專利名稱：一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜及其鍍膜方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種手機(jī)觸摸屏玻璃面板的真空鍍膜，特別是涉及ー種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜及其鍍膜方法。
背景技術(shù)：
隨著近年來手機(jī)行業(yè)的飛速發(fā)展，功能已經(jīng)不是消費(fèi)者唯一追求的目標(biāo).手機(jī)外表也吸引著大眾的目光。因此，擁有金屬光澤和色彩的手機(jī)外殼及電容式觸摸屏玻璃觸摸面板發(fā)展成為手機(jī)裝飾不可取代的一部分。由于金屬或者金屬膜層的外殼會(huì)屏蔽手機(jī)發(fā)射的信號(hào)，所以，手機(jī)生產(chǎn)商希望能夠得到一種既擁有金屬效果又不會(huì)影響手機(jī)信號(hào)的手機(jī)外売，目前國內(nèi)真空鍍膜制備手機(jī)外殼不連續(xù)膜層的鍍膜方法，使用銦錫合金作為鍍膜原材料。如中華人民共和國專利申請(qǐng)第 201120065977. 3,201010258327. O 號(hào)均有所公開。為了整個(gè)手機(jī)外觀的協(xié)調(diào)美觀統(tǒng)一，鍍膜膜料銦錫合金鍍制到玻璃表面上附著力差、抗機(jī)械強(qiáng)度差，在鍍膜面上絲印油墨很容易碰傷鍍膜面，銦錫合金在制備在玻璃表面暴露在空氣中非常易氧化，氧化后的銦錫膜層會(huì)變顔色，不呈現(xiàn)銦錫合金本來中性的特色，不適合批量生產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供ー種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，薄膜附著力好、抗機(jī)械強(qiáng)度好、在鍍膜面上絲印油墨不會(huì)碰傷鍍膜面，制備エ藝穩(wěn)定、金屬質(zhì)感強(qiáng)、耐候性能好、膜層暴露空氣中長時(shí)間不容易氧化，適合批量化生產(chǎn)。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是ー種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜，設(shè)置于玻璃基板外側(cè)，所述的薄膜涂覆在玻璃基板上，薄膜從玻璃基板向外依次包括若干相互涂覆或粘覆的ニ氧化鈦膜層、ニ氧化硅膜層并交替設(shè)置。進(jìn)ー步的，所述的薄膜從靠近玻璃基板的一側(cè)依次包括ニ氧化鈦膜層、ニ氧化硅
膜層、ニ氧化鈦膜層、ニ氧化硅膜層、ニ氧化鈦膜層。進(jìn)ー步的，所述的薄膜的第一層ニ氧化鈦膜層厚度為108. 06 115. 30納米，第二層ニ氧化硅膜層厚度為89. 16 94. 5納米，第三層ニ氧化鈦膜層厚度為54. 03 57. 65納米，第四層ニ氧化硅膜層厚度為89. 16 94. 5納米，第五層ニ氧化鈦膜層厚度為54. 03 57. 65納米。進(jìn)ー步的，所述薄膜的中心波長為520 550納米。不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，步驟如下
步驟I、光學(xué)真空鍍膜制備銀白色薄膜
對(duì)真空度、玻璃基板的加熱溫度、鍍膜基板的旋轉(zhuǎn)頻率、電子槍的電壓、ニ氧化鈦的蒸發(fā)速率、ニ氧化硅的蒸發(fā)速率進(jìn)行設(shè)定；
依次在玻璃基板的表面鍍ニ氧化鈦膜層、ニ氧化硅膜層、ニ氧化鈦膜層、ニ氧化硅膜層、二氧化鈦膜層；
步驟2、對(duì)不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜進(jìn)行絲網(wǎng)印刷
對(duì)鍍膜后的玻璃產(chǎn)品進(jìn)行油墨絲網(wǎng)印刷，往絲網(wǎng)印刷網(wǎng)板上添加黑色油墨，把鍍膜后的玻璃產(chǎn)品放到印刷機(jī)的網(wǎng)板正下方的固定底座上，按下印刷機(jī)的自動(dòng)印刷開始開關(guān)，進(jìn)行自動(dòng)印刷，把印刷好的鍍膜玻璃產(chǎn)品放入烘烤箱烘烤；
步驟3、膜層褪膜
