專利名稱：一種酸性蝕刻液的在線處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于酸性蝕刻廢液的再生處理方法，尤其涉及一種印制電路板(PCB板)酸性蝕刻廢液的在線處理方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的酸性蝕刻液的在線處理方法(再生方法)主要為電解法，堿性蝕刻液的在線處理方法(再生方法)主要為萃取電解法。在萃取電解法中，蝕刻廢液中的銅離子先被萃取到有機(jī)相，有機(jī)相中的銅離子再用電解液反萃下來，隨后電解得到單質(zhì)銅。在萃取工藝中，萃取劑的選擇是個(gè)很關(guān)鍵的步驟。酸性蝕刻液中氫離子濃度通常都大于I. 2mol/L，β-二 酮萃取劑和羥肟萃取劑都無法直接萃取酸性蝕刻液。由于沒有找到很好的萃取劑，人們對(duì)電解法作了大量的研究，取得了很多成果。比如CN201110130675. 4 (CN102206835A)廣州鴻葳科技股份有限公司和廣州市二輕工業(yè)科學(xué)技術(shù)研究所公開了一種酸性蝕刻液在線電解回收裝置及一種酸性蝕刻液在線電解再生方法，先將酸性蝕刻液導(dǎo)入電解槽和調(diào)整槽，酸性蝕刻液經(jīng)調(diào)整槽導(dǎo)入蝕刻機(jī)，將蝕刻廢液導(dǎo)入陰、陽極液儲(chǔ)存槽，電解槽陰極室電解得到陰極液及附著在陰極管上的金屬銅，陽極室電解得到陽極液，電解槽陰、陽極室電解液則分別由陰、陽極液儲(chǔ)存槽補(bǔ)充，調(diào)整槽內(nèi)酸性蝕刻液用完后，將電解槽電解得到的陰極液與陽極液混合進(jìn)入調(diào)整槽，繼續(xù)用于蝕刻機(jī)工作，并取出陰極管，將電解銅剝落。本發(fā)明可以達(dá)到與蝕刻機(jī)對(duì)接在線的工作狀態(tài)，形成閉路循環(huán)，大大節(jié)約蝕刻液成本又可以回收金屬銅，銅離子再生電效>98%，陰極沉積回收銅效率> 95%，銅純度高于99%。CN200910214606. 4 (CN101768742A)惠州市雄越保環(huán)科技有限公司公開了一種再生酸性蝕刻液和回收銅的方法及其專用裝置，屬于利用電化學(xué)將廢液資源化和有色金屬回收領(lǐng)域。電化學(xué)處理中的電解槽被分為陽極室、中間室和陰極室。在陽極室盛放稀硫酸溶液，以鉛錫鈣合金板為陽極電解板。在中間室盛放酸性蝕刻廢液。在陰極室盛放硫酸銅溶液，以不銹鋼板為陰極電解板。在電場(chǎng)作用下，在硫酸銅體系中析出銅。陽極室的水氧化產(chǎn)生氧氣和氫離子，當(dāng)銅離子濃度降到Ig/以下后可重新作為蝕刻液。該方法在實(shí)現(xiàn)資源化利用的同時(shí)，大大降低了生產(chǎn)成本、且不產(chǎn)生大氣污染。CN200610062086. 6 (CN1966773)劉景亮公開了一種同時(shí)電解再生酸性蝕刻液和微蝕液的方法，電解槽用陽離子交換膜將陽極室和陰極室隔開；將酸性蝕刻液貯液槽和陰極室連通，酸性蝕刻液包括鹽酸和氯化銅；將微蝕液貯液槽和陽極室連通，微蝕液包括過硫酸銨和硫酸；進(jìn)行電解反應(yīng)時(shí)，在陽極室中經(jīng)過微蝕反應(yīng)形成的硫酸銨被氧化再生成過硫酸銨，同時(shí)其中的二價(jià)銅離子穿越陽離子交換膜進(jìn)入陰極室；在陰極室中經(jīng)過蝕刻反應(yīng)形成的一價(jià)銅離子優(yōu)先在陰極還原成金屬銅，同時(shí)二價(jià)銅離子返回至酸性蝕刻液貯液槽中。本發(fā)明的技術(shù)效果在于陽極電能充分利用；充分利用銅資源，不產(chǎn)生污染和浪費(fèi)；使微蝕和蝕刻的質(zhì)量都大為提聞等。CN200520067901. 