適的磨料為碳化硅或冰，其具有例如基本上球形的幾何形狀和/或預(yù)定粒度或粒度范圍(例如，大約80目、大約400目或在大約80目與大約400目之間)。在一個實(shí)施例中，如圖6所示，該系統(tǒng)10包括通往噴嘴裝置104的流體通道112，流體通道112和噴嘴裝置104靠近線圈110且流體通道112和噴嘴裝置104與線圈110分開。在此實(shí)施例中，線圈110并不由流體冷卻且該系統(tǒng)100能定位成使得噴嘴裝置104和線圈110靠近構(gòu)件106或構(gòu)件106的一部分。在此實(shí)施例中，在感應(yīng)加熱模式期間，流體通過入口 602進(jìn)入流體通道112，冷卻線圈110內(nèi)部且通過出口 604從流體通道112出來。在流體施加模式期間，流體通過入口 602進(jìn)入流體通道112且通過噴嘴裝置104施加到構(gòu)件106。在感應(yīng)加熱模式與流體施加模式之間的調(diào)整通過任何合適的機(jī)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)，包括但不限于諸如閥的流動控制機(jī)構(gòu)。在另ー實(shí)施例中，如圖7所示，該系統(tǒng)包括繞通往噴嘴裝置104的流體通道112包繞的線圈110。在此實(shí)施例中，線圈110由流體通道112冷卻且該系統(tǒng)100能定位成使得噴嘴裝置104和線圈104靠近構(gòu)件106或構(gòu)件106的一部分。在此實(shí)施例中，在感應(yīng)加熱模式期間，流體通過入口 602進(jìn)入流體通道112，冷卻線圈110內(nèi)部且通過出ロ 604從流體通道112出來。在流體施加模式期間，流體通過入口 602進(jìn)入流體通道112且通過噴嘴裝置104施加到構(gòu)件106。在感應(yīng)加熱模式與流體施加模式之間的調(diào)整通過任何合適的機(jī)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)，包括但不限于調(diào)整噴嘴裝置104以防止施加流體。參看圖8至圖9，在一個實(shí)施例中，構(gòu)件106為渦輪葉片。渦輪葉片的表面116由上文所述的感應(yīng)加熱器102加熱，形成熱表面。由預(yù)定深度114限定的構(gòu)件106的子層902作為過渡區(qū)操作且由感應(yīng)加熱器102加熱到比表面116更小的程度。構(gòu)件106的內(nèi)部部分120加熱到甚至更小的程度或者基本上不受感應(yīng)加熱影響。類似地，未處理部分904加熱到更小程度或基本上不受感應(yīng)加熱影響。在一個示例性エ藝中，構(gòu)件106由感應(yīng)加熱器102加熱(例如，在構(gòu)件106的表面116上)。感應(yīng)加熱形成壓縮殘余應(yīng)カ層(例如，在構(gòu)件106的表面116上)。在一個實(shí)施例中，通過增加或減小交流電流頻率、電流密度、線圈表面積、在線圈110與構(gòu)件106之間的距離、其它合適參數(shù)或它們的組合來調(diào)整所形成的壓縮殘余應(yīng)カ(例如，延伸到預(yù)定深度114)。交流電流以預(yù)定頻率和預(yù)定電流密度行進(jìn)穿過線圈(ー個或多個)110。在ー個實(shí)施例中，減小頻率和/或增加電流密度以與構(gòu)件106的另一部分(例如，構(gòu)件106的表面116)相比減小(例如，預(yù)定深度114的)加熱。在一個實(shí)施例中，可將交流電流從第一預(yù)定頻率(例如，大約100千赫)調(diào)整到第二預(yù)定頻率(例如，大約I兆赫)和/或可將電流密度從第一預(yù)定電流密度(例如，大約15X106amp/m2 (安培每平方米))調(diào)整至第二電流密度(例如，大約 5 X 106amp/m2)。 參看圖10和圖11，頻率的增加(例如，從圖11所示的100千赫到圖10所示的1000千赫)升高了表面116處的溫度。這減少了在預(yù)定深度114處的加熱且溫度升高在金屬構(gòu)件106的表面116的局部，同時減小或消除對內(nèi)部部分120的加熱。參看圖10和圖12，電流密度的增加(例如，從圖12所示的5X 106amp/m2到圖10所示的15X 106amp/m2)以基本上均勻的方式升高了在表面116處的溫度。下文所述的這些調(diào)整和/或其它調(diào)整的關(guān)系用于針對表面116、預(yù)定深度114、內(nèi)部部分120、構(gòu)件106的其它合適部分以及它們的組合控制相對溫度，以及因此(控制)壓縮殘余應(yīng)力。再次參看圖I至圖2，在一個實(shí)施例中，可調(diào)整在金屬構(gòu)件106與感應(yīng)加熱器102 (或線圈(ー個或多個)110)之間的距離113。舉例而言，在一個實(shí)施例中，在感應(yīng)加熱器102 (或線圈(ー個或多個)110)與構(gòu)件106之間的距離113增加，從而形成在表面116 (參看圖9)、預(yù)定深度114 (參看圖9)、內(nèi)部部分120 (參看圖9)與它們的組合之間的更大溫度梯度，從而增加了壓縮殘余應(yīng)力。在一個實(shí)施例中，線圈110可從具有第一預(yù)定截面積(例如，大約15cm2)的第一位置定位到具有第二預(yù)定截面積(例如，大約225cm2)的第二位置。雖然僅示出和描述了本發(fā)明的某些特點(diǎn)和實(shí)施例，但本領(lǐng)域技術(shù)人員能想到許多修改和變化(例如，各種元件的大小、尺寸、結(jié)構(gòu)、形狀和比例，參數(shù)(例如，溫度、壓カ等)的值，安裝布置，材料使用，方位等的變化)而不會在實(shí)質(zhì)上偏離權(quán)利要求中所陳述的主題的新穎教導(dǎo)內(nèi)容和優(yōu)點(diǎn)。任何エ藝或方法步驟的次序或順序可根據(jù)備選實(shí)施例改變或重新排序。因此應(yīng)了解所附權(quán)利要求預(yù)期涵蓋屬于本發(fā)明的真實(shí)精神內(nèi)的所有這些修改和變化。此外，為了致カ于提供示例性實(shí)施例的簡潔描述，可能并沒有描述實(shí)際實(shí)施方式的所有特點(diǎn)(即，與目前設(shè)想到的實(shí)施本發(fā)明的最佳模式無關(guān)的那些或者與允許實(shí)現(xiàn)所主張的本發(fā)明無關(guān)的那些)。應(yīng)了解在任何這些實(shí)際實(shí)施方式的開發(fā)中，如在任何工程或設(shè)計(jì)項(xiàng)目中，可做出許多對實(shí)施方式而言具體的決策。這種開發(fā)努力可為復(fù)雜的且耗時的，但仍將是受益于本公開的本領(lǐng)域普通技術(shù)人員設(shè)計(jì)、制作和制造的常規(guī)任務(wù)而無需過度實(shí)驗(yàn)。
