專利名稱：制備化學(xué)機(jī)械拋光層的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般地涉及制備拋光層的領(lǐng)域。具體地，本發(fā)明涉及用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層的制備方法。
背景技術(shù)：
在集成電路和其它電子器件的制造中，在半導(dǎo)體晶片的表面上沉積多層的導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體材料和介電材料，或者將這些材料層從半導(dǎo)體晶片的表面除去?？梢允褂迷S多沉積技術(shù)沉積導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體材料和介電材料的薄層?，F(xiàn)代加工中常用的沉積技術(shù)包括物理氣相沉積(PVD)(也稱為濺射)、化學(xué)氣相沉積(CVD)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)和電化學(xué)鍍覆(ECP)。當(dāng)材料層被依次沉積和除去吋，晶片的最上層表面變得不平。因為隨后的半導(dǎo)體 加工(例如鍍覆金屬)需要晶片具有平坦的表面，所以所述晶片需要被平面化。平面化可用來除去不合乎希望的表面形貌和表面缺陷，例如粗糙表面，團(tuán)聚材料，晶格破壞，劃痕和污染的層或材料?；瘜W(xué)機(jī)械平面化，或者化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是ー種用來對基材，例如半導(dǎo)體晶片進(jìn)行平面化的常用技木。在常規(guī)的CMP中，將晶片安裝在支架組件上，設(shè)置在與CMP設(shè)備中的拋光墊接觸的位置。所述支架組件為晶片提供可控制的壓力，將其壓向拋光墊。通過外界驅(qū)動カ使得拋光墊相對于晶片運動(例如轉(zhuǎn)動)。與此同時，在晶片和拋光墊之間提供化學(xué)組合物(“漿液”)或者其它的拋光溶液。從而，通過拋光墊表面以及漿液的化學(xué)作用和機(jī)械作用，對晶片表面進(jìn)行拋光使其變平。Reinhardt等的美國專利5，578，362號中掲示了ー種本領(lǐng)域已知的示例性的拋光墊。Reinhardt的拋光墊包含聚合基質(zhì)，在該聚合基質(zhì)中分散著微球體。通常，用液體聚合材料摻混并混合所述微球體，并轉(zhuǎn)移到模具中用于固化。本領(lǐng)域的技術(shù)人員通常是在轉(zhuǎn)移過程中最小化對模腔中物質(zhì)的擾動。為了實現(xiàn)該結(jié)果，通常將噴嘴開ロ的位置維持在相對于模腔截面的中央，可固化材料通過所述噴嘴開ロ加入到模腔中，且因為在模腔中收集可固化材料，所以所述噴嘴開ロ盡可能地固定在相對于可固化材料的頂表面。因此，噴嘴開ロ的位置通常僅在ー個維度上移動以維持在整個轉(zhuǎn)移過程中其設(shè)置高度位于模腔中的可固化材料的頂表面的上方。然后對模塑制品進(jìn)行切片以形成拋光層。不幸的是，以該方式制備的拋光層可能顯示出不合乎需求的缺陷(例如，密度缺陷)。所述密度缺陷表現(xiàn)為拋光層材料的堆積密度的變化。也就是說，具有較低填料濃度的區(qū)域(例如，Reinhardt拋光層中的微球體)。密度缺陷是不合乎希望的，因為認(rèn)為它們可能導(dǎo)致不可預(yù)知且可能有害的拋光層相互拋光性能的變化，以及單獨拋光層的使用壽命的變化。需要注意的是，不斷需要改進(jìn)用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層的制備方法，其中進(jìn)一歩最小化或者消滅了不合乎希望的密度缺陷的形成。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層的制備方法，該方法包括提供具有模底和四周壁的模具，其中所述模底和四周壁限定了模腔，其中所述模底沿著x_y平面定向，其中所述模腔具有中心軸Ctt，其垂直于x-y平面，且所述模腔具有環(huán)形孔區(qū)域和環(huán)形區(qū)域；提供液體預(yù)聚物材料；提供多種微要素；提供具有噴嘴開ロ的噴嘴；將所述液體預(yù)聚物材料與所述多種微要素結(jié)合以形成可固化混合物；在加料段CP時，通過噴嘴開ロ向模腔中加入可固化混合物，其中所述加料段CP分為三個獨立的相，記作初始相、轉(zhuǎn)變相以及剩余相；其中在加料段CP時，所述噴嘴開ロ的位置沿著模腔中心軸Ctt相對于模底移動，以在模腔中收集可固化混合物時將噴嘴開ロ的位置維持在所述可固化混合物的頂表面的上方；其中在初始相吋，噴嘴開ロ的位置位于環(huán)形孔區(qū)域內(nèi)；其中在轉(zhuǎn)變相時，所述噴嘴開ロ的位置從環(huán)形孔區(qū)域內(nèi)轉(zhuǎn)變?yōu)槲挥诃h(huán)形區(qū)域內(nèi)；其中在剰余相時，所述噴嘴開ロ的位置位于環(huán)形區(qū)域內(nèi)；使得可固化混合物在模腔內(nèi)固化成塊；以及從所述塊中得到拋光層。本發(fā)明還提供了用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層的制備方法，該方法包括提供具有模底和四周壁的模具，其中所述模底和四周壁限定了模腔，其中所述模底沿著x_y平面·定向，其中所述模腔具有中心軸Ctt，其垂直于x-y平面，且所述模腔具有環(huán)形孔區(qū)域和環(huán)形區(qū)域；提供液體預(yù)聚物材料；提供多種微要素；提供具有噴嘴開ロ的噴嘴；將所述液體預(yù)聚物材料與所述多種微要素結(jié)合以形成可固化混合物；在加料段CP時，通過噴嘴開ロ向模腔中加入可固化混合物，其中所述加料段CP分為三個獨立的相，記作初始相、轉(zhuǎn)變相以及剰余相；其中在加料段CP時，所述噴嘴開ロ的位置沿著模腔中心軸Ctt相對于模底移動，以在模腔中收集可固化混合物時將噴嘴開ロ的位置維持在所述可固化混合物的頂表面的上方；其中在初始相時，噴嘴開ロ的位置位于環(huán)形孔區(qū)域內(nèi)；其中在轉(zhuǎn)變相時，所述噴嘴開ロ的位置從環(huán)形孔區(qū)域內(nèi)轉(zhuǎn)變?yōu)槲挥诃h(huán)形區(qū)域內(nèi)；其中在剰余相時，所述噴嘴開ロ的位置位于環(huán)形區(qū)域內(nèi)；使得可固化混合物在模腔內(nèi)固化成塊；以及從所述塊中得到拋光層；其中所述模腔近似為具有基本上為圓形截面Cx_sert的正圓柱形區(qū)域；其中所述模腔具有對稱軸Cx-sym，該對稱軸Cx_sym與模腔的中心軸Ctt重合；其中所述具有截面積CX_BW的正圓柱形區(qū)域，該截面積CX_BW定義如下Cx-HW=31rC2, 其中r。