把褪鍍液倒入保溫箱，并加熱褪鍍液體，溫度控制在80°C恒溫，再把絲印好的鍍膜產(chǎn)品放入褪鍍液中并浸沒并浸泡，浸泡后取出產(chǎn)品放入干凈的清水中，再用清水沖洗干凈即獲得薄膜。進(jìn)一步的，步驟I所述的鍍膜真空度為I 5X10 _ 3帕，玻璃基板的加熱溫度為115 125°C，鍍膜基板的旋轉(zhuǎn)頻率為50Hz，電子槍的電壓為_6 10KV，二氧化鈦的蒸發(fā)速率為I 10埃/秒，二氧化硅的蒸發(fā)速率為5 20埃/秒。進(jìn)一步的，步驟2所述的烤箱內(nèi)的溫度設(shè)定為160 200度，烘烤時(shí)間為5 30分鐘。進(jìn)一步的，步驟3所述的浸泡時(shí)間為I 10分鐘。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是在光學(xué)真空鍍膜機(jī)上，利用二氧化鈦、二氧化硅作為鍍膜原料在玻璃表面制備銀白色不連續(xù)膜層，利用薄膜干涉原理，膜層附著力好、抗機(jī)械強(qiáng)度好、有利于批量生產(chǎn)。


圖I為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合實(shí)施例參照附圖進(jìn)行詳細(xì)說明，以便對(duì)本發(fā)明的技術(shù)特征及優(yōu)點(diǎn)進(jìn)行更深入的詮釋。如圖I所示，一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜，設(shè)置于玻璃基板外側(cè)，所述的薄膜涂覆在玻璃基板上，薄膜從靠近玻璃基板的一側(cè)依次包括二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層。其中，薄膜的第一層二氧化鈦膜層厚度108. 06 115. 30納米，第二層二氧化硅膜層厚度89. 16 94. 5納米，第三層二氧化鈦膜層厚度54. 03 57. 65納米，第四層二氧化硅膜層厚度89. 16 94. 5納米，第五層二氧化鈦膜層厚度54. 03 57. 65納米。薄膜的透射光波長為520 550納米。下面分三個(gè)實(shí)施例來詳細(xì)說明制備過程，按照薄膜透射光波長來劃分，分為520、535,550納米三個(gè)透射光波長的薄膜來說明。實(shí)施例I :
一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，該鍍膜方法是以環(huán)保鍍膜材料(二氧化鈦二氧化硅)作為原材料，并且引入光學(xué)真空鍍膜技術(shù)，根據(jù)手機(jī)電容式觸摸屏玻璃面板材料的具體特性，設(shè)計(jì)并優(yōu)化光學(xué)真空鍍膜技術(shù)的各項(xiàng)參數(shù)，經(jīng)驗(yàn)證可有效解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的，該鍍膜方法具體包括如下步驟
步驟一光學(xué)真空鍍膜制備銀白色薄膜(1)光學(xué)真空鍍膜機(jī)型號(hào)(聯(lián)合真空2050型鍍膜機(jī))
(2)膜系結(jié)構(gòu)玻璃基板/ニ氧化鈦/ ニ氧化硅/ ニ氧化鈦/ ニ氧化硅/ ニ氧化鈦/空
氣
(3)鍍膜エ藝的制備
膜系是規(guī)整膜系，參考波長(520納米)
第I層(ニ氧化鈦)膜厚108. 06納米 第2層(ニ氧化硅)膜厚89. 16納米 第3層(ニ氧化鈦)膜厚54. 03納米 第4層(ニ氧化硅)膜厚89. 16納米 第5層(ニ氧化鈦)膜厚54. 03納米 鍍膜真空度 (I. 0X10 _ 3帕)
基板加熱溫度(115±5°C)
鍍膜基板旋轉(zhuǎn)頻率(50Hz)
電子槍的電壓 (-6KV)
蒸發(fā)速率ニ氧化鈦(I埃/秒)
蒸發(fā)速率ニ氧化硅(5埃/秒)
步驟ニ絲網(wǎng)印刷
對(duì)鍍膜后的玻璃產(chǎn)品進(jìn)行油墨絲網(wǎng)印刷，往絲網(wǎng)印刷網(wǎng)板上添加黒色油墨，把鍍膜后的玻璃產(chǎn)品放到印刷機(jī)的網(wǎng)板正下方的固定底座上，按下印刷機(jī)的自動(dòng)印刷開始開關(guān)，進(jìn)行自動(dòng)印刷，把印刷好了的鍍膜玻璃產(chǎn)品放進(jìn)烘烤箱烘烤，烤箱內(nèi)的溫度設(shè)定在160度，烘烤的時(shí)間5分鐘。步驟三膜層褪膜
膜層褪鍍的目的把用了印刷油墨的膜層地方保護(hù)起來，暴露的膜層褪掉，エ藝過程把腿鍍液倒入保溫箱，并加熱褪鍍液體，溫度控制在80°C恒溫，再把絲印好了的鍍膜產(chǎn)品放入褪鍍液中并浸沒，浸泡的時(shí)間I分鐘后，取出產(chǎn)品后放入干凈的清水中，再用清水沖洗干凈。實(shí)施例2:
ー種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，該鍍膜方法是以環(huán)保鍍膜材料(ニ氧化鈦、ニ氧化硅)作為原材料，并且引入光學(xué)真空鍍膜技術(shù)，根據(jù)手機(jī)電容式觸摸屏玻璃面板材料的具體特性，設(shè)計(jì)并優(yōu)化光學(xué)真空鍍膜技術(shù)的各項(xiàng)參數(shù)，經(jīng)驗(yàn)證可有效解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的，該鍍膜方法具體包括如下步驟
