專利名稱：一種vd 爐真空罐體密封圈保護裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本實用新型屬于冶金設備技術(shù)領域，涉及一種VD爐真空罐體密封圈用保護裝置。
背景技術(shù)：
VD真空脫氣爐罐蓋一般是由密封大爐蓋和中心小爐蓋組成。中心小爐蓋的主要作用是屏蔽真空脫氣過程鋼液的高溫輻射和防止鋼渣的直接濺出，保護大爐蓋，減輕高溫對大爐蓋及其配置設備的損壞，確保真空脫氣過程順行；同時，屏蔽爐內(nèi)的熱量，減少熱量散失，起到保溫和避免在VD爐真空脫氣過程中造成鋼液的溫降過大的作用。中心小爐蓋一般由爐蓋外殼及保溫層耐材內(nèi)襯兩部分構(gòu)成。在真空脫氣過程中，中心小爐蓋由于受高溫氣流沖刷、高溫爐渣、鋼液的輻射，內(nèi)襯溫度高達1400°C -1700°C。精煉結(jié)束，罐體爐蓋抬起、開出時溫度900°C -1100°C，在下爐鋼液吊進真空罐體后，罐體爐蓋開進，此時中心屏蔽小 爐蓋內(nèi)襯的溫度仍達600°C -900°C。真空罐體的上沿為一環(huán)形凹槽，凹槽內(nèi)設有橡膠質(zhì)密封圈，并注入水，以在罐體爐蓋下落時起到良好的密封、冷卻作用。由于罐體爐蓋車設置在真空罐體的一側(cè)；因此，在爐蓋開進、開出的過程中，靠近該側(cè)的真空罐體密封圈，受中心小爐蓋高溫內(nèi)襯的輻射、烘烤作用，易發(fā)生變形、開裂，降低密封圈使用壽命、增加生產(chǎn)成本，影響真空罐體的密封及真空精煉效果。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，依據(jù)VD爐真空罐體用密封圈在中心小爐蓋內(nèi)襯高溫輻射、烘烤作用下易變形、開裂，導致使用壽命降低，生產(chǎn)成本增加，并影響真空罐體的密封及真空精煉效果的實際，提供一種VD爐真空罐體用密封圈護板及設有該護板的密封圈保護裝置，以減輕或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯對密封一側(cè)密封圈的輻射、烘烤作用，提高密封圈壽命，降低生產(chǎn)成本，保證真空罐體的密封及真空精煉效果。一種VD爐真空罐體密封圈護板，包括一個用于覆蓋密封圈的扇環(huán)部。優(yōu)選的，扇環(huán)部外側(cè)設置一個用于放置和取出該護板的托持部。優(yōu)選的，所述托持部為矩形。一種VD爐真空罐體密封圈保護裝置，包括護板(4)和護板升降系統(tǒng)，護板(4)包括一個用于覆蓋密封圈的扇環(huán)部，扇環(huán)部外側(cè)設置一個用于放置和取出該護板的托持部。護板升降系統(tǒng)的優(yōu)選方案是，設置立柱(1)，立柱(I)通過支架(2)與VD爐罐蓋
(11)固定連接；護板升降系統(tǒng)包括升降桿(5)、連接桿(6)、轉(zhuǎn)動軸(7)、支撐桿(8)，升降桿
(5)的上端設有凹槽(10)，下端通過轉(zhuǎn)動軸(7)與支撐桿(8)的前端連接，支撐桿(8)的后端固定在真空罐體(12)外殼上；連接桿(6)的下端固定在升降桿(5)上，連接桿(6)的上端固定在護板(4)托持部的底面。優(yōu)選的，托持部為矩形。優(yōu)選的，支架⑵與立柱和與VD爐罐蓋(11)的固定連接、支撐桿(8)的后端與真空罐體(12 )外殼的固定連接，連接桿(6 )的下端與升降桿(5 )的固定連接，以及連接桿(6 )的上端與護板(4)托持部底面的固定連接均采用焊接的方式。為了能夠讓立柱(I)便于定位，與升降桿(5)更易結(jié)合，優(yōu)選的，立柱(I)是圓柱體，升降桿(5)上端的凹槽為圓形凹槽。為了實現(xiàn)護板快速升降，使護板升降 更加靈敏，優(yōu)選的，連接桿(6)的下端固定在升降桿(5)的中上部。優(yōu)選的，升降桿(5)上端的圓形凹槽(10)內(nèi)徑為立柱(I)外徑的I. 5-1. 8倍。優(yōu)選的，護板(4)的扇環(huán)部內(nèi)徑為真空罐體(12)上沿凹槽(9)內(nèi)徑的O. 8-1. 2倍，扇環(huán)部的外徑為真空罐體(12)上沿凹槽(9)外徑的1-1. 2倍。本實用新型提供的VD爐真空罐體密封圈保護裝置，可以有效減輕或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯對密封一側(cè)密封圈的輻射、烘烤作用，提高密封圈壽命，降低生產(chǎn)成本，保證真空罐體的密封及真空精煉效果。

圖I 一種VD爐真空罐體密封圈護板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2本實用新型VD爐真空罐體密封圈保護裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖3本實用新型VD爐真空罐體密封圈保護裝置俯視結(jié)構(gòu)示意圖。其中1_立柱，2-支架，3-密封圈，4-護板，5-升降桿，6-連接桿，7-轉(zhuǎn)動軸，8-支撐桿,9-罐體上沿凹槽，10-升降桿凹槽，11-罐蓋，12-真空罐體，41-扇環(huán)部，42-托持部。
具體實施方式