9 (CN2861181)葉建均公開一種氯化銅酸性廢液再生及銅回收裝置，包括電流控制裝置、電解裝置、廢氣處理器以及再生攪拌裝置，其中，所述的電解裝置內(nèi)設(shè)有陰極電解板、陽極電解板以及介于該陰極電解板與陽極電解板之間的一塊或一塊以上具有陰陽兩極電解板；本實(shí)用新型能夠?qū)崿F(xiàn)原料循環(huán)使用、資源再生及環(huán)保之功效，尤其是利用所述的具有陰陽兩極的電解板實(shí)現(xiàn)了增強(qiáng)電解效果，更好地實(shí)現(xiàn)氯化銅酸性蝕刻液的銅進(jìn)行回收；本裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，工藝便捷，實(shí)用性強(qiáng)。CN201210023805. 9 (CN102560499A)昆山市潔馳環(huán)保科技發(fā)展有限公司提供一種
印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，包括蝕刻廢液儲(chǔ)存槽、復(fù)合隔膜電解槽、蝕刻液溢流槽、射流吸收槽、射流器、管道和廢液泵，復(fù)合隔膜電解槽通過復(fù)合隔膜分為陰極室和陽極室蝕刻廢液儲(chǔ)存槽與陰極室相連并與生產(chǎn)線蝕刻缸相通；蝕刻液溢流槽與陽極室相連，并與生產(chǎn)線蝕刻缸相通；射流器的進(jìn)氣口與陽極室的排氣口相連，射流吸收槽與射流器相連并與生產(chǎn)線蝕刻缸相通并循環(huán)。本發(fā)明利用電解原理在陰極析出單質(zhì)銅，減少蝕刻廢液中銅離子的含量；利用陽極電解產(chǎn)生氯氣來氧化蝕刻液溢流槽和陽極室中的亞銅離子，本發(fā)明在回收過程中無污染物的排放，既實(shí)現(xiàn)了經(jīng)濟(jì)效益又達(dá)到了保護(hù)環(huán)境和再生利用的多層利益。
CN201120321551.X (CN202201979U)廣州市吉弛環(huán)?？萍加邢薰竟_了一種酸性蝕刻液循環(huán)再生與銅回收裝置。其包括電解槽，電解槽中間設(shè)有將電解槽分隔為陽極區(qū)和陰極區(qū)的異相或均相離子陽膜，陽極區(qū)中設(shè)有正電極，陰極區(qū)中設(shè)有負(fù)電極，所述的陽極區(qū)設(shè)有蝕刻廢液入口和再生液出口，蝕刻廢液入口通過管道與蝕刻機(jī)的蝕刻廢液出口相接，再生液出口通過管道接有再生液混合槽；所述的陰極區(qū)通過管道與銅粉分離機(jī)形成循環(huán)以分離銅粉，陰極區(qū)設(shè)有蝕刻廢液入口和再生液出口，蝕刻廢液入口通過管道與蝕刻機(jī)的蝕刻廢液出口相接，再生液出口通過管道與再生液混合槽連接；所述的再生液混合槽的出口通過管道與蝕刻機(jī)的蝕刻液入口相接。本實(shí)用新型的再生過程的環(huán)保效益和經(jīng)濟(jì)效益均可最大化。CN201110252985. 3 (CN102286746A)廣州市吉弛環(huán)?？萍加邢薰竟_了一種酸性蝕刻液循環(huán)再生與銅回收裝置。其包括電解槽，電解槽中間設(shè)有將電解槽分隔為陽極區(qū)和陰極區(qū)的異相或均相離子陽膜，陽極區(qū)中設(shè)有正電極，陰極區(qū)中設(shè)有負(fù)電極，所述的陽極區(qū)設(shè)有蝕刻廢液入口和再生液出口，蝕刻廢液入口通過管道與蝕刻機(jī)的蝕刻廢液出口相接，再生液出口通過管道接有再生液混合槽；所述的陰極區(qū)通過管道與銅粉分離機(jī)形成循環(huán)以分離銅粉，陰極區(qū)設(shè)有蝕刻廢液入口和再生液出口，蝕刻廢液入口通過管道與蝕刻機(jī)的蝕刻廢液出口相接，再生液出口通過管道與再生液混合槽連接；所述的再生液混合槽的出口通過管道與蝕刻機(jī)的蝕刻液入口相接。本發(fā)明的再生過程的環(huán)保效益和經(jīng)濟(jì)效益均可最大化。