步驟ー光學(xué)真空鍍膜制備銀白色薄膜
(1)光學(xué)真空鍍膜機(jī)型號(hào)(聯(lián)合真空2050型鍍膜機(jī))
(2)膜系結(jié)構(gòu)玻璃基板/ニ氧化鈦/ ニ氧化硅/ ニ氧化鈦/ ニ氧化硅/ ニ氧化鈦/空
氣
(3)鍍膜エ藝的制備
膜系是規(guī)整膜系，參考波長(535納米)
第I層(ニ氧化鈦)膜厚111. 67納米 第2層(ニ氧化硅)膜厚91. 83納米第3層(二氧化鈦)膜厚55. 83納米 第4層(二氧化硅)膜厚91. 83納米 第5層(二氧化鈦)膜厚55. 83納米 鍍膜真空度 (3. OX 10 _3Pa)
基板加熱溫度 (120°C)
鍍膜基板旋轉(zhuǎn)頻率(50Hz)
電子槍的電壓 (-8KV)
蒸發(fā)速率二氧化鈦(5埃/秒)
蒸發(fā)速率二氧化硅(12埃/秒)
步驟二 絲網(wǎng)印刷
對(duì)鍍膜后的玻璃產(chǎn)品進(jìn)行油墨絲網(wǎng)印刷，往絲網(wǎng)印刷網(wǎng)板上添加黑色油墨，把鍍膜后的玻璃產(chǎn)品放到印刷機(jī)的網(wǎng)板正下方的固定底座上，按下印刷機(jī)的自動(dòng)印刷開始開關(guān)，進(jìn)行自動(dòng)印刷，把印刷好了的鍍膜玻璃產(chǎn)品放進(jìn)烘烤箱烘烤，烤箱內(nèi)的溫度設(shè)定在180度恒溫，烘烤的時(shí)間15分鐘。步驟三膜層褪膜
膜層褪鍍的目的把用了印刷油墨的膜層地方保護(hù)起來，暴露的膜層褪掉，工藝過程把腿鍍液倒入保溫箱，并加熱褪鍍液體，溫度控制在80°C恒溫，再把絲印好了的鍍膜產(chǎn)品放入褪鍍液中并浸沒，浸泡的時(shí)間5分鐘后，取出產(chǎn)品后放入干凈的清水中，再用干凈的清水沖洗干凈。實(shí)施方式3
一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，該鍍膜方法是以環(huán)保鍍膜材料(二氧化鈦二氧化硅)作為原材料，并且引入光學(xué)真空鍍膜技術(shù)，根據(jù)手機(jī)電容式觸摸屏玻璃面板材料的具體特性，設(shè)計(jì)并優(yōu)化光學(xué)真空鍍膜技術(shù)的各項(xiàng)參數(shù)，經(jīng)驗(yàn)證可有效解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的，該鍍膜方法具體包括如下步驟
步驟一光學(xué)真空鍍膜制備銀白色薄膜
(1)光學(xué)真空鍍膜機(jī)型號(hào)(聯(lián)合真空2050型鍍膜機(jī))
(2)膜系結(jié)構(gòu)玻璃基板/二氧化鈦/ 二氧化硅/ 二氧化鈦/ 二氧化硅/ 二氧化鈦/空
氣
(3)鍍膜工藝的制備
膜系是規(guī)整膜系，參考波長(550納米)
第I層(二氧化鈦)膜厚115. 30納米 第2層(二氧化硅)膜厚94. 5納米 第3層(二氧化鈦)膜厚57. 65納米 第4層(二氧化硅)膜厚94. 5納米 第5層(二氧化鈦)膜厚57. 65納米 鍍膜真空度 (5. OX 10 _3Pa)
基板加熱溫度 (125°C)
鍍膜基板旋轉(zhuǎn)頻率(50Hz)
電子槍的電壓 (-10KV)蒸發(fā)速率二氧化鈦(10埃/秒)
蒸發(fā)速率二氧化硅(20埃/秒)
步驟二 絲網(wǎng)印刷
對(duì)鍍膜后的玻璃產(chǎn)品進(jìn)行油墨絲網(wǎng)印刷，往絲網(wǎng)印刷網(wǎng)板上添加黑色油墨，把鍍膜后的玻璃產(chǎn)品放到印刷機(jī)的網(wǎng)板正下方的固定底座上，按下印刷機(jī)的自動(dòng)印刷開始開關(guān)，進(jìn)行自動(dòng)印刷，把印刷好了的鍍膜 玻璃產(chǎn)品放進(jìn)烘烤箱烘烤，烤箱內(nèi)的溫度設(shè)定在200度恒溫，烘烤的時(shí)間30分鐘。步驟三膜層褪膜
