專利名稱：臥式滾筒真空鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種臥式滾筒真空鍍膜機(jī)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有臥式滾筒真空鍍膜機(jī)的真空室絕大多數(shù)為一空心圓筒狀容器，電阻蒸發(fā)器、電子槍或磁控濺射靶都裝在真空室中央?yún)^(qū)域。因此工作中抽真空的體積為圓筒的容積。抽真空時(shí)間長(zhǎng)、工作效率低。由于真空室內(nèi)易存在大量的壓縮可凝性水蒸氣，影響鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量
發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種可縮短抽真空時(shí)間且提高鍍膜質(zhì)量的臥式滾筒真空鍍膜機(jī)。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是提供一種臥式滾筒真空鍍膜機(jī)，包括空心圓筒狀殼體，所述殼體內(nèi)固定有密封隔板，所述密封隔板將殼體內(nèi)部分為兩個(gè)互相獨(dú)立的區(qū)域，其中一區(qū)域設(shè)置為真空的密封隔離區(qū)，另一區(qū)域?yàn)殄兡な矣糜谌葜缅兡び闷骷?。其中，所述密封隔板為圓筒狀，密封隔板與所述殼體同軸設(shè)置，所述密封隔板內(nèi)部為所述密封隔離區(qū)，密封隔板與殼體之間的環(huán)狀區(qū)域?yàn)樗鲥兡な?。其中，所述密封隔板為不銹鋼材質(zhì)。其中，所述密封隔板的直徑為所述殼體直徑的O. 5^0. 8倍。其中，所述殼體直徑為2. 8米，所述密封隔板直徑為2米。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明的臥式滾筒真空鍍膜機(jī)中，在殼體內(nèi)建立了一個(gè)真空的密封隔離區(qū)，當(dāng)鍍膜機(jī)工作抽真空時(shí)僅需抽除此密封隔離區(qū)以外區(qū)域的氣體，在相同容積殼體內(nèi)腔的狀態(tài)下，減少了需要抽真空的體積，大大地減少了抽真空時(shí)間，提高了工作效率；并且，抽真空時(shí)間短，抽真空的體積小，也減少了鍍膜室內(nèi)壓縮可凝水蒸氣體積，從而提高鍍膜產(chǎn)品膜層質(zhì)量。密封隔離區(qū)保持為真空狀態(tài)，在鍍膜過(guò)程避免密封隔離區(qū)向鍍膜室內(nèi)漏氣，保證鍍膜過(guò)程中鍍膜室的真空度，從而保證鍍膜質(zhì)量。


圖I是本發(fā)明臥式滾筒真空鍍膜機(jī)一實(shí)施例的截面示意圖。標(biāo)號(hào)說(shuō)明I、殼體；2、密封隔板；3、鍍膜室；4、密封隔離區(qū)；5、工件。
具體實(shí)施例方式為詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說(shuō)明。
請(qǐng)參閱圖1，本實(shí)施例公開(kāi)了一種臥式滾筒真空鍍膜機(jī)。該臥式滾筒真空鍍膜機(jī)包括殼體I和密封隔板2，所述殼體I為空心圓筒狀，密封隔板2為圓筒狀，密封隔板2固定設(shè)置于殼體I內(nèi)部，且密封隔板2與殼體I同軸設(shè)置。密封隔板2內(nèi)部形成一圓柱形的密封隔離區(qū)4，且該密封隔離區(qū)4內(nèi)為真空，密封隔板2與殼體I之間形成一環(huán)狀區(qū)域，該環(huán)狀區(qū)域即作為鍍膜室3。密封隔板2可以是本身帶兩端端蓋的空心密封筒體，亦可以不帶端蓋，而是與殼體I兩端端蓋密封連接；總之，該密封隔板2使鍍膜室3和密封隔離區(qū)4成為兩個(gè)互相獨(dú)立的區(qū)域，兩區(qū)域之間沒(méi)有氣體交換通道。該臥式滾筒真空鍍膜機(jī)在工作時(shí)，用于給工件鍍膜的電阻蒸發(fā)器、電子槍或磁控濺射靶置于鍍膜室3內(nèi)專門的區(qū)域如殼體I的內(nèi)壁或密封隔板2的外壁，待鍍膜的工件5沿環(huán)狀均勻分布放置于鍍膜室3。通過(guò)抽真空裝置對(duì)殼體I內(nèi)部抽真空，由于密封隔離區(qū)4本身為密封的真空區(qū)域，且其與鍍膜室3互相獨(dú)立，抽真空時(shí)僅抽除鍍膜室3內(nèi)的空氣。抽真空后，將殼體I密封，工件5由真空鍍膜機(jī)中必要的驅(qū)動(dòng)部件(可采用現(xiàn)有鍍膜機(jī)中的相 關(guān)部件，因此在本實(shí)施方式中并未詳細(xì)說(shuō)明)帶動(dòng)繞殼體I的中心軸旋轉(zhuǎn)，電阻蒸發(fā)器、電子槍或磁控濺射靶對(duì)工件5進(jìn)行鍍膜。本發(fā)明的臥式滾筒真空鍍膜機(jī)中，在殼體內(nèi)建立了一個(gè)真空的密封隔離區(qū)，當(dāng)鍍膜機(jī)工作抽真空時(shí)僅需抽除此密封隔離區(qū)以外區(qū)域的氣體，在相同容積殼體內(nèi)腔的狀態(tài)下，減少了需要抽真空的體積，大大地減少了抽真空時(shí)間，提高了工作效率；并且,抽真空時(shí)間短，抽真空的體積小，也減少了鍍膜室內(nèi)壓縮可凝水蒸氣體積，從而提高鍍膜產(chǎn)品膜層質(zhì)量。