CN201020567155. O (CN201834972U)深圳市潔馳科技有限公司提供了一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)，該再生系統(tǒng)包括蝕刻缸、蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽、離子膜電解槽、再生蝕刻液槽，該離子膜電解槽通過離子交換膜分為陽極室和陰極室，該蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽將蝕刻缸和陽極室相連通，該蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽儲(chǔ)存來自于蝕刻缸中并用于供給至陽極室的蝕刻廢液，該再生蝕刻液槽將陽極室和蝕刻缸相連通，該再生蝕刻液槽儲(chǔ)存陽極室中再生蝕刻液并用于提供至蝕刻缸。本實(shí)用新型再生系統(tǒng)，利用氯離子電解產(chǎn)生強(qiáng)氧化劑氯氣，來氧化蝕刻廢液中的亞銅離子，解決了現(xiàn)有技術(shù)需要額外添加氧化劑來氧化亞銅離子的技術(shù)問題，降低了生成成本，而且不添加雜質(zhì)到再生蝕刻液中，保證了再生蝕刻液和新鮮蝕刻液的一致性。CN201110257975. 9(CN102321908A)廣州市天承化工有限公司公開了一種酸性氯化物蝕刻液的循環(huán)再生工藝方法及金屬銅回收系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括酸性蝕刻槽；膜電解槽，通過泵浦連接到上述酸性蝕刻槽，該膜電解槽內(nèi)分陰極區(qū)和陽極區(qū)，陰陽極以隔離膜支架分隔，所述陽極區(qū)是采用浸流式陽極；自動(dòng)控制裝置，連接到上述膜電解槽，用于將蝕刻液由泵浦從蝕刻槽打入膜電解槽的陽極區(qū)；并將電解再生處理后的蝕刻液由陽極區(qū)用泵浦打回至蝕刻工作槽繼續(xù)蝕刻作業(yè)；在陽極區(qū)再生的同時(shí)，蝕刻液中銅離子透過離子膜進(jìn)入陰極區(qū)，并沉積在陰極上，實(shí)現(xiàn)金屬銅的電解回收。本發(fā)明的系統(tǒng)在回收金屬銅的同時(shí)對(duì)蝕刻液進(jìn)行再生，再生后的蝕刻液返回蝕刻槽繼續(xù)工作，無任何廢水、廢氣和廢物排放；整個(gè)系統(tǒng)完全實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制。但是，電解法也有它的缺點(diǎn)。比如電流效率低，離子膜和陽極的使用壽命不長(zhǎng)，電解過程中有氯氣產(chǎn)生，離子膜價(jià)格昂貴等。這驅(qū)使人們不斷地嘗試萃取電解法處理酸性蝕刻液，比如CN201120270890. X (CN202164354U)湖南萬容科技有限公司一種酸性蝕刻液資源 回收與環(huán)保處理設(shè)備，包括由管道依次連接的調(diào)配桶、萃取系統(tǒng)、電解銅系統(tǒng)、尾液處理系統(tǒng)及電控系統(tǒng)，酸性蝕刻液和氨水桶連接調(diào)配桶，調(diào)配桶調(diào)節(jié)酸性蝕刻液PH值后輸出端連接至萃取系統(tǒng)，萃取系統(tǒng)的AB油出口端經(jīng)水洗、反萃取后連接至電解銅系統(tǒng)，萃取系統(tǒng)的萃后液出口端連接至尾液處理系統(tǒng)。本實(shí)用新型銅回收率高，產(chǎn)品純度好，系統(tǒng)完整，無二次污染。CN201020223739. 6 (CN201704154U)昆山市臺(tái)鑫五金廠公開了一種PCB綜合含銅廢液處理系統(tǒng)，包括廢液收集器，PH值調(diào)節(jié)器，銅萃取分離機(jī)，反萃銅分離機(jī)以及電解槽。其中，PH值調(diào)節(jié)器用于對(duì)所述廢液收集器收集的廢液的pH值進(jìn)行調(diào)節(jié)；銅萃取分離機(jī)用于接收PH值經(jīng)過調(diào)節(jié)的廢液，并將其與銅萃取劑混合，得到富銅萃取劑；反萃銅分離機(jī)用于接收來自所述銅萃取分離機(jī)的富銅萃取劑，并將該富銅萃取劑與硫酸銅反萃液混合，得到富銅反萃液；電解槽用于接收來自反萃銅分離機(jī)的富銅反萃液，電解富銅反萃液，得到銅。本實(shí)用新型減輕了廢水處理的難度，并且回收了銅。CN200910110744. 8 (CN101693997A)深圳市潔馳科技有限公司提供了一種印刷電路板酸性蝕刻廢液處理方法，酸性蝕刻廢液包括鹽酸和氯化銅。