是模腔截面積CX_BW的平均半徑，投射在X-y平面上；其中所述環(huán)形孔區(qū)域是在模腔內(nèi)的正圓柱形區(qū)域，該正圓柱形區(qū)域在x-y平面上投射了圓形截面DH_t，且具有對稱軸DHtt ;其中所述環(huán)形孔具有截面積DHX_BW，該截面積DHX_BW定義如下DHX_ 面積=Ti rDH2,其中rDH是環(huán)形孔區(qū)域的圓形截面積DHx_sert的半徑；其中所述環(huán)形區(qū)域是模腔中的圓環(huán)形區(qū)域，該圓環(huán)形區(qū)域在x-y平面上投射了環(huán)形截面D^t，且具有環(huán)形區(qū)域?qū)ΨQ軸Dtt ;其中所述環(huán)形截面Dft具有截面積DX_BW，該截面積定義如下Dx_ 面積=Rd2- rD2其中Rd是環(huán)形區(qū)域的環(huán)形截面Dx_S6C;t的較大半徑；其中rD是環(huán)形區(qū)域的環(huán)形截面D^t的較小半徑；其中rD彡rDH ;其中RD>rD ;其中RD〈rc.;其中每ー個Cx_sym、DH#以及1 垂直于x-y平面；其中在加料段CP吋，以基本恒定的速率將可固化混合物加入到模腔中，平均加料速率CRavg為0. 015至2kg/秒；其中rD=rDH ;其中rD為5至25mm ;其中Rd為20至IOOmm ；其中r。為20至IOOcm ；以及，使用本發(fā)明方法制備的塊相較于另ー個塊含有較少密度缺陷，所述另ー個塊使用相同的方法制備，不同之處在于在加料段CP吋，噴嘴開ロ的位置僅沿著模腔中心軸Ctt在一個維度移動。


圖I是具有模腔的模具的透視俯視/側(cè)視圖，該模腔具有基本上為圓形的截面。圖2是具有模腔的模具的透視俯視/側(cè)視圖，該模腔具有基本上為圓形的截面，在模腔中所述基本為圓形的截面顯示為環(huán)形孔區(qū)域 和環(huán)形區(qū)域。圖3為圖2所示的環(huán)形孔區(qū)域和環(huán)形區(qū)域的俯視圖。圖4a是具有基本上為圓形截面和設(shè)置在其中的噴嘴的模腔的透視俯視/側(cè)視圖，其中所述模腔被可固化混合物部分填充。圖4b是圖4a中所示模腔的側(cè)面正視圖。圖5a是具有基本上為圓形截面和環(huán)形孔區(qū)域以及環(huán)形區(qū)域的模腔的透視俯視/側(cè)視圖，并顯示了多個示例性初始相和轉(zhuǎn)變相路徑。圖5b是圖5a中所示模腔的側(cè)面正視圖。圖5c是圖5a中所示的模腔的俯視圖，顯示了投射到x_y平面上的圖5a中所示的初始相和轉(zhuǎn)變相路徑。圖6a是具有基本上為圓形截面和環(huán)形孔區(qū)域以及環(huán)形區(qū)域的模腔的透視俯視/側(cè)視圖，并顯示了示例性剰余相路徑。圖6b是圖6a中所示模腔的側(cè)面正視圖。圖6c是圖6a中所示的模腔的俯視圖，顯示了投射到x_y平面上的圖6a中所示的剰余相路徑。圖7a是噴嘴開ロ的平面圖，其中所述噴嘴開ロ是圓形的。圖7b是噴嘴開ロ的平面圖，其中所述噴嘴開ロ非圓形的。
具體實施例方式令人驚訝的是，發(fā)現(xiàn)在用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層的制備中，相對于通過噴嘴開ロ位置僅沿著模腔中心軸( 在一個維度移動的相同方法制備的拋光層，當(dāng)向模腔中加入可固化混合物吋，噴嘴開ロ(通過其向模腔中加料可固化混合物)的位置在三個維度移動，沿著中心軸( 移動以及圍繞中心軸Ctt移動，顯著降低了制備的拋光層中密度缺陷的發(fā)生。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“加料段或者CP”指的是可固化材料加入到模腔中的時間段(単位秒)，從最先的可固化材料被引入到模腔中開始直至最后的可固化材料被引入到模腔中。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“加料速率或者CR”指的是在加料段CP (單位秒)時加入到模腔的可固化材料的質(zhì)量流速(單位kg/秒)。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“初始相起始點或者SPIP”指的是加料段的初始相開始時噴嘴開ロ的位置，所述加料段的初始相開始時與加料段的開始時重合。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“初始相終止點或者EPIP”指的是加料段的初始相終止時噴嘴開ロ的位置，所述加料段的初始相終止緊接在加料段的轉(zhuǎn)變相的開始之前。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“初始相路徑”指的是在加料段的初始相吋，從初始相起始點SPip到初始相終止點EPip時的噴嘴開ロ位置的移動路徑(如果有的話)。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“轉(zhuǎn)變相起始點或者SPTP”指的是在加料段的轉(zhuǎn)變相的開始時噴嘴開ロ的位置。 所述轉(zhuǎn)變相起始點SPtp與初始相終止點EPip處于相同的位置。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“轉(zhuǎn)變相轉(zhuǎn)變點或者TPtp”指的是在加料段轉(zhuǎn)變相時噴嘴開ロ的位置，在所述加料段轉(zhuǎn)變相時噴嘴開ロ的位置的移動方向相對于模腔中心軸Ctt發(fā)生變化(例如，移動方向為X和y維度)。