專利名稱：真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)，特別涉及一種真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)是在電源(包括射頻電源、直流電源或交流電源等)接通的條件下通入相關(guān)氣體，生成的薄膜沉積在基底上，可應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能、顯示器及電子應(yīng)用的設(shè)備中。由于該工藝沒有環(huán)境污染產(chǎn)生，沒有化學(xué)污水排放，同時(shí)消耗功率低，效率較高，因此逐步被應(yīng)用。然而，目前射頻輸入電極使用時(shí)，一般需要靠人工將其接合后才能使用，其操作麻煩，人工資源耗費(fèi)也大，同時(shí)使得等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積工藝 的效率低下。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種射頻輸入電機(jī)自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)的使用可減少人工操作，有效提高等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積工藝的生產(chǎn)效率。本實(shí)用新型的技術(shù)方案為一種真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)，包括固定電極、動(dòng)電極、射頻接入件和氣動(dòng)件，固定電極與真空室的室腔固定連接，動(dòng)電極設(shè)于固定電極下方，動(dòng)電極伸入真空室的外壁，動(dòng)電極與真空室外壁的相接處設(shè)有密封件，密封件外周依次設(shè)置水冷套和絕緣套，動(dòng)電極下端設(shè)置射頻接入件，動(dòng)電極下端通過絕緣隔離件與氣動(dòng)件連接，固定電極外周設(shè)有上屏蔽件，動(dòng)電極外周設(shè)有下屏蔽件。所述真空室為等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積室，包括沉積室腔和真空室壁，真空室壁設(shè)于沉積室腔外周；其中，沉積室腔為真空室的室腔，真空室壁為真空室的外壁。所述上屏蔽件和下屏蔽件相接，固定電極固定于上屏蔽件中部，動(dòng)電極滑動(dòng)于下屏蔽件中部。本真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)使用時(shí)，其原理是當(dāng)工件進(jìn)入真空室進(jìn)行等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積時(shí)，系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)件動(dòng)作，氣動(dòng)件末端驅(qū)使動(dòng)電極滑動(dòng)并與固定電極相接，射頻機(jī)構(gòu)通過射頻接入件即可進(jìn)行等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，具有以下有益效果本輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)采用氣動(dòng)件(包括氣缸形式等)驅(qū)動(dòng)使固定電極和動(dòng)電極自動(dòng)接合，將其應(yīng)用于等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積工藝，可有效提高生產(chǎn)效率；同時(shí)，減少人工操作，有效降低生產(chǎn)成本。

圖I為本輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
[0011]下面結(jié)合實(shí)施例及附圖，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式不限于此。實(shí)施例本實(shí)施例一種真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)如圖I所示，包括固定電極I、動(dòng)電極2、射頻接入件3和氣動(dòng)件4，固定電極與真空室的室腔5固定連接，動(dòng)電極設(shè)于固定電極下方，動(dòng)電極伸入真空室的外壁6，動(dòng)電極與真空室外壁的相接處設(shè)有密封件7，密封件外周依次設(shè)置水冷套8和絕緣套9，動(dòng)電極下端設(shè)置射頻接入件，動(dòng)電極下端通過絕緣隔離件10與氣動(dòng)件連接，固定電極外周設(shè)有上屏蔽件11，動(dòng)電極外周設(shè)有下屏蔽件12。真空室為等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積室，包括沉積室腔和真空室壁，真空室壁設(shè)于 沉積室腔外周；其中，沉積室腔為真空室的室腔，真空室壁為真空室的外壁。上屏蔽件和下屏蔽件相接，固定電極固定于上屏蔽件中部，動(dòng)電極滑動(dòng)于下屏蔽件中部。本真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)使用時(shí)，其原理是當(dāng)工件進(jìn)入真空室進(jìn)行等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積時(shí)，系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)件動(dòng)作，氣動(dòng)件末端驅(qū)使動(dòng)電極滑動(dòng)并與固定電極相接，射頻機(jī)構(gòu)通過射頻接入件即可進(jìn)行等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。如上所述，便可較好地實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型，上述實(shí)施例僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非用來限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍；即凡依本實(shí)用新型內(nèi)容所作的均等變化與修飾，都為本實(shí)用新型權(quán)利要求所要求保護(hù)的范圍所涵蓋。
權(quán)利要求1.真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括固定電極、動(dòng)電極、射頻接入件和氣動(dòng)件，固定電極與真空室的室腔固定連接，動(dòng)電極設(shè)于固定電極下方，動(dòng)電極伸入真空室的外壁，動(dòng)電極與真空室外壁的相接處設(shè)有密封件，密封件外周依次設(shè)置水冷套和絕緣套，動(dòng)電極下端設(shè)置射頻接入件，動(dòng)電極下端通過絕緣隔離件與氣動(dòng)件連接，固定電極外周設(shè)有上屏蔽件，動(dòng)電極外周設(shè)有下屏蔽件。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述真空室為等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積室，包括沉積室腔和真空室壁，真空室壁設(shè)于沉積室腔外周；其中，沉積室腔為真空室的室腔，真空室壁為真空室的外壁。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述上屏蔽件和下屏蔽件相接，固定電極固定于上屏蔽件中部，動(dòng)電極滑動(dòng)于下屏蔽件中部。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種真空鍍膜用的輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)，包括固定電極、動(dòng)電極、射頻接入件和氣動(dòng)件，固定電極與真空室的室腔固定連接，動(dòng)電極設(shè)于固定電極下方，動(dòng)電極伸入真空室的外壁，動(dòng)電極與真空室外壁的相接處設(shè)有密封件，密封件外周依次設(shè)置水冷套和絕緣套，動(dòng)電極下端設(shè)置射頻接入件，動(dòng)電極下端通過絕緣隔離件與氣動(dòng)件連接，固定電極外周設(shè)有上屏蔽件，動(dòng)電極外周設(shè)有下屏蔽件。本輸入電極自動(dòng)接合機(jī)構(gòu)采用氣動(dòng)件(包括氣缸形式等)驅(qū)動(dòng)使固定電極和動(dòng)電極自動(dòng)接合，將其應(yīng)用于等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積工藝，可有效提高生產(chǎn)效率；同時(shí)，減少人工操作，有效降低生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)C23C16/505GK202465871SQ20122005004
公開日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2012年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月16日
發(fā)明者朱剛勁, 朱剛毅, 朱文廓 申請(qǐng)人:肇慶市騰勝真空技術(shù)工程有限公司