該方法為向酸性蝕刻廢液中加入氨性調(diào)節(jié)液，將其轉(zhuǎn)換成為PH值為7. 5以上的氨性蝕刻液體系后進(jìn)行銅萃取。本發(fā)明的處理方法，提高了銅萃取效率，使金屬銅的回收率可達(dá)到99. 3%以上，萃余液經(jīng)處理得到氯化銨，可以根據(jù)需求直接回用于蝕刻工序，回收率可達(dá)99. 9%以上，既節(jié)約資源，又避免了環(huán)境污染，真正達(dá)到了循環(huán)經(jīng)濟(jì)、清潔生產(chǎn)的目的。但是，這些方法在萃取之前調(diào)節(jié)酸性蝕刻液的pH值勢(shì)必會(huì)產(chǎn)生無機(jī)鹽，增加蝕刻液的體積。另外，由于酸性蝕刻液中存在氧化劑，這就要求萃取劑有抗氧化能力，否則氧化劑會(huì)降低萃取劑的使用壽命。由于酸性蝕刻液中氫離子濃度通常都大于I. 2mol/L, β - 二酮萃取劑和羥肟萃取劑都無法直接萃取酸性蝕刻液。所以要先用堿將酸性蝕刻液中和到ΡΗ=2 3，再用羥肟萃取劑萃取。萃余液用鹽酸和水調(diào)整濃度后，再重復(fù)使用。這無疑會(huì)使蝕刻液體積增加，無法滿足清潔生產(chǎn)的要求。更為不幸的是酸性蝕刻液中含有微量的氧化劑，這些氧化劑會(huì)降低β - 二酮萃取劑和羥肟萃取劑的穩(wěn)定性，縮短它們的使用壽命，增加運(yùn)行成本。

發(fā)明內(nèi)容
為解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明的目的在于提供一種操作方便用吡啶羧酸酯類萃取劑直接萃取酸性蝕刻液的在線處理方法。本發(fā)明目是這樣實(shí)現(xiàn)的一種酸性蝕刻液的在線處理方法，其關(guān)鍵在于利用吡啶羧酸酯類萃取劑MextralCLX-50直接萃取酸性蝕刻液中的銅，載銅的吡啶羧酸酯類萃取劑用水、檸檬酸鈉水溶液、檸檬酸銨水溶液、磷酸鈉、磷酸銨水溶液反萃，蝕刻液經(jīng)過除油處理和調(diào)配重新循環(huán)使用。上述吡啶羧酸酯類萃取劑為3，5-吡啶二羧酸二酯和3-吡啶羧酸酯。上述的羧酸酯碳原子數(shù)在10 30之間。 上述吡啶羧酸酯類萃取劑濃度在10% 50%之間。上述吡啶羧酸酯類萃取劑中加入醚類、醇類、酯類改質(zhì)劑改善萃取性能。上述萃取和反萃的相比0/Α=1:5 5:1。上述萃余液用吡啶羧酸酯類萃取劑重復(fù)萃取，直到萃余液中的銅含量達(dá)到再生蝕刻液的要求。上述含銅反萃水相進(jìn)一步處理得到銅鹽或金屬銅。I、吡啶羧酸酯類萃取劑(比如Mextral CLX-50)可以單獨(dú)使用。工藝流程如圖I。吡啶羧酸酯萃取劑(比如Mextral CLX-50)在萃取單元El與酸性蝕刻液混合，然后分相。得到的載銅萃取劑儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽Vl中。Vl中的載銅萃取劑在反萃單元SI與從儲(chǔ)槽V5來的水混合，萃取劑中的銅轉(zhuǎn)移到水中。得到的貧銅萃取劑和富銅水溶液，貧銅萃取劑再次進(jìn)入萃取單元El與酸性蝕刻液混合。富銅水溶液存入儲(chǔ)槽V6中，可以用氫氧化鈉中和得到氫氧化銅，再加熱分解就可以得到氧化銅。蝕刻機(jī)M中的蝕刻廢液儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽V2中，V2中的蝕刻廢液在萃取單元El中與吡啶羧酸酯類萃取劑混合，萃余液儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽V3中。如果V3中的萃余液銅離子濃度沒有降低到規(guī)定范圍以內(nèi)，可以再次進(jìn)入萃取單元El與萃取劑混合。當(dāng)V3中的銅離子濃度合格后，將合格的萃余液存放在儲(chǔ)槽V4中，V4中的萃余液進(jìn)入除油和調(diào)配單元D，得到的再生蝕刻液送入蝕刻機(jī)Μ。蝕刻液由此得到了再生回用。