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“轉(zhuǎn)變相終止點或者EPtp”指的是模腔的環(huán)形區(qū)域中噴嘴開ロ的最先的位置，其中噴嘴開ロ的位置的移動方向相對于模腔中心軸( 發(fā)生變化。所述轉(zhuǎn)變相終止點EPtp還是加料段轉(zhuǎn)變相終止時噴嘴開ロ的位置，所述加料段轉(zhuǎn)變相終止緊接在加料段剩余相之前。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“轉(zhuǎn)變相路徑”指的是在加料段的轉(zhuǎn)變相吋，從轉(zhuǎn)變相起始點SPtp到轉(zhuǎn)變相終止點EPtp時的噴嘴開ロ位置經(jīng)過的路徑。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“剰余相起始點或者SPKP”指的是在加料段的剰余相的開始時噴嘴開ロ的位置。所述剩余相起始點SPkp與轉(zhuǎn)變相終止點EPtp處于相同的位置。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“剰余相轉(zhuǎn)變點或者TPkp”指的是加料段的剰余相時噴嘴開ロ的位置，其中噴嘴開ロ的位置的移動方向相對于模腔中心軸Ctt發(fā)生變化。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“初始相終止點或者EPkp”指的是加料段的剰余相終止時噴嘴開ロ的位置，所述加料段的剰余相終止時與加料段的終止時重合。本文以及所附權(quán)利要求中所用的術(shù)語“剰余相路徑”指的是在加料段的剰余相吋，從剩余相起始點SPkp到剩余相終止點EPkp時的噴嘴開ロ位置經(jīng)過的路徑。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“聚(氨酷)”包括(a)通過(i)異氰酸酯與
(ii)多元醇(包括ニ醇)反應(yīng)形成的聚氨酷；以及(b)通過(i)異氰酸酯與(ii)多元醇(包括ニ醇)和(iii)水、胺或者水與胺的組合反應(yīng)形成的聚(氨酷)。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“基本恒定”涉及加料段時可固化混合物的加料速率，其滿足以下表達(dá)式CRfflax ^ (I. l*CRavg)CRmin 彡(0. 9*CRavg)其中CRniax是在加料段時，加入到模腔的可固化材料的最大質(zhì)量流速(單位kg/秒);其中CRmin是在加料段時，加入到模腔的可固化材料的最小質(zhì)量流速(単位kg/秒);其中CRavg是在加料段時加入到模腔的可固化材料的總質(zhì)量(単位kg)除以所述加料段的長度(單位秒)。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“凝膠時間”涉及可固化混合物，指的是該混合物的總固化時間，根據(jù)ASTM D3795-00a (再批準(zhǔn)2006)(使用扭轉(zhuǎn)流變儀的用于可澆注熱固性材料的熱流、固化以及行為特性的標(biāo)準(zhǔn)測試方法)的標(biāo)準(zhǔn)測試方法來測定所述總固化時間。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“基本上為圓形截面”涉及模腔(20)，指的是投射到x-y平面(30)上的模腔(20)的模腔中心軸Ctt(22)到四周壁(15)的垂直內(nèi)部邊界(18)的最長半徑比投射到x-y平面(30)上的模腔(20)的模腔中心軸C#(22)到四周壁
(15)的垂直內(nèi)部邊界(18)最短半徑1^長< 20%。(見圖I)。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“模腔”指的是通過模底(12)的水平內(nèi)部邊界(14)和四周壁(15)的垂直內(nèi)部邊界(18)限定的體積。(見圖1-2)。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“基本上垂直”涉及第ー特征(例如，水平內(nèi)部邊界；垂直內(nèi)部邊界)相對于第二特征(例如，軸、x-y平面)，指的是所述第一特征與所述第 ニ特征的角度為80至100°。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“基本垂直”涉及第ー特征(例如，水平內(nèi)部邊界；垂直內(nèi)部邊界)相對于第二特征(例如，軸、x-y平面)，指的是所述第一特征與所述第二特征的角度為85至95°。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“密度缺陷”指的是相對于余下的拋光層，拋光層中具有顯著降低的填料濃度的區(qū)域。密度缺陷是將拋光層放置在測光臺上時人裸眼視覺可觀察到，其中所述密度缺陷顯示為相較于余下的拋光層，具有顯著較高透明度的區(qū)域。本文以及所附權(quán)利要求中所用術(shù)語“噴嘴開ロ半徑或者!^”涉及噴嘴開ロ，指的是可以完全遮蓋噴嘴開ロ的最小圓形SC的半徑！^。也就是說，&=1^。為了說明的目的，見圖7a和7b。圖7a是被半徑為rsc； (64a)的最小圓形SC (63a)完全遮蓋的噴嘴開ロ(62a)的平面圖；其中所述噴嘴開ロ是圓形的。圖7b是被半徑為rs。(64b)的最小圓形SC (63b)完全遮蓋的噴嘴開ロ(62b)的平面圖；其中所述噴嘴開ロ是非圓形的。優(yōu)選地，rN()為5至13_。更優(yōu)選地，rN0為8至10_。本發(fā)明的方法中所用的模具(10)的模底(12)限定了模腔(20)的水平內(nèi)部邊界
(14)。(參見，例如圖1-2)。優(yōu)選地，模腔(20)的水平內(nèi)部邊界(14)是平的。更優(yōu)選地，所述模腔(20)的水平內(nèi)部邊界(14)是平的且基本上垂直于模腔的中心軸C#。最優(yōu)選地，所述模腔(20)的水平內(nèi)部邊界(14)是平的且基本垂直于模腔的中心軸C#。本發(fā)明的方法中所用的模具(10)的四周壁(15)限定了模腔(20)的垂直內(nèi)部邊界
