專利名稱：一種鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種鍍膜機(jī)。
背景技術(shù)：
目前，行業(yè)內(nèi)鏡片鍍膜加工使用的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備多采用旋轉(zhuǎn)基片的方式來保證膜層厚度的均勻性。如圖I所示，在鍍膜的真空腔室Γ上部設(shè)置有由電機(jī)2'驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的鍍膜傘3'，鍍膜傘3'中心到邊緣的不同半徑的位置上設(shè)的數(shù)個(gè)鏡片放置孔31'，在鍍膜傘3'中心到邊緣的一中間位置處下方設(shè)置有由蒸發(fā)物質(zhì)41'如金屬、化合物等置于坩堝 42'內(nèi)構(gòu)成的蒸發(fā)源4'，待真空腔室I'抽至高真空后，由電機(jī)2'驅(qū)動(dòng)鍍膜傘3'以一定速度旋轉(zhuǎn)，同時(shí)，加熱坩堝42'使其上的蒸發(fā)物質(zhì)41'蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)41'的原子或分子以冷凝方式沉積在鏡片表面，通過成膜過程，即散點(diǎn)一島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長而形成薄膜。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。由于，薄膜厚度決定于蒸發(fā)源4'的蒸發(fā)速率和時(shí)間，并與蒸發(fā)源4'和鏡片間的距離有關(guān)。故而蒸發(fā)源4'折中設(shè)置在鍍膜傘3'中心到邊緣的一中間位置處下方，但盡管如此，鍍膜傘3,上中部位置上鏡片的薄膜厚度往往厚于其它位置上鏡片的薄膜厚度，使得加工出來的產(chǎn)品膜厚誤差大，光學(xué)薄膜厚度均勻性不好。

實(shí)用新型內(nèi)容為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種鍍膜機(jī)，以達(dá)到減小膜厚誤差，提高光學(xué)薄膜厚度均勻性的目的。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下一種鍍膜機(jī)，包括真空腔室和設(shè)于所述真空腔室上部并由電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的鍍膜傘，所述鍍膜傘中心到邊緣的不同半徑的位置上設(shè)有工件放置孔，所述鍍膜傘一側(cè)中心到邊緣的中間位置處下方設(shè)置有蒸發(fā)源，所述蒸發(fā)源和所述鍍膜傘之間還設(shè)置有一橄欖形修正板，所述修正板的兩端尖部分別位于所述鍍膜傘中心和邊緣的下方。優(yōu)選的，所述修正板設(shè)于所述蒸發(fā)源的正上方，且其兩端尖部分別到所述鍍膜傘之間的距離相等。優(yōu)選的，所述修正板由支撐桿支撐固定于所述真空腔室的底面上。通過上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型提供的一種鍍膜機(jī)通過在蒸發(fā)源和鍍膜傘之間設(shè)置一橄欖形修正板，通過修正板中間寬，兩端趨于尖細(xì)的形狀特點(diǎn)，可有效調(diào)整、修正旋轉(zhuǎn)的鍍膜傘上中心到邊緣上各位置處工件上形成的薄膜厚度，減小膜厚誤差，大大提高光學(xué)薄膜厚度均勻性。

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。[0011]圖I為現(xiàn)有技術(shù)中的鍍膜機(jī)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例所公開的一種鍍膜機(jī)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。本實(shí)用新型提供了一種鍍膜機(jī)，如圖2所示，包括真空腔室I、電機(jī)2、鍍膜傘3、蒸發(fā)源4和修正板5。所述鍍膜傘3設(shè)于所述真空腔室I的上部，其中心處通過轉(zhuǎn)軸連接有電機(jī)2，可由電機(jī)2驅(qū)動(dòng)其旋轉(zhuǎn)；所述鍍膜傘3中心到邊緣的不同半徑的位置上環(huán)形陣列有數(shù)個(gè)工件放置孔31，用以放置工件；所述鍍膜傘3 —側(cè)中心到邊緣的中間位置處下方設(shè)置有蒸發(fā)源4，于此，即為鍍膜傘3弧形傘面一側(cè)的二分之一位置處下方設(shè)置有蒸發(fā)源4;于本實(shí) 施例中，由蒸發(fā)物質(zhì)41置于坩堝42內(nèi)作為蒸發(fā)源4 ;所述蒸發(fā)源4和所述鍍膜傘3之間設(shè)置有一所述修正板5，所述修正板5呈橄欖形，具體位于所述蒸發(fā)源4的正上方，即修正板5的對稱中心投影在所述蒸發(fā)源4的中心位置上，所述修正板5兩端尖部分別位于所述鍍膜傘3中心和邊緣的下方，且分別到所述鍍膜傘3中心和邊緣的距離相等。所述修正板5由支撐桿支撐固定于所述真空腔室I的底面上。工作時(shí)，將工件置于鍍膜傘3上的工件放置孔31上，并將鍍膜傘3安裝固定好后，將真空腔室I抽至高真空，由電機(jī)2驅(qū)動(dòng)鍍膜傘3旋轉(zhuǎn)，同時(shí)加熱坩堝42，使其上的蒸發(fā)物質(zhì)41蒸發(fā)，蒸發(fā)物質(zhì)41的原子或分子以冷凝方式沉積在修正板5及工件表面，形成薄膜，由于修正板5具有中間粗，兩端尖細(xì)的形狀特點(diǎn)，通過將其置于所述蒸發(fā)源4和所述鍍膜傘3之間，可調(diào)整、修正鍍膜傘3上中心到邊緣的不同半徑的位置上工件的膜厚，減小工件的膜厚誤差，使得加工出來的工件膜厚誤差小，膜厚均勻性好。對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求1.一種鍍膜機(jī)，包括真空腔室和設(shè)于所述真空腔室上部并由電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的鍍膜傘，所述鍍膜傘中心到邊緣的不同半徑的位置上設(shè)有工件放置孔，所述鍍膜傘一側(cè)中心到邊緣的中間位置處下方設(shè)置有蒸發(fā)源，其特征在于，所述蒸發(fā)源和所述鍍膜傘之間還設(shè)置有一橄欖形修正板，所述修正板的兩端尖部分別位于所述鍍膜傘中心和邊緣的下方。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種鍍膜機(jī)，其特征在于，所述修正板設(shè)于所述蒸發(fā)源的正上方，且其兩端尖部分別到所述鍍膜傘之間的距離相等。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種鍍膜機(jī)，其特征在于，所述修正板由支撐桿支撐固定于所述真空腔室的底面上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種鍍膜機(jī)，包括真空腔室和設(shè)于所述真空腔室上部并由電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)的鍍膜傘，所述鍍膜傘中心到邊緣的不同半徑的位置上設(shè)有工件放置孔，所述鍍膜傘一側(cè)中心到邊緣的中間位置處下方設(shè)置有蒸發(fā)源，所述蒸發(fā)源和所述鍍膜傘之間還設(shè)置有一橄欖形修正板，所述修正板的兩端尖部分別位于所述鍍膜傘中心和邊緣的下方。通過橄欖形修正板中間寬，兩端尖細(xì)的形狀來調(diào)整修正鍍膜傘上工件的膜厚均勻性，具有減小膜厚誤差，提高光學(xué)薄膜厚度均勻性的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號C23C14/24GK202766611SQ201220244520
公開日2013年3月6日 申請日期2012年5月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月29日
發(fā)明者許峰 申請人:蘇州市博飛光學(xué)有限公司