2、吡啶羧酸酯類萃取劑(比如Mextral CLX-50 )可以與羥肟類萃取劑聯(lián)合使用。工藝流程如圖2。其中包括五個(gè)循環(huán) 吡啶羧酸酯類萃取劑(比如Mextral CLX-50)循環(huán)。吡啶羧酸酯萃取劑在萃取單元El與酸性蝕刻液混合，然后分相。得到的載銅萃取劑儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽Vl中。Vl中的載銅萃取劑在反萃單元SI與水混合，萃取劑中的銅轉(zhuǎn)移到水中。得到的貧銅萃取劑再次進(jìn)入萃取單元El與酸性蝕刻液混合。酸性蝕刻液循環(huán)。通過這個(gè)循環(huán)，蝕刻液得以再生回用。再生蝕刻液中的銅離子濃度可以在I 120g/L之間隨意調(diào)整。蝕刻機(jī)M中的蝕刻廢液儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽V2中，V2中的蝕刻廢液在萃取單元El中與吡啶羧酸酯類萃取劑混合，萃余液儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽V3中。如果V3中的萃余液銅離子濃度沒有降低到規(guī)定范圍以內(nèi)，可以再次進(jìn)入萃取單元El與萃取劑混合。當(dāng)V3中的銅離子濃度合格后，將合格的萃余液存放在儲(chǔ)槽V4中，V4中的萃余液進(jìn)入除油和調(diào)配單元D，得到的再生蝕刻液送入蝕刻機(jī)M，蝕刻液因此實(shí)現(xiàn)了循環(huán)。水循環(huán)。通過這個(gè)循環(huán)，銅離子從Mextral CLX-50轉(zhuǎn)移到Mextral984H。水儲(chǔ)槽中的銅離子濃度小于lOppm。儲(chǔ)槽V6中的水在反萃單元SI中與載銅萃取劑混合，得到的含銅水溶液存放在儲(chǔ) 槽V5中。V5中的含銅水溶液經(jīng)過E2、E3兩級(jí)羥肟萃取劑萃取，銅離子濃度降低到IOppm以下。存放到儲(chǔ)槽V6中實(shí)現(xiàn)了水循環(huán)。羥肟類萃取劑(比如Mextral984H)循環(huán)。羥肟萃取劑存放在儲(chǔ)槽V7中，經(jīng)過E2、E3兩級(jí)萃取得到含銅萃取劑，再經(jīng)過反萃單元S2將銅轉(zhuǎn)移到電解液中。得到的貧銅萃取劑重新回到V7。實(shí)現(xiàn)了羥肟萃取劑循環(huán)。電解液循環(huán)。將溶液中的銅離子還原成金屬銅。電解單元得到的貧電解液存放在儲(chǔ)槽V8中，貧銅電解液在反萃單元S2中與載銅羥肟萃取劑混合，變成富銅電解液存放在儲(chǔ)槽V9中，富銅電解液中的銅離子在電解單元中被還原成金屬銅。3、吡啶羧酸酯類萃取劑(比如Mextral CLX-50)可以與β - 二酮類萃取劑聯(lián)合使用。工藝流程如圖3。同樣包括五個(gè)循環(huán)I)吡啶羧酸酯類萃取劑(比如Mextral CLX-50)循環(huán)。吡啶羧酸酯萃取劑(比如Mextral CLX-50)在萃取單元El與酸性蝕刻液混合，然后分相。得到的載銅萃取劑儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽Vl中。Vl中的載銅萃取劑在反萃單元SI與堿性水混合，萃取劑中的銅轉(zhuǎn)移到堿性水中。得到的貧銅萃取劑再次進(jìn)入萃取單元El與酸性蝕刻液混合。2)酸性蝕刻液循環(huán)。通過這個(gè)循環(huán)，蝕刻液得以再生回用。蝕刻機(jī)M中的蝕刻廢液儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽V2中，V2中的蝕刻廢液在萃取單元El中與吡啶羧酸酯類萃取劑混合，萃余液儲(chǔ)存在儲(chǔ)槽V3中。如果V3中的萃余液銅離子濃度沒有降低到規(guī)定范圍以內(nèi)，可以再次進(jìn)入萃取單元El與萃取劑混合。當(dāng)V3中的銅離子濃度合格后，將合格的萃余液存放在儲(chǔ)槽V4中，V4中的萃余液進(jìn)入除油和調(diào)配單元D，得到的再生蝕刻液送入蝕刻機(jī)Μ，蝕刻液因此實(shí)現(xiàn)了循環(huán)。