(18)。(參見，例如圖1-2)。優(yōu)選地，所述四周壁限定的模腔(20)的垂直內(nèi)部邊界(18)基本上垂直于x-y平面(30)。更優(yōu)選地，所述四周壁限定的模腔(20)的垂直內(nèi)部邊界(18)基本垂直于x-y平面(30)。模腔(20)具有中心軸( (22)，其與z軸重合且與模底(12)的水平內(nèi)部邊界(14)在中心點(21)相交。優(yōu)選地，所述中心點(21)位于投射在x-y平面(30)上的模腔(20)的截面Cx_sert (24)的幾何中心。(參見，例如圖1-3)。投射在x-y平面上的模腔的截面Cx_sert可以是任意規(guī)則或不規(guī)則ニ維形狀。優(yōu)選地，所述模腔的截面Cft選自多邊形和橢圓形。更優(yōu)選地，所述模腔的截面Cft是具有平均半徑r。(優(yōu)選地,所述r。為20至IOOcm ;更優(yōu)選地，所述r。為25至65cm ;最優(yōu)選地，所述r。為40至60cm ；)的基本上為圓形的截面。最優(yōu)選地，所述模腔近似為具有基本上為圓形截面C^t的正圓柱形狀區(qū)域；其中所述模腔具有與模腔的中心軸( 重合的對稱軸Cx-sym ;其中所述正圓柱形狀區(qū)域具有截面積cx_BW，該截面積定義如下Cx_ 面積= nrc2,其中r。是投射在x-y平面上的模腔的截面積CX_BW的平均半徑；其中r。為20至IOOcm (更優(yōu)選為25至65c m ;最優(yōu)選為40至60cm)。所述模腔(20)具有環(huán)形孔區(qū)域(40)和環(huán)形區(qū)域(50)。(參見，例如圖2-3)。優(yōu)選地，模腔(20)的環(huán)形孔區(qū)域(40)是模腔(20)內(nèi)的正圓柱形區(qū)域，所述模腔
(20)投射到x-y平面(30)上為圓形截面DHx_seet (44)且具有對稱性的環(huán)形孔區(qū)域軸DH軸
(42);其中所述DHtt與模腔的中心軸Ctt以及z軸重合。(參見，例如圖2-3)。環(huán)形孔區(qū)域
(40)的圓形截面DHft (44)具有截面積DHX_BW，該截面積定義如下DHX_ 面積=ii rDH2,其中rDH是環(huán)形孔區(qū)域的圓形截面DHx_seet(44)的半徑(46)。優(yōu)選地，其中rDH彡rN0(更優(yōu)選地，所述rDH為5至25mm ;最優(yōu)選地,所述rDH為8至15mm)。優(yōu)選地，模腔(20)的環(huán)形區(qū)域(50)是模腔(20)內(nèi)的圓環(huán)形區(qū)域，所述模腔(20)投射到x-y平面(30)上為環(huán)形截面Dx_sert (54)且具有對稱性的環(huán)形區(qū)域軸Dtt (52);其中所述Dtt與模腔的中心軸Ctt以及z軸重合。(參見，例如圖2-3)。環(huán)形區(qū)域(50)的環(huán)形截面Dft (54)具有截面積DX_BW，該截面積定義如下Dx_面積=ii Rd2- ii rD2,其中Rd是環(huán)形區(qū)域的環(huán)形截面積D^t的較大半徑(56);其中rD是環(huán)形區(qū)域的環(huán)形截面積Dft的較小半徑(58);其中rD ^ rDH ;其中RD>rD ;且RD〈rc。優(yōu)選地，其中rD彡rDH且rD為5至25mm。更優(yōu)選地,其中rD彡rDH且rD為8至15mm。優(yōu)選地,其中rD彡rDH ;其中RD>rD ；Rd彡(K*rc)，且K為0. 01至0. 2 (更優(yōu)選地，其中K為0. 014至0. I ;最優(yōu)選地，其中K為0. 04至0. 086)。更優(yōu)選地，其中rD彡rDH ;其中RD>rD ；RD為20至IOOmm (更優(yōu)選地，其中Rd為20至80mm ;最優(yōu)選地，其中Rd為25至50mm)。加料段CP的長度(單位秒)可顯著地變化。例如，加料段CP的長度取決于模腔的尺寸，平均加料速率CRavg以及可固化混合物的性質(zhì)(例如，凝膠時間)。優(yōu)選地，加料段CP為60至900秒(更優(yōu)選為60至600秒，最優(yōu)選為120至360秒)。通常地，所述加料段CP受到可固化混合物的凝膠時間的限制。優(yōu)選地，所述加料段CP小于或等于加入到模腔中的可固化混合物的凝膠時間。更優(yōu)選地，所述加料段CP小于可固化混合物的凝膠時間?？梢栽诩恿隙蜟P過程中改變加料速率CR (單位kg/秒)。例如，所述加料速率CR可以是間歇的。也就是說，在加料段過程中，加料速率CR可以一次或多次暫時地下降為零。優(yōu)選地，在加料段過程中，以基本恒定的速率向模腔中加入可固化混合物。更優(yōu)選地，在加料段CP過程中，以基本恒定的速率向模腔中加入可固化混合物，平均加料速率CRavg為0. 015至2kg/秒(更優(yōu)選為，0. 015至Ikg/秒；最優(yōu)選為0. 08至0. 4kg/秒)。加料段CP分為三個獨立相，記作初始相、轉(zhuǎn)變相和剰余相。初始相的開始與加料段CP的開始重合。初始相的終止緊接在轉(zhuǎn)變相的開始之前。轉(zhuǎn)變相的終止緊接在剩余相的開始之前。剩余相的終止與加料段CP的終止重合。在加料段CP時噴嘴發(fā)生移動或者變形(例如，伸縮)，從而噴嘴開ロ的位置在三個維度移動。在加料段CP時噴嘴(60)發(fā)生移動或者變形(例如，伸縮)，從而在加料段CP時噴嘴開ロ(62)的位置沿著模腔的中心軸C#(122)相對于模底(112)移動，從而當(dāng)在模腔(120 )中收集可固化混合物(70 )時，將所述噴嘴開ロ( 62 )的位置維持在可固化混合物(70 )的頂表面(72)的上方。(見圖4a和4b)。優(yōu)選地，在加料段CP時噴嘴開ロ(62)的位置沿著模腔的中心軸C#(122)相對于模底(112)移動，從而當(dāng)在模腔(120)中收集可固化混合物
(70)吋，將所述噴嘴開ロ(62)的位置維持在可固化混合物(70)的頂表面(72)上方的高度
