專利名稱：立式鍍膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種板材涂層加工設(shè)備，尤其是一種立式往復(fù)卷繞連續(xù)真空鍍膜加工設(shè)備。
背景技術(shù)：
由于常規(guī)能源的大力開發(fā)利用，造成世界范圍內(nèi)的環(huán)境污染日趨嚴(yán)重。世界上很多國家已經(jīng)認識到，太陽能作為可再生能源，在持久使用環(huán)境資源為人類造福方面將起到十分巨大的作用。有著豐富太陽能資源的中國，已于2006年I月I日起正式實施《可再生能源法》，同時，國家“十一五”規(guī)劃綱要也已把可再生資源的發(fā)展作為一項重要任務(wù)，因此太陽能熱器本身具有巨大的潛在的推廣應(yīng)用價值。近年來，平板式太陽能集熱器由于具有承壓能力強，吸熱面積大等特點，是太陽能與建筑一體化結(jié)合最佳的集熱器類型。而平板式太陽能集熱器的核心技術(shù)就在于吸熱板表面的吸收涂層，吸收涂層的質(zhì)量，決定著整個集·熱器的性能?，F(xiàn)有的涂層鍍制設(shè)備一般為多個真空室裝料閉鎖和閥門室、工藝室和起料室。工藝室的端部直接在輸送系統(tǒng)上。各種附件可以放置在工藝室中以實現(xiàn)各種磁控環(huán)境和固定磁控濺射源。這種設(shè)備的每一個工藝室都只能鍍制一種膜層，因此在鍍制多層太陽能吸熱涂層的時候，就需要多個工藝室，各腔室之間需要若干真空封閉裝置，工作線很長，難于控制，質(zhì)量不穩(wěn)定，導(dǎo)致設(shè)備成本高昂，體積龐大。而且這種鍍制設(shè)備的生產(chǎn)效率和成品率也比較低。上述的這個技術(shù)問題，長期存在于平板式太陽能行業(yè)中，至今沒有得到有效的解決。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型提供一種結(jié)構(gòu)簡單、成本低、鍍膜工藝質(zhì)量易于控制且穩(wěn)定的立式鍍膜設(shè)備。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案它包括殼體，殼體內(nèi)部設(shè)有容置空間；第一收放卷，設(shè)于殼體內(nèi)用于繞制待鍍膜金屬板材并通過旋轉(zhuǎn)釋放金屬板材；第二收放卷，設(shè)于殼體內(nèi)用于接收已鍍膜金屬板材并旋轉(zhuǎn)回收于收放卷上；靶材，分別設(shè)于金屬板材運行路徑的兩側(cè)用于對金屬板材進行磁控濺射鍍膜；浮動輥，設(shè)于金屬板材的運行路徑上用于提供金屬板材的恒定的張緊度；其中，所述的殼體為立式殼體，所述的第一收放卷和第二收放卷設(shè)于殼體內(nèi)部下方，所述的第一收放卷和第二收放卷上方分別設(shè)置第一導(dǎo)向輥和第二導(dǎo)向輥，所述的浮動輥設(shè)于第一收放卷、第二收放卷、第一導(dǎo)向輥和第二導(dǎo)向輥之間的位置，所述的封閉艙設(shè)于金屬板材由第一導(dǎo)向輥經(jīng)浮動輥到第二導(dǎo)向輥形成的U形路徑范圍中，金屬板材由第一收放卷經(jīng)第一導(dǎo)向輥到浮動輥形成的U形路徑范圍中和金屬板材由浮動輥經(jīng)第一導(dǎo)向輥到第二收放卷形成的U形路徑范圍中分別設(shè)置一組靶材。[0012]上述結(jié)構(gòu)中，所述的殼體上設(shè)有檢測浮動輥的升降以對收放卷的轉(zhuǎn)速進行微調(diào)的傳感器。上述結(jié)構(gòu)中，所述的浮動輥設(shè)于一垂直的浮動輥支架上，浮動輥可相對于浮動輥支架垂直運動。上述結(jié)構(gòu)中，所述的殼體內(nèi)中部還設(shè)有用于減少殼體內(nèi)無效空間的封閉艙，封閉艙兩側(cè)設(shè)有加熱器。由于采用了上述結(jié)構(gòu)，本實用新型的立式鍍膜設(shè)備在殼體內(nèi)部形成一金屬板材由第一收放卷到第二收放卷的釋放和回收的路徑，將靶材設(shè)于金屬板材的運行路徑的兩側(cè)進行磁控濺射鍍膜，使得內(nèi)部部件的結(jié)構(gòu)緊湊，整機體積小巧，而且整個運行過程持續(xù)穩(wěn)定可控，極大的提高了鍍膜工藝的品質(zhì)，加強了吸熱板芯的吸熱效果，提高了光能的轉(zhuǎn)化效率。