3)堿性水(比如檸檬酸三鈉水溶液)循環(huán)。通過這個(gè)循環(huán)，銅離子從MextralCLX-50 轉(zhuǎn)移到 Mextral 54-100。儲(chǔ)槽V6中的堿性水在反萃單元SI中與載銅萃取劑混合，得到的含銅堿性水溶液存放在儲(chǔ)槽V5中。V5中的含銅堿性水溶液在Ε3中經(jīng)過β - 二酮萃取劑萃取，銅離子濃度降低到IOppm以下。存放到儲(chǔ)槽V6中實(shí)現(xiàn)了堿性水循環(huán)。4) β - 二酮類萃取劑(比如Mextral 54-100)循環(huán)。β - 二酮類萃取劑存放在儲(chǔ)槽V7中，經(jīng)過Ε3萃取單元得到含銅萃取劑，再經(jīng)過反萃單元S2將銅轉(zhuǎn)移到熱的硫酸銅溶液中。得到的貧銅萃取劑重新回到V7。實(shí)現(xiàn)了 β-二酮類萃取劑循環(huán)。5)硫酸銅水溶液循環(huán)。得到五水硫酸銅固體產(chǎn)品。熱的硫酸銅溶液冷卻后，析出五水硫酸銅固體，經(jīng)過濾單元過濾，得產(chǎn)品，濾液存入儲(chǔ)槽V8中。然后送入反萃單元S2與載銅的β-二酮萃取劑混合，得到熱的硫酸銅溶液。實(shí)現(xiàn)了硫酸銅水溶液循環(huán)。有益效果本發(fā)明直接萃取酸性蝕刻液，抗氧化能力強(qiáng)。可以不對(duì)酸性蝕刻液進(jìn)行預(yù)處理(比如調(diào)節(jié)PH值、去除氧化劑)，使用壽命較長(zhǎng)。降低了運(yùn)行成本，同時(shí)減小了廢液體積。


圖I為吡啶羧酸酯類萃取劑單獨(dú)使用工藝流程圖；圖2為吡啶羧酸酯類萃取劑與羥肟類萃取劑聯(lián)合使用工藝流程圖；圖3為吡啶羧酸酯類萃取劑與β - 二酮類萃取劑聯(lián)合使用工藝流程圖。實(shí)施例I. 本實(shí)施例的特征是聯(lián)合使用吡啶羧酸酯類萃取劑Mextral CLX-50和羥肟萃取劑Mextral984H處理酸性蝕刻液。酸性蝕刻液直接用吡啶羧酸酯萃取，載銅的吡啶羧酸酯用水反萃。反萃后的含銅水溶液直接用Mextral984H萃取，載銅的Mextral984H用貧銅電解液(180g/L硫酸，30g/L Cu)反萃。酸性蝕刻液銅含量177. 81g/L，鹽酸濃度I. 6mol/L，所用吡啶羧酸酯為3，5-吡啶二羧酸二 (異十三醇)酯(萃取劑稀釋劑=1:3. 5 (w/w))，羥肟萃取劑為Mextral984H(萃取劑稀釋劑=1:2 (w/w)),萃取和反萃的相比均為I: I。吡啶羧酸酯采用一級(jí)萃取和一級(jí)反萃，Mextral984H采用兩級(jí)萃取和一級(jí)反萃。下表是萃取實(shí)驗(yàn)得到的結(jié)果
^萃取劑^^P比啶羧酸酯Mextral^Mextral984H
__CLX-50
「η 測(cè)量溶液萃余液反萃后含銅萃余液富銅電解液___ ___
銅含量165.7812.030.006742.0
(g/L)酸性蝕刻液用吡啶羧酸酯重復(fù)萃取4次，就可以將其中的銅含量降低到130g/L，此時(shí)的蝕刻液經(jīng)過除油處理和調(diào)配就可以回用了。酸性蝕刻液用吡啶羧酸酯重復(fù)萃取15次，即可將銅濃度降到I. Og/L以下。實(shí)施例2.本實(shí)施例的特征是聯(lián)合使用吡啶羧酸酯類萃取劑Mextral CLX-50和β - 二酮萃取劑MeXtral54-100處理酸性蝕刻液。酸性蝕刻液直接用吡啶羧酸酯萃取，載銅的吡啶羧酸酯用7. 7%的朽1檬酸三鈉水溶液反萃。反萃后的含銅水溶液用40%的氫氧化鈉溶液調(diào)PH=IO 12，然后用Mextral54-100萃取，載銅的β - 二酮萃取劑用硫酸銅溶液(160g/L硫酸，60g/L Cu)反萃。酸性蝕刻液銅含量177. 81g/L，鹽酸濃度I. 6mol/L，所用吡啶羧酸酯為3，5-批唳二羧酸二 (異十三醇)酯(萃取劑稀釋劑=1:3. 5 (w/w) ), β - 二酮萃取劑萃取劑為Mextral54-100(萃取劑稀釋劑=1:3 (w/w)),萃取和反萃的相比均為I: I。兩種萃取劑均采用一級(jí)萃取和一級(jí)反萃。下表是萃取實(shí)驗(yàn)得到的結(jié)果