(65);其中所述高度>0至30mm (更優(yōu)選地，>0至20mm ;最優(yōu)選地，>5至10mm)。(見圖4b)。在加料段吋，噴嘴開ロ在沿著模腔的中心軸( 運動時(即，其在z維度的運動)，噴嘴開ロ的位置可以短暫地停頓。優(yōu)選地，在噴嘴開ロ相對于模腔的中心軸Ctt運動時，在每一個轉(zhuǎn)變相的轉(zhuǎn)變點TPtp (如果有的話)以及每一個剩余相的轉(zhuǎn)變點TPkp處短暫地停頓(S卩，噴嘴開ロ的位置短暫地停止在z維度的移動)。在加料段的整個初始相中(S卩，初始相的持續(xù)時間)，噴嘴開ロ的位置位于模腔的 環(huán)形孔區(qū)域中。所述嗔嘴開ロ的位直在整個初始相中可以保持固定，其中在初始相起始點SPip和初始相終止點EPip為相同位置(即，SPip=EPipX優(yōu)選地，當(dāng)SPip=EPip時，初始相長度為>0至90秒(更優(yōu)選長度為>0至60秒；最優(yōu)選長度為>5至30秒)。最優(yōu)選地，從加料段的初始相的開始直至模腔中的可固化混合物的頂表面開始上升的轉(zhuǎn)變相開始時，噴嘴開ロ的位置保持固定；其中所述初始相起始點SPip (80)和初始相終止點EPip (81a)(其與轉(zhuǎn)變相起始點SPtp (82a)重合)時是處于沿著中心軸C#(222)的模腔的(220)的環(huán)形孔區(qū)域
(140)中的相同位置。優(yōu)選地，所述環(huán)形孔區(qū)域(140)是正圓形圓柱體；且所述環(huán)形孔的對稱軸DH軸(142)與模腔的中心軸C_(222)以及z軸重合。(見圖5a_5c)。在初始相時可以移動所述噴嘴開ロ的位置，其中在初始相起始點SPip和初始相終止點EPip為不同位置(SP，SPipデEPipX優(yōu)選地，當(dāng)SPipデEPip時，初始相為>0至(CP-10. 02)秒；其中所述CP為加料段，單位為秒。更優(yōu)選地，當(dāng)SPip幸EPip時；初始相為>0至(CP-30)秒；其中所述CP為加料段，單位為秒。最優(yōu)選地，在加料段的初始相時，當(dāng)模腔(220)中的可固化材料的頂表面上升吋，噴嘴開ロ的位置優(yōu)選在模腔(220)的環(huán)形孔區(qū)域(140)內(nèi)沿著模腔的中心軸C#(222)從初始相起始點SPip (80)向初始相終止點EPip (81b)(其與轉(zhuǎn)變相的起始點SPtp (82b)重合)移動，從而當(dāng)在加料段的初始相過程中在模腔(220)中收集可固化材料時，將所述噴嘴開ロ的位置維持在可固化材料的頂表面的上方的高度。(見圖5a-5c)。在加料段的轉(zhuǎn)變相吋，噴嘴開ロ的位置從模腔環(huán)形孔區(qū)域中的點移動到環(huán)形區(qū)域中的點。優(yōu)選地，轉(zhuǎn)變相為0. 02至30秒(更優(yōu)選地，0. 2至5秒；最優(yōu)選地，0. 6至2秒)。優(yōu)選地，在轉(zhuǎn)變相時，以10至70mm/秒(更優(yōu)選為15至35mm/秒,最優(yōu)選為20至30mm/秒)的平均速度相對于模腔的中心軸C 移動噴嘴開ロ的位置。優(yōu)選地，在噴嘴開ロ相對于模腔的中心軸Ctt運動時，所述噴嘴開ロ的位置的移動在每一個轉(zhuǎn)變相的轉(zhuǎn)變點TPtp (如果有的話)以及轉(zhuǎn)變相的終止點EPtp短暫地停頓(例如，短暫地停止在X和y維度的移動)。優(yōu)選地，在轉(zhuǎn)變相吋，噴嘴開ロ的位置相對于模腔的中心軸Ctt以恒定的速度從轉(zhuǎn)變相起始點SPtp經(jīng)過任意轉(zhuǎn)變相轉(zhuǎn)變點TPtp移動到轉(zhuǎn)變相終止點EPtp。優(yōu)選地，在轉(zhuǎn)變相吋，噴嘴開ロ的位置從轉(zhuǎn)變相起始點SPtp經(jīng)過多個轉(zhuǎn)變相轉(zhuǎn)變點TPtp移動到轉(zhuǎn)變點終止點EPtp ;其中投射到x-y平面上的轉(zhuǎn)變相路徑近似為曲線(更優(yōu)選地，所述轉(zhuǎn)變相路徑近似為螺旋緩和曲線)。最優(yōu)選地，在轉(zhuǎn)變相吋，噴嘴開ロ的位置從轉(zhuǎn)變相的起始點SPtp直接移動到轉(zhuǎn)變相的終止點EPtp ;其中投射到x-y平面上的轉(zhuǎn)變相的路徑為直線。圖5a_5c顯示了的模腔(220)中三條不同的轉(zhuǎn)變相路徑，所述模腔(220)具有中心軸C軸(222);具有對稱軸DH軸(142)的正圓柱形環(huán)形孔區(qū)域(140);以及具有對稱軸D軸(152)的圓環(huán)形環(huán)形區(qū)域(150);其中所述模腔的中心軸C#(222)、環(huán)形孔的對稱軸DH#(142)和環(huán)形的對稱軸D#(152)分別與z軸重合。圖5a-5c中所示的第一轉(zhuǎn)變相路徑從模腔(220)的環(huán)形孔區(qū)域(140)內(nèi)的轉(zhuǎn)變相起始點SPtp (82a)開始，直接到達(dá)模腔(220)的環(huán)形區(qū)域(150)內(nèi)的轉(zhuǎn)變相終止點EPtp (89);其中轉(zhuǎn)變相路徑83a投射到x-y平面(130)上是單ー的直線(84)。圖5a-5c中所示的第二轉(zhuǎn)變相路徑從模腔(220)的環(huán)形孔區(qū)域(140)內(nèi)的轉(zhuǎn)變相起始點SPtp (82b)開始，直接到達(dá)模腔(220)的環(huán)形區(qū)域(150)內(nèi)的轉(zhuǎn)變相終止點EPtp(89);其中轉(zhuǎn)變相路徑83b投射到x-y平面(130)上是單ー的直線(84)。圖5a_5c中所示的第三轉(zhuǎn)變相路徑從環(huán)形孔區(qū)域(140)內(nèi)的轉(zhuǎn)變相起始點SPtp (82a)開始；經(jīng)過環(huán)形孔區(qū)域(140)內(nèi)的轉(zhuǎn)變相轉(zhuǎn)變點TPtp (88)轉(zhuǎn)變；然后到達(dá)位于環(huán)形區(qū)域(150)內(nèi)的轉(zhuǎn)變相終止點EPtp (89);其中，轉(zhuǎn)變相路徑(85)投射到x-y平面(130)上是ー對連接的線(87)。應(yīng)注意，所述轉(zhuǎn)變相終止點EPtp (89)對應(yīng)于剩余相起始點SPkp (90)(即，它們是相同的位置)。在加料段的剩余相時，噴嘴開ロ的位置位于環(huán)形區(qū)域內(nèi)(例如，在加料段的剩余相的一部分時，所述噴嘴開ロ的位置可以通過或者位于環(huán)形孔區(qū)域內(nèi))。