圖I是本實用新型實施例的平面內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；·圖2是本實用新型實施例的立體內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖I和圖2所示，本實用新型的實施例中所提供的立式鍍膜設(shè)備包括立式殼體，殼體內(nèi)部設(shè)有容置空間；第一收放卷，設(shè)于殼體內(nèi)用于繞制待鍍膜金屬板材并通過旋轉(zhuǎn)釋放金屬板材；第二收放卷，設(shè)于殼體內(nèi)用于接收已鍍膜金屬板材并旋轉(zhuǎn)回收于收放卷上；靶材，分別設(shè)于金屬板材運行路徑的兩側(cè)用于對金屬板材進行磁控濺射鍍膜。工作時，第一收放卷旋轉(zhuǎn)進行金屬板材的釋放，釋放的金屬板材經(jīng)過靶材時進行磁控濺射鍍膜，然后由第二收放卷進行回收待用，具體原理可參考本領(lǐng)域的磁控濺射鍍膜技術(shù)，此處不再重復(fù)說明。由于進行磁控濺射鍍膜的金屬板材普遍厚度較小，一般為O. 1-0. 5毫米左右，在卷繞和運行過程中經(jīng)常出現(xiàn)松弛或者皺褶的情況，造成被鍍膜的表面不平整，影響鍍膜的效果，為了避免上述情況發(fā)生，本實用新型在金屬板材的運行路徑上設(shè)有用于調(diào)節(jié)金屬板材的張緊度的浮動輥，浮動輥設(shè)于金屬板材的運行路徑上并偏離第一收放卷和第二收放卷的轉(zhuǎn)軸所在的平面，使得浮動輥對金屬板材的運行有一種拉緊的效果，消除松弛和皺褶的現(xiàn)象，保證鍍膜的效果。使用時，手動或自動控制浮動輥的位置實現(xiàn)對板料的糾偏；而且所述的殼體上設(shè)有傳感器，通過傳感器檢測浮動輥的升降對收放卷的轉(zhuǎn)速進行微調(diào)。由于浮動輥偏離了第一收放卷和第二收放卷的轉(zhuǎn)軸所在的平面，為了對金屬板材由第一收放卷到浮動輥以及由浮動輥向第二收放卷運行時進行導(dǎo)向，使得整體運行過程更加平穩(wěn)，在金屬板材的運行路徑上設(shè)有導(dǎo)向輥。
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進行詳細的說明。圖I和圖2是本實用新型的附圖，如圖I和圖2所示，本實用新型所述的殼體I為立式殼體，所述的第一收放卷2和第二收放卷3設(shè)于殼體I內(nèi)部下方，所述的第一收放卷2和第二收放卷3上方分別設(shè)置第一導(dǎo)向輥7和第二導(dǎo)向輥7’，所述的浮動輥4設(shè)于第一收放卷2、第二收放卷3、第一導(dǎo)向輥7和第二導(dǎo)向輥V之間的位置，所述的封閉艙5設(shè)于金屬板材由第一導(dǎo)向輥7經(jīng)浮動輥4到第二導(dǎo)向輥V形成的U形路徑范圍中；所述的殼體I內(nèi)中部還設(shè)有封閉艙5，封閉艙5減少殼體內(nèi)無效空間、縮短殼體內(nèi)抽真空的時間，封閉艙5兩側(cè)設(shè)有加熱器51，金屬板材由第一收放卷2經(jīng)第一導(dǎo)向輥7到浮動輥4形成的U形路徑范圍中和金屬板材由浮動輥4經(jīng)第一導(dǎo)向輥7到第二收放卷3形成的U形路徑范圍中分別設(shè)置一組靶材6和6’，殼體上對應(yīng)靶材的位置設(shè)有艙門11。在金屬板材的運行路徑上還設(shè)有導(dǎo)向輥10，一側(cè)在圖中被其他部件被遮住，圖中未示出。殼體內(nèi)位于第一收放卷和第二收放卷下方的位置設(shè)有隔板12。另外，值得注意的是，由于金屬板材經(jīng)過第一收放卷2到浮動輥4再到第二收放卷3的運行過程中，當(dāng)?shù)谝皇辗啪?