密封隔離區(qū)保持為真空狀態(tài)，在鍍膜過(guò)程避免密封隔離區(qū)向鍍膜室內(nèi)漏氣，保證鍍膜過(guò)程中鍍膜室的真空度，從而保證鍍膜質(zhì)量。本實(shí)施例中，密封隔離區(qū)為一個(gè)與殼體同軸的圓筒狀區(qū)域，鍍膜室成為一均勻的環(huán)狀空間，工件的擺放及工作過(guò)程中的運(yùn)動(dòng)與現(xiàn)有臥式滾筒真空鍍膜機(jī)中一樣，達(dá)到提高效率而不降低產(chǎn)量的效果。其中，密封隔板的直徑較優(yōu)地為殼體直徑的O. 5、. 8倍，可獲得較為合適的鍍膜區(qū)域。在一具體的應(yīng)用實(shí)例中，殼體的直徑為2. 8m，長(zhǎng)度3m，密封隔板的直徑為2米，長(zhǎng)度與殼體長(zhǎng)度相等；按傳統(tǒng)的臥式滾筒鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)，需要抽真空的體積為整個(gè)殼體的體積約為18. 4632m3，而采用本發(fā)明的結(jié)構(gòu)，需要抽真空的體積為密封隔板與殼體之間的環(huán)狀區(qū)域，其體積約為9. 0432m3，對(duì)比可知，采用本發(fā)明的結(jié)構(gòu)，抽氣速率可提高一倍。當(dāng)然，密封隔板并非只能為圓筒狀，亦可以設(shè)置為柱狀或不規(guī)則形狀，其在殼體內(nèi)的固定位置也可以不在中央?yún)^(qū)域，其形狀及位置可以在實(shí)際產(chǎn)品中綜合考慮工件的位置及鍍膜器件的位置后進(jìn)行設(shè)置。較優(yōu)地，密封隔板采用不銹鋼材質(zhì)。由于鍍膜室在取放工件時(shí)會(huì)有氣體進(jìn)入，因此，鍍膜室內(nèi)真空與非真空狀態(tài)會(huì)進(jìn)行轉(zhuǎn)換，而密封隔板內(nèi)保持為真空狀態(tài)，密封隔板內(nèi)外的壓力差會(huì)不斷改變，采用不銹鋼材質(zhì)的密封隔板使密封隔板具有足夠的強(qiáng)度，提高使用壽命。以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種臥式滾筒真空鍍膜機(jī)，其特征在于，包括空心圓筒狀殼體，所述殼體內(nèi)固定有密封隔板，所述密封隔板將殼體內(nèi)部分為兩個(gè)互相獨(dú)立的區(qū)域，其中一區(qū)域設(shè)置為真空的密封隔離區(qū)，另一區(qū)域?yàn)殄兡な矣糜谌葜缅兡び闷骷?br> 2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的臥式滾筒真空鍍膜機(jī)，其特征在于所述密封隔板為圓筒狀，密封隔板與所述殼體同軸設(shè)置，所述密封隔板內(nèi)部為所述密封隔離區(qū)，密封隔板與殼體之間的環(huán)狀區(qū)域?yàn)樗鲥兡な摇?br> 3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的臥式滾筒真空鍍膜機(jī)，其特征在于所述密封隔板為不銹鋼材質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的臥式滾筒真空鍍膜機(jī)，其特征在于所述密封隔板的直徑為所述殼體直徑的O. 5^0. 8倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的臥式滾筒真空鍍膜機(jī)，其特征在于所述殼體直徑為2.8米，所述密封隔板直徑為2米。
全文摘要
本發(fā)明涉及真空鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種臥式滾筒真空鍍膜機(jī)，包括空心圓筒狀殼體，所述殼體內(nèi)固定有密封隔板，所述密封隔板將殼體內(nèi)部分為兩個(gè)互相獨(dú)立的區(qū)域，其中一區(qū)域設(shè)置為真空的密封隔離區(qū)，另一區(qū)域?yàn)殄兡な矣糜谌葜缅兡び闷骷?。本發(fā)明在殼體內(nèi)建立了一個(gè)真空的密封隔離區(qū)，當(dāng)鍍膜機(jī)工作抽真空時(shí)僅需抽除此密封隔離區(qū)以外區(qū)域的氣體，在相同容積殼體內(nèi)腔的狀態(tài)下，減少了需要抽真空的體積，減少抽真空時(shí)間，提高了工作效率；并且減少了鍍膜室內(nèi)壓縮可凝水蒸氣體積，從而提高鍍膜產(chǎn)品膜層質(zhì)量。密封隔離區(qū)保持為真空狀態(tài)，在鍍膜過(guò)程避免密封隔離區(qū)向鍍膜室內(nèi)漏氣。
文檔編號(hào)C23C14/22GK102912297SQ20121040575
公開(kāi)日2013年2月6日 申請(qǐng)日期2012年10月22日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月22日
發(fā)明者李志榮, 李志方, 羅志明 申請(qǐng)人:東莞市匯成真空科技有限公司