優(yōu)選地，在整個加料·段的剰余相(即，剰余相的持續(xù)時間)時，所述噴嘴開ロ的位置位于環(huán)形區(qū)域中。優(yōu)選地，所述剩余相> 10秒。更優(yōu)選地，剩余相為10至〈(CP-0. 2)秒；其中所述CP為加料段，單位為秒。更優(yōu)選地，剰余相為30至〈(CP-0. 2)秒；其中所述CP為加料段，單位為秒。最優(yōu)選地，剩余相為0. 66*CP至〈(CP-0. 2)秒；其中所述CP為加料段，單位為秒。優(yōu)選地，在剩余相時，以10至70mm/秒(更優(yōu)選為15至35mm/秒,最優(yōu)選為20至30mm/秒)的平均速度相對于模腔的中心軸Ctt移動噴嘴開ロ的位置。優(yōu)選地，在每ー個剰余相轉(zhuǎn)變點TPkp處，噴嘴開ロ位置相對于模腔的中心軸Ctt的運動短暫地停頓(S卩，噴嘴開ロ的位置可短暫地停止在X和y維度的移動)。優(yōu)選地，在剰余相吋，噴嘴開ロ的位置相對于模腔的中心軸Ctt以恒定的速度從剩余相起始點SPkp經(jīng)過每一個剩余相轉(zhuǎn)變點TPkp。優(yōu)選地，在剰余相吋，噴嘴開ロ的位置從剩余相起始點SPkp移動經(jīng)過多個剩余相轉(zhuǎn)變點TPkp ;其中剩余相路徑投射到x-y平面上是一系列連接的線。優(yōu)選地，所述剩余相轉(zhuǎn)變點TPkp都位于模腔的環(huán)形區(qū)域內(nèi)。優(yōu)選地，剰余相路徑投射到x-y平面上的一系列連接的線近似為圓形或者與模腔的中心軸Ctt具有不同距離的ニ維螺旋線。優(yōu)選地，所述剩余相路徑投射到x-y平面上的一系列連接的線近似為ニ維螺旋線，其中投射到x-y平面上的連續(xù)的剰余相轉(zhuǎn)變點TPkp距離模腔的中心軸( 的距離增加或減少。更優(yōu)選地，剰余相路徑投射到x-y平面上的一系列連接的線近似為圓形，其中投射到x-y平面上的連續(xù)的剰余相轉(zhuǎn)變點TPkp距離模腔的中心軸Ctt的距離相同，且所述剰余相路徑投射到x-y平面上的一系列連接的線是正多邊形(例如，等邊多邊形或者等角多邊形)。優(yōu)選地，所述正多邊形具有>5個邊(更優(yōu)選>8個邊；最優(yōu)選> 10個邊；優(yōu)選< 100個邊；更優(yōu)選< 50個邊；最優(yōu)選< 200個邊)。最優(yōu)選地，所述剩余相路徑近似為螺旋線。也就是說，在剰余相吋，噴嘴開ロ的位置沿著模腔的中心軸( 移動，以維持所需的高于在模腔中收集的可固化混合物的頂表面的高度，而所述噴嘴開ロ的位置同時描繪出投射到x-y平面上的正多邊形的路徑(優(yōu)選地，所述正多邊形具有5至100個邊；更優(yōu)選地，具有5至50個邊；更優(yōu)選地，具有8至25個邊；最優(yōu)選地，具有8至15個邊)。圖6a_6c顯示了的模腔(220)中的近似為螺旋線的一部分優(yōu)選的剰余相路徑；所述模腔(220)具有中心軸C_(222);具有對稱軸DH軸(142)的正圓柱形環(huán)形孔區(qū)域(140)；以及具有對稱軸D#(152)的圓環(huán)形環(huán)形區(qū)域(150);其中所述模腔的中心軸C#(222)、環(huán)形孔的對稱軸DH軸(142)和環(huán)形的對稱軸D軸(152)分別與z軸重合。剩余相路徑(95)從模腔(220)的環(huán)形區(qū)域(150)內(nèi)的剰余相起始點SPkp (90)開始，經(jīng)過模腔(220)的環(huán)形區(qū)域(150)內(nèi)多個剩余相轉(zhuǎn)變點TPkp (92);其中所有的剰余相轉(zhuǎn)變點TPkp與模腔的中心軸C軸(222)的距離相同；且所述剩余相路徑(95)投射到x-y平面(130)上是形成了等十邊形
(100)的十條等長直線(97)。應(yīng)注意，所述剩余相起始點SPkp (90)對應(yīng)于轉(zhuǎn)變相終止點EPtp (89)(即，它們是相同的位置)?？晒袒旌衔飪?yōu)選包含液體預(yù)聚物材料以及多種微要素，其中所述多種微要素均勻分散在所述液體預(yù)聚物材料中。優(yōu)選聚合(例如，固化)所述液體預(yù)聚物材料以形成如下材料 聚(氨酷)、聚砜、聚醚砜、尼龍、聚醚、聚酯、聚苯こ烯、丙烯酸類聚合物、聚脲、聚酰胺、聚氯こ烯、聚氟こ烯、聚 こ烯、聚丙烯、聚丁ニ烯、聚こ烯亞胺、聚丙烯腈、聚環(huán)氧こ烷、聚烯烴、聚(烷基)丙烯酸酷、聚(烷基)甲基丙烯酸酷、聚酰胺、聚醚酰亞胺、聚酮、環(huán)氧化物、硅酮、こ烯丙烯ニ烯單體形成的聚合物、蛋白質(zhì)、多糖、聚こ酸酯以及上述至少兩個的組合。優(yōu)選地，聚合所述液體預(yù)聚物材料以形成包含聚(氨酷)的材料。更優(yōu)選地，聚合所述液體預(yù)聚物材料以形成包含聚氨酷的材料。最優(yōu)選地，聚合(固化)所述液體預(yù)聚物材料以形成聚氨酷。優(yōu)選地，所述液體預(yù)聚物材料包含含有多異氰酸酯的材料。更優(yōu)選地，所述液體預(yù)聚物材料包含多異氰酸酯(例如ニ異氰酸酷)與含羥基材料的反應(yīng)產(chǎn)物。優(yōu)選地，所述多異氰酸酯選自亞甲基雙4，4'-環(huán)己基異氰酸酷；環(huán)己基ニ異氰酸酯；異佛爾酮ニ異氰酸酯；六亞甲基ニ異氰酸酯；亞丙基-1，2_ ニ異氰酸酷；四亞甲基-1，4_ニ異氰酸酯山6-六亞甲基-ニ異氰酸酯；十ニ烷-1，12-ニ異氰酸酯；環(huán)丁烷-1，3_ ニ異氰酸酯；環(huán)己烷-1，3-ニ異氰酸酯；環(huán)己烷-1，4-ニ異氰酸酯；1_異氰酸根合-3，3，5-三甲基-5-異氰酸根合甲基環(huán)己烷；甲基環(huán)亞己基ニ異氰酸酯；六亞甲基ニ異氰酸酯的三異氰酸酯；2，4，4-三甲基-1，6-己烷ニ異氰酸酯的三異氰酸酯；六亞甲基ニ異氰酸酯的脲ニ酮；こニ異氰酸酷；2，2，4_三甲基六亞甲基ニ異氰酸酷；2，4，4_三甲基六亞甲基ニ異氰酸酯；ニ環(huán)己基甲烷ニ異氰酸酯；以及它們的組合。最優(yōu)選地，所述多異氰酸酯是包含小于14%的未反應(yīng)的異氰酸酯基團(tuán)的脂族多異氰酸酷。優(yōu)選地，用于本發(fā)明的含羥基材料是多元醇。示例性的多元醇包括，例如聚醚多元醇、羥基封端的聚丁ニ烯(包括部分氫化和完全氫化的衍生物)、聚酯多元醇、聚己內(nèi)酷多元醇、聚碳酸酯多元醇以及它們的混合物。