權(quán)利要求
1.一種表面處理系統(tǒng)，包括 感應(yīng)加熱器，布置且設(shè)置成在處于感應(yīng)處理模式中時加熱構(gòu)件以形成熱表面； 噴嘴裝置，定位成在處于流體施加模式中時以高于流體的空化壓カ的壓カ將所述流體施加到所述構(gòu)件的熱表面，以形成經(jīng)加工的表面； 其中，所述經(jīng)加工的表面包括壓縮殘余應(yīng)カ。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)加熱器被構(gòu)造為加熱所述流體。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)加熱器包括多于ー個感應(yīng)線圏。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)加熱器的布置形成腔室，所述腔室構(gòu)造成用于在該腔室內(nèi)定位所述構(gòu)件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述腔室基本上為圓柱形。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置同軸地定位于所述腔室內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置與所述感應(yīng)加熱器是一體的。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置被構(gòu)造為通過所述感應(yīng)加熱器來運(yùn)輸所述流體。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)加熱器包括選自由交流電流、電流密度以及它們的組合組成的組的可調(diào)整參數(shù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)加熱器包括選自由以下參數(shù)組成的組的可調(diào)整參數(shù)在所述構(gòu)件與所述感應(yīng)加熱器之間的距離，所述感應(yīng)加熱器的表面積以及它們的組合。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置包括選自由以下參數(shù)組成的組的可調(diào)整參數(shù)流體壓力、流體速度以及它們的組合。
12.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置包括選自由以下參數(shù)組成的組的可調(diào)整參數(shù)在所述構(gòu)件與所述噴嘴裝置之間的距離，所述噴嘴裝置中的第一噴嘴與第二噴嘴之間的距離，第一噴嘴的角度以及它們的組合。
13.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述流體包括磨料。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述磨料為碳化硅。
15.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)加熱器包括流體通路。
16.—種表面處理工藝,包括 提供構(gòu)件和系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括 感應(yīng)加熱器，布置和設(shè)置成加熱所述構(gòu)件以形成熱表面；以及 噴嘴裝置，定位成將流體施加到所述構(gòu)件的熱表面上； 通過所述感應(yīng)加熱器來以感應(yīng)的方式加熱所述構(gòu)件，從而形成所述熱表面；以及以高于所述流體的空化壓カ的壓カ由所述噴嘴裝置將所述流體施加到所述熱表面上，從而形成經(jīng)加工的表面； 其中，所述經(jīng)加工的表面包括壓縮殘余應(yīng)カ。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的エ藝，其特征在于，還包括利用所述感應(yīng)加熱器來加熱所述流體。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的エ藝，其特征在于，利用所述感應(yīng)加熱器來加熱所述流體由通過所述感應(yīng)加熱器中的通路運(yùn)輸所述流體來發(fā)生。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的エ藝，其特征在于，所述エ藝増加了所述構(gòu)件的抗微動疲勞性。
20.ー種表面處理的構(gòu)件，所述構(gòu)件包括經(jīng)加工的表面，所述經(jīng)加工的表面包括通過以感應(yīng)的方式加熱來形成熱表面且將流體施加到所述熱表面而形成的壓縮殘余應(yīng)力，其中所述經(jīng)加工的表面包括比所述構(gòu)件的內(nèi)部部分或未處理表面更強(qiáng)的抗微動疲勞性。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種表面處理系統(tǒng)、表面處理工藝和系統(tǒng)處理的構(gòu)件。公開了系統(tǒng)、工藝和構(gòu)件。該系統(tǒng)和工藝涉及感應(yīng)加熱器，其被布置和設(shè)置成加熱構(gòu)件以形成熱表面；和噴嘴裝置，其定位成施加流體到該熱表面上以形成構(gòu)件的經(jīng)加工的表面。該經(jīng)加工的表面包括壓縮殘余應(yīng)力，從而導(dǎo)致構(gòu)件的增加的抗疲勞性，包括抗微動疲勞性。
文檔編號C21D7/06GK102649994SQ20121005535
公開日2012年8月29日 申請日期2012年2月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月24日
發(fā)明者A·B·維特尼, M·馬泰 申請人:通用電氣公司