膜層褪鍍的目的把用了印刷油墨的膜層地方保護(hù)起來，暴露的膜層褪掉，工藝過程把腿鍍液倒入保溫箱，并加熱褪鍍液體，溫度控制在80°C恒溫，再把絲印好了的鍍膜產(chǎn)品放入褪鍍液中并浸沒，浸泡的時(shí)間10分鐘后，取出產(chǎn)品后放入干凈的清水中，再用干凈的清水沖洗干凈。以上所述為本發(fā)明較佳的實(shí)施例，在不脫離本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思的前提下，任何顯而易見的替換均在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜，設(shè)置于玻璃基板外側(cè)，其特征在于所述的薄膜通過物理氣相沉淀在玻璃基板上，薄膜從玻璃基板向外依次包括若干相互膜層的二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層并交替設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜，其特征在于所述的薄膜從靠近玻璃基板的一側(cè)依次包括二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜，其特征在于所述的薄膜的第一層二氧化鈦膜層厚度為108. 06 115. 30納米，第二層二氧化硅膜層厚度為89. 16 94. 5納米，第三層二氧化鈦膜層厚度為54. 03 57. 65納米，第四層二氧化硅膜層厚度為89. 16 94. 5納米，第五層二氧化鈦膜層厚度為54. 03 57. 65納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜，其特征在于所述的薄膜的中心波長為520 550納米。
5.一種利用權(quán)利要求I 4中任一項(xiàng)所述的不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，其特征在于，所述薄膜的鍍膜方法步驟如下 步驟I、光學(xué)真空鍍膜制備銀白色薄膜 對(duì)真空度、玻璃基板的加熱溫度、鍍膜基板的旋轉(zhuǎn)頻率、電子槍的電壓、二氧化鈦的蒸發(fā)速率、二氧化硅的蒸發(fā)速率進(jìn)行設(shè)定； 依次在玻璃基板的表面鍍二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層； 步驟2、對(duì)不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜進(jìn)行絲網(wǎng)印刷 對(duì)鍍膜后的玻璃產(chǎn)品進(jìn)行油墨絲網(wǎng)印刷，往絲網(wǎng)印刷網(wǎng)板上添加黑色油墨，把鍍膜后的玻璃產(chǎn)品放到印刷機(jī)的網(wǎng)板正下方的固定底座上，按下印刷機(jī)的自動(dòng)印刷開始開關(guān)，進(jìn)行自動(dòng)印刷，把印刷好的鍍膜玻璃產(chǎn)品放入烘烤箱烘烤； 步驟3、膜層褪膜 把褪鍍液倒入保溫箱，并加熱褪鍍液體，溫度控制在80°C恒溫，再把絲印好的鍍膜產(chǎn)品放入褪鍍液中并浸沒并浸泡，浸泡后取出產(chǎn)品放入干凈的清水中，再用清水沖洗干凈即獲得薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，其特征在于步驟I所述的鍍膜真空度為I 5X 10 _ 3帕，玻璃基板的加熱溫度為115 125°C，鍍膜基板的旋轉(zhuǎn)頻率為50Hz，電子槍的電壓為-6 10KV，二氧化鈦的蒸發(fā)速率為2 4埃/秒，二氧化硅的蒸發(fā)速率為5-10埃/秒。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，其特征在于步驟2所述的烤箱內(nèi)的溫度為160 200度，烘烤時(shí)間為5 30分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，其特征在于步驟3所述的浸泡時(shí)間為I 10分鐘。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜及其鍍膜方法，所述的薄膜涂覆在玻璃基板上，薄膜從玻璃基板向外依次包括二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層；該薄膜的鍍膜方法包括光學(xué)真空鍍膜制備銀白色薄膜，對(duì)鍍膜后的產(chǎn)品進(jìn)行絲網(wǎng)印刷，最后進(jìn)行膜層褪膜。本發(fā)明薄膜附著力好、抗機(jī)械強(qiáng)度好，在鍍膜面上絲印油墨不會(huì)碰傷鍍膜面，制備工藝穩(wěn)定、金屬質(zhì)感強(qiáng)、耐候性能好、膜層暴露空氣中長時(shí)間不容易氧化，適合批量化生產(chǎn)。
文檔編號(hào)C23C14/08GK102615875SQ20121007810
公開日2012年8月1日 申請(qǐng)日期2012年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月22日
發(fā)明者龔玉根 申請(qǐng)人:東莞勁勝精密組件股份有限公司, 東莞華清光學(xué)科技有限公司