優(yōu)選的多元醇包括聚醚多元醇。聚醚多元醇的例子包括聚四亞甲基醚こニ醇("PTMEG")、聚こ烯聚丙烯ニ醇、聚氧亞丙基ニ醇以及它們的混合物。所述烴鏈可以具有飽和的或不飽和的鍵，以及取代的或未取代的芳族和環(huán)類基團(tuán)。優(yōu)選地，本發(fā)明的多元醇包含PTMEG0合適的聚酯多元醇包括但不限于，聚己ニ酸こニ酯ニ醇；聚己ニ酸丁ニ酯ニ醇 ’聚こ二醇-丙ニ醇己ニ酸酯ニ醇(polyethylene propylene adipate glycol);鄰苯ニ甲酸酷-1，6_己ニ醇；聚(己ニ酸六亞甲基酷)ニ醇；及它們的混合物。所述烴鏈可以具有飽和的或不飽和的鍵，或者取代的或未取代的芳族和環(huán)類基團(tuán)。合適的聚己酸內(nèi)酯多元醇包括但不限于，源自1，6_己ニ醇的聚己酸內(nèi)酯；源自ニ甘醇的聚己酸內(nèi)酯；源自三羥甲基丙烷的聚己酸內(nèi)酯；源自新戊ニ醇的聚己酸內(nèi)酯；源自1，4_ 丁ニ醇的聚己酸內(nèi)酯；源自PTMEG的聚己酸內(nèi)酷；以及它們的混合物。所述烴鏈可以具有飽和的或不飽和的鍵，或者取代的或未取代的芳族和環(huán)類基團(tuán)。合適的聚碳酸酯包括但不限干，聚鄰苯ニ甲酸酯碳酸酯和聚(六亞甲基碳酸酷)ニ醇。優(yōu)選地，所述多種微要素選自捕集的氣泡、空心聚合材料(例如，微球體)、液體填充的空心聚合材料、水溶材料(例如,環(huán)糊精)以及不溶相材料(例如,礦物油)。優(yōu)選地，所述多種微要素是微球體，例如聚こ烯醇、果膠、聚こ烯基吡咯烷酮、羥こ基纖維素、甲基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羧甲基纖維素、羥丙基纖維素、聚丙烯酸、聚丙烯酰胺、聚こニ醇、聚輕基醚丙烯酸酯類塑料(polyhydroxyetheracrylites)、淀粉、馬來酸共聚物、聚環(huán)氧こ烷、聚氨酷、環(huán)糊精以及它們的組合(例如購自瑞典斯德哥爾摩的奧科佐諾貝爾公司(AkzoNobel of Sundsvall, Sweden)的Expancel )?？梢詫λ?述微球體進(jìn)行化學(xué)改性，通過例如支化、嵌段和交聯(lián)改變其溶解性、溶脹性和其它性質(zhì)。優(yōu)選地，所述微球體的平均直徑小于150 u m,更優(yōu)選地平均直徑小于50 u m。最優(yōu)選地，微球體48的平均直徑小于15 u m。應(yīng)注意，所述微球體的平均直徑可以變化，且可以使用不同尺寸或者不同微球體48的混合物。最優(yōu)選的用于微球體的材料是丙烯腈和偏ニ氯こ烯的共聚物(例如，購自奧科佐諾貝爾公司(Akzo Nobel)的 Expancel )。所述液體預(yù)聚物材料還可任選地包含固化劑。優(yōu)選的固化劑包含ニ胺。合適的聚ニ胺同時包含伯胺和仲胺。優(yōu)選的聚ニ胺包括但不限于，ニこ基甲苯ニ胺(“DETDA”)；3，5-ニ甲硫基-2，4_甲苯ニ胺及其異構(gòu)體；3，5_ ニこ基甲苯-2，4-ニ胺及其異構(gòu)體(例如3，5_ ニこ基甲苯-2，6-ニ胺)；4，4'-雙-(仲丁基氨基)-ニ苯基甲烷；1，4_雙-(仲丁基氨基)-苯；4，4'-亞甲基-雙-(2-氯苯胺)；4，4'-亞甲基-雙-(3-氯-2，6-ニこ基苯胺)("MCDEA");聚氧化四亞甲基-ニ對氨基苯甲酸酷；N，N' - ニ烷基ニ氨基ニ苯基甲烷；P，P'-亞甲基ニ苯胺("MDA〃)；間亞苯基ニ胺("MPDA〃)；亞甲基雙(2-氯苯胺)(“MB0CA”)；4，4'-亞甲基-雙-(2-氯苯胺)("M0CA〃)；4，4'-亞甲基-雙-(2，6-ニこ基苯胺)("MDEA〃)；4，4'-亞甲基-雙-(2，3_ ニ氯苯胺)("MDCA〃)；4，4' -ニ氨基-3，3' - ニこ基-5，5' - ニ甲基ニ苯基甲烷，2，2'，3，3'-四氯ニ氨基ニ苯基甲烷；三亞甲基ニ醇ニ對氨基苯甲酸酷；以及它們的混合物。優(yōu)選地，所述ニ胺固化劑選自3，5-ニ甲硫基-2，4-甲苯ニ胺及其異構(gòu)體。所述固化劑還可以包含ニ醇、三醇、四醇和羥基封端的固化劑。合適的ニ醇、三醇和四醇基團(tuán)包含こニ醇；ニ甘醇；聚こニ醇；丙ニ醇；聚丙ニ醇；低分子量聚四亞甲基釀ニ醇；1，3_雙(2_輕基こ氧基)苯；I，3_雙-[2_ (2-輕基こ氧基)こ氧基]苯；I，3-雙-{2_[2_(2-輕基こ氧基]こ氧基}苯；I，4_ 丁ニ醇；1，5_戍ニ醇；1，6_己ニ醇；間苯ニ酚-ニ-(卜羥こ基)醚；氫醌-ニ-(卜羥こ基)醚；以及它們的混合物。優(yōu)選的羥基封端的固化劑包含I，3-雙(2-羥基こ氧基)苯；1，3-雙-[2-(2-羥基こ氧基)こ氧基]苯；I, 3-雙-{2-[2_(2_輕基こ氧基)こ氧基]こ氧基}苯；1，4-丁ニ醇；以及它們的混合物。所述羥基封端的固化劑和ニ胺固化劑可以包含一種或多種飽和的、不飽和的、芳族的和環(huán)狀的基團(tuán)。此外，所述羥基封端的固化劑和ニ胺固化劑可以包含一個或多個鹵素基團(tuán)。優(yōu)選地，將塊切片或者類似切割成多層所需厚度的拋光層。優(yōu)選地，本發(fā)明的用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層的制備方法還包括提供窗塊并將所述窗塊放入模腔中?？梢栽诳晒袒旌衔镛D(zhuǎn)移到模腔之前或者之后將所述窗塊放入模腔中。優(yōu)選地，在可固化混合物轉(zhuǎn)移到模腔之前將所述窗塊放入模腔中。優(yōu)選地，本發(fā)明的方法還包括將窗塊與模底固定(優(yōu)選地，所述窗塊與模底的水平內(nèi)部邊界固定)。優(yōu)選地，本發(fā)明的方法還包括提供窗塊粘合劑并將窗塊與模底固定(優(yōu)選地，所述窗塊與模底的水平內(nèi)部邊界固定)。據(jù)信窗塊與 模底的固定減輕了當(dāng)塊切割(例如，切片)成多層拋光層時窗ロ變形的形成(例如，窗ロ從拋光層外凸)。適用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的窗塊配方是本領(lǐng)域眾所周知的。優(yōu)選地，使用本發(fā)明的方法制備的塊比使用相同方法，不同之處在于在整個加料段CP吋，噴嘴開ロ的位置僅在沿著模腔的中心軸Ctt—維移動的方法(例如，當(dāng)可固化材料在模腔中收集時，將噴嘴開ロ的位置維持在高于所述可固化材料的頂表面的設(shè)定的高度)制備的塊，含有較少密度缺陷。更優(yōu)選地，使用本發(fā)明的方法制備的塊，每塊中提供至少大于50% (更優(yōu)選地至少大于75% ;最優(yōu)選地至少大于100% ;)的不含密度缺陷的拋光層。更優(yōu)選地，所述模腔具有平均半徑為r。的基本上為圓形的截面；其中所述r。為40至60cm ；且使用本發(fā)明的方法制備的塊相對于使用相同方法，不同之處在于在整個加料段CP中，噴嘴開ロ位置僅在沿著模腔的中心軸Ctt—個維度移動的方法制備的塊，提供了 2倍(更優(yōu)選為3倍)的不含密度缺陷的拋光層的數(shù)量的増加。