權(quán)利要求
1.ー種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于利用吡啶羧酸酯類萃取劑MextralCLX-50直接萃取酸性蝕刻液中的銅，載銅的吡啶羧酸酯類萃取劑用水、檸檬酸鈉水溶液、檸檬酸銨水溶液、磷酸鈉、磷酸銨水溶液反萃，蝕刻液經(jīng)過除油處理和調(diào)配重新循環(huán)使用。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述ー種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于吡啶羧酸酯類萃取劑為3，5-吡啶ニ羧酸ニ酯和3-吡啶羧酸酷。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述ー種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于所述的羧酸酯碳原子數(shù)在10 30之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述ー種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于所 述吡啶羧酸酯類萃取劑濃度在10% 50%之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述ー種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于所述吡啶羧酸酯類萃取劑中加入醚類、醇類、酯類改質(zhì)劑改善萃取性能。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述ー種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于萃取和反萃的相比 0/Α=1:5 5:1。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述ー種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于所述萃余液用吡啶羧酸酯類萃取劑重復(fù)萃取，直到萃余液中的銅含量達(dá)到再生蝕刻液的要求。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述ー種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于所述含銅反萃水相進(jìn)ー步處理得到銅鹽或金屬銅。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種酸性蝕刻液的在線處理方法，其特征在于利用吡啶羧酸酯類萃取劑Mextral CLX-50直接萃取酸性蝕刻液中的銅,載銅的吡啶羧酸酯類萃取劑用水、檸檬酸鈉水溶液、檸檬酸銨水溶液、磷酸鈉、磷酸銨水溶液反萃，蝕刻液經(jīng)過除油處理和調(diào)配重新循環(huán)使用。本發(fā)明直接萃取酸性蝕刻液，抗氧化能力強(qiáng)?？梢圆粚?duì)酸性蝕刻液進(jìn)行預(yù)處理(比如調(diào)節(jié)pH值、去除氧化劑)，使用壽命較長(zhǎng)。降低了運(yùn)行成本，同時(shí)減小了廢液體積。
文檔編號(hào)C22B3/36GK102839379SQ20121036152
公開日2012年12月26日 申請(qǐng)日期2012年9月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月26日
發(fā)明者湯啟明, 徐志剛, 丁東升, 鄒潛 申請(qǐng)人:重慶康普化學(xué)工業(yè)有限公司