上的待鍍膜的金屬材料卷到達盡頭時，金屬板材端部在第一收放卷上拉緊，整個運行過程結(jié)束，所以每個金屬材料卷的末端都有一部分不能經(jīng)過鍍膜后回收到第二收放卷3上，造成浪費，為了避免浪費，本實施例中，浮動輥4設(shè)于一垂直浮動輥支架8上，在第一收放卷2和第二收放卷3上各預(yù)裝有一段金屬板材，待鍍膜板材兩端分別和第一收放卷2和第二收放卷3上的預(yù)留板材連接，以實現(xiàn)對所有待鍍膜板材的鍍膜。提高了金屬板材的利用率。對浮動輥的狀態(tài)的判斷和調(diào)節(jié)可以通過人工進行或自動進行，為了實現(xiàn)自動判斷 和控制，本實施例在殼體上還設(shè)置一傳感器9，通過傳感器檢測浮動輥的升降對收放卷的轉(zhuǎn)速進行微調(diào)。傳感器信號的檢測和執(zhí)行是公知技術(shù)，此處不再具體展開說明傳感器與提示裝置或者執(zhí)行裝置的原理。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種立式鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括 殼體，殼體內(nèi)部設(shè)有容置空間； 第一收放卷，設(shè)于殼體內(nèi)用于繞制待鍍膜金屬板材并通過旋轉(zhuǎn)釋放金屬板材； 第二收放卷，設(shè)于殼體內(nèi)用于接收已鍍膜金屬板材并旋轉(zhuǎn)回收于收放卷上； 靶材，分別設(shè)于金屬板材運行路徑的兩側(cè)用于對金屬板材進行磁控濺射鍍膜； 浮動輥，設(shè)于金屬板材的運行路徑上用于提供金屬板材的恒定的張緊度； 其中，所述的殼體為立式殼體，所述的第一收放卷和第二收放卷設(shè)于殼體內(nèi)部下方，所述的第一收放卷和第二收放卷上方分別設(shè)置第一導(dǎo)向輥和第二導(dǎo)向輥，所述的浮動輥設(shè)于第一收放卷、第二收放卷、第一導(dǎo)向輥和第二導(dǎo)向輥之間的位置，所述的封閉艙設(shè)于金屬板材由第一導(dǎo)向輥經(jīng)浮動輥到第二導(dǎo)向輥形成的U形路徑范圍中，金屬板材由第一收放卷經(jīng)第一導(dǎo)向輥到浮動輥形成的U形路徑范圍中和金屬板材由浮動輥經(jīng)第一導(dǎo)向輥到第二收放卷形成的U形路徑范圍中分別設(shè)置一組靶材。
2.如權(quán)利要求I中任一項所述的立式鍍膜設(shè)備，其特征在于所述的殼體上設(shè)有檢測浮動輥的升降對收放卷的轉(zhuǎn)速進行微調(diào)傳感器。
3.如權(quán)利要求2所述的立式鍍膜設(shè)備，其特征在于所述的浮動輥設(shè)于一垂直的浮動輥支架上，浮動輥可相對于浮動輥支架垂直運動。
4.如權(quán)利要求3所述的立式鍍膜設(shè)備，其特征在于所述的殼體內(nèi)中部還設(shè)有用于減少殼體內(nèi)無效空間的封閉艙，封閉艙兩側(cè)設(shè)有加熱器。
專利摘要本實用新型涉及一種板材涂層加工設(shè)備，尤其是一種立式往復(fù)卷繞連續(xù)真空鍍膜加工設(shè)備。包括立式殼體，所述的第一收放卷和第二收放卷設(shè)于殼體內(nèi)部下方，所述的第一收放卷和第二收放卷上方分別設(shè)置第一導(dǎo)向輥和第二導(dǎo)向輥，所述的浮動輥設(shè)于第一收放卷、第二收放卷、第一導(dǎo)向輥和第二導(dǎo)向輥之間的位置，所述的封閉艙設(shè)于金屬板材由第一導(dǎo)向輥經(jīng)浮動輥到第二導(dǎo)向輥形成的U形路徑范圍中，金屬板材由第一收放卷經(jīng)第一導(dǎo)向輥到浮動輥形成的U形路徑范圍中和金屬板材由浮動輥經(jīng)第一導(dǎo)向輥到第二收放卷形成的U形路徑范圍中分別設(shè)置一組靶材。本實用新型內(nèi)部部件的結(jié)構(gòu)緊湊，整機體積小巧，運行過程持續(xù)穩(wěn)定可控，適用于多種鍍膜基材和鍍膜工藝，極大的提高了鍍膜設(shè)備的兼容性。
文檔編號C23C14/35GK202688422SQ20122028458
公開日2013年1月23日 申請日期2012年6月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月15日
發(fā)明者楊憲杰 申請人:楊憲杰