權(quán)利要求
1.一種用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光墊的制備方法，該方法包括 提供具有模底和四周壁的模具，其中，所述模底和四周壁限定了模腔，所述模底沿著x-y平面定向，所述模腔具有垂直于χ-y平面的中心軸C#，所述模腔具有環(huán)形孔區(qū)域和環(huán)形區(qū)域； 提供液體預(yù)聚物材料； 提供多個微要素； 提供具有噴嘴開口的噴嘴； 將所述液體預(yù)聚物材料與所述多個微要素結(jié)合形成可固化混合物； 在加料段CP時，通過所述噴嘴開口向模腔中加入可固化混合物，其中所述加料段CP分成三個獨立的相，記作初始相、轉(zhuǎn)變相和剩余相； 其中，在加料段CP時，所述噴嘴開口的位置沿著模腔的中心軸Cifi相對于模底移動，從而當(dāng)在模腔中收集所述可固化混合物時，將噴嘴開口的位置維持在模腔中的可固化混合物的頂表面的上方； 其中，在整個初始相時，所述噴嘴開口的位置位于環(huán)形孔區(qū)域內(nèi)； 其中，在轉(zhuǎn)變相時，所述噴嘴開口的位置從位于環(huán)形孔區(qū)域內(nèi)轉(zhuǎn)變?yōu)槲挥诃h(huán)形區(qū)域內(nèi)； 其中，在剩余相時，所述噴嘴開口的位置位于環(huán)形區(qū)域內(nèi)； 使得所述模腔中的可固化混合物固化成塊；以及， 從所述塊中得到拋光層。
2.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，所述模底限定了模腔的水平內(nèi)部邊界；且所述水平內(nèi)部邊界是平的。
3.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，在剩余相時，所述噴嘴開口的位置移動，在其相對于模腔中心軸Ctt運動時，短暫地停頓。
4.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，在加料段CP時，所述可固化混合物以基本恒定的速率加入到模腔中，平均加料速率CRavg為O. 015至2kg/秒。
5.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，所述模腔沿著模腔的中心軸( 對稱。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述模腔近似為具有基本上為圓形截面Cx_t的正圓柱形狀區(qū)域；其中，所述模腔具有與模腔的中心軸( 重合的對稱軸Cx_sym ;所述正圓柱形狀區(qū)域具有截面積cx_BiR，該截面積定義如下Cx-面積=π rC2 其中，rc是模腔截面積Cx_BiR的平均半徑，投射在Χ-y平面上；所述環(huán)形孔區(qū)域是在模腔內(nèi)的正圓柱形區(qū)域，該正圓柱形區(qū)域在x-y平面上投射了圓形截面DHx_sec;t，且具有對稱軸DHfi ;所述環(huán)形孔具有截面積DHx_BiR，該截面積DHx_BiR定義如下DHx-面積=31 rDH， 其中，rDH是環(huán)形孔區(qū)域的圓形截面DH^t的半徑；所述環(huán)形區(qū)域是模腔中的圓環(huán)形區(qū)域，該圓環(huán)形區(qū)域在x-y平面上投射了環(huán)形截面Dx_sert，且具有環(huán)形區(qū)域?qū)ΨQ軸Dtt ;所述環(huán)形截面Dft具有截面積Dx_BiR，該截面積定義如下Dx-面積=π Rd2- π rO 其中，Rd是環(huán)形區(qū)域的環(huán)形截面Dx_sert的較大半徑；rD是環(huán)形區(qū)域的環(huán)形截面Dx_sert的較小半徑；rD彡rDH ；RD>rD ；RD<rc ;Cx_sym、DH軸以及D軸分別與x-y平面垂直。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述Rd( (K*r。)，其中K為O. Ol至O. 2。
8.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，rD= rDH ;其中rD為5至25mm ；RD為20至10Omm ；rc 為 20 至 100cm。
9.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，所述從所述塊中得到拋光層包括 將所述塊切片成多層拋光層。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，使用本發(fā)明的方法制備的塊含有的密度缺陷比另一個塊少，所述另一個塊使用相同方法制備，不同之處在于在整個加料段CP時，噴·嘴開口的位置僅在沿著模腔的中心軸Cifi的一個維度移動。
全文摘要
本發(fā)明涉及制備化學(xué)機(jī)械拋光層的方法，提供了用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層的制備方法，其中最小化了拋光層中密度缺陷的形成。
文檔編號B24D18/00GK102950550SQ20121029072
公開日2013年3月6日 申請日期2012年8月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月16日
發(fā)明者K·麥克休, J·T·默南, G·H·麥克萊恩, D·A·赫特, R·A·布雷迪, C·A·揚 申請人:羅門哈斯電子材料Cmp控股股份有限公司