如圖I所示，一種VD爐真空罐體密封圈護板4，包括一個用于覆蓋密封圈3的扇環(huán)部41。扇環(huán)部41外側(cè)設置一個用于放置和取出該護板的托持部42。優(yōu)選的，該托持部42為矩形。護板4可以使用普通鋼板制成，也可以使用任何耐熱材料。一種VD爐真空罐體密封圈保護裝置，包括上述護板4和護板升降系統(tǒng)。護板升降系統(tǒng)的優(yōu)選方案是，如圖2、圖3所示，設置立柱1，立柱I通過支架2與VD爐罐蓋11固定連接，具體的固定方式可以是，支架2 —端焊接在立柱I上另一端焊接在VD爐罐蓋11上；護板升降系統(tǒng)包括升降桿5、連接桿6、轉(zhuǎn)動軸7、支撐桿8，升降桿5的上端設有凹槽10，為了能夠讓立柱I便于定位，與升降桿5更易結(jié)合，優(yōu)選的，立柱I采用圓柱體結(jié)構(gòu)，凹槽10最好采用圓形凹槽。升降桿5的下端通過轉(zhuǎn)動軸7與支撐桿8的前端轉(zhuǎn)動連接，支撐桿8的后端固定在真空罐體12外殼上，例如，可以是焊接或者任何其他固定方式；連接桿6的下端固定例如可以是焊接在升降桿5上，優(yōu)選的焊接在升降桿5的中上部，可以實現(xiàn)護板快速升降，使護板升降更加靈敏。連接桿6的上端固定例如可以是焊接在護板4的托持部42的底面。優(yōu)選的，升降桿5上端的圓形凹槽10的內(nèi)徑為立柱I外徑的I. 5-1. 8倍，例如可以是I. 5倍、I. 6倍、I. 7倍或者I. 8倍。護板4扇環(huán)部41的內(nèi)徑為真空罐體12上沿凹槽9內(nèi)徑的O. 8-1. 2倍，例如可以是O. 8倍、O. 9倍、I倍、I. I倍或者I. 2倍。扇環(huán)部41的外徑為真空罐體12上沿凹槽9外徑的1-1. 2倍，例如可以是I倍、I. I倍或者I. 2倍。[0026]在正常生產(chǎn)過程中，當需要真空處理的鋼液吊進真空罐體12后，在罐蓋(11)開進過程中，由于該側(cè)密封圈(3)上部蓋有護板(4)，可有效減少或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯的輻射、烘烤作用。在罐蓋(11)開進到位，下降過程中，焊接在罐蓋外殼上的立柱(I)與升降桿(5)的上端接觸，將升降桿(5)壓下，通過連接桿(6)帶動護板(4)升起，以防止影響罐蓋
(11)與真空罐體(12)上沿的接觸。在真空精煉結(jié)束，罐蓋(11)升起的過程中，立柱(I)隨罐蓋(11)上升，升降桿(5)隨之上升，護板(4)下降，當立柱(I)與升降桿(5)脫離時，護板 (4)在重力作用下下降蓋在真空罐體(12)上沿凹槽(9)的頂部。確保在罐蓋開出的過程中，可有效減少或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯的輻射、烘烤作用，從而提高密封圈壽命，降低生產(chǎn)成本，保證真空罐體的密封及真空精煉效果。
權(quán)利要求1.一種VD爐真空罐體密封圈保護裝置，其特征在于，包括護板(4)和護板升降系統(tǒng)，護板(4)包括一個用于覆蓋密封圈的扇環(huán)部，扇環(huán)部外側(cè)設置一個用于放置和取出該護板的托持部。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的VD爐真空罐體密封圈保護裝置，其特征在于，托持部為矩形。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的VD爐真空罐體密封圈保護裝置，其特征在于，設置立柱(I)，立柱(I)通過支架(2)與VD爐罐蓋(11)固定連接；護板升降系統(tǒng)包括升降桿(5)、連接桿(6)、轉(zhuǎn)動軸(7)、支撐桿(8)，升降桿(5)的上端設有凹槽(10)，下端通過轉(zhuǎn)動軸(7)與支撐桿(8)的前端連接,支撐桿(8)的后端固定在真空罐體(12)外殼上；連接桿(6)的下端固定在升降桿(5)上，連接桿(6)的上端固定在護板(4)托持部的底面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的VD爐真空罐體密封圈保護裝置，其特征在于，立柱(I)是圓柱體，升降桿(5)上端的凹槽為圓形凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的VD爐真空罐體密封圈保護裝置，其特征在于，升降桿(5)的上端圓形凹槽(10)的內(nèi)徑為立柱(I)外徑的I. 5-1. 8倍。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的VD爐真空罐體密封圈保護裝置，其特征在于，支架(2)與立柱和與VD爐罐蓋(11)的固定連接、支撐桿(8)的后端與真空罐體(12)外殼的固定連接，連接桿(6)的下端與升降桿(5)的固定連接，以及連接桿(6)的上端與護板(4)托持部底面的固定連接均采用焊接的方式。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的VD爐真空罐體密封圈保護裝置，其特征在于，連接桿(6)的下端固定在升降桿(5)的中上部。
8.根據(jù)權(quán)利要求2-7任意一項所述的VD爐真空罐體密封圈保護裝置，其特征在于，護板(4)的扇環(huán)部內(nèi)徑為真空罐體(12)上沿凹槽(9)內(nèi)徑的O. 8-1. 2倍，扇環(huán)部的外徑為真空罐體(12)上沿凹槽(9)外徑的1-1. 2倍。
專利摘要一種VD爐真空罐體密封圈保護裝置，屬于冶金設備技術(shù)領域，包括護板(4)和護板升降系統(tǒng)，護板(4)包括一個用于覆蓋密封圈的扇環(huán)部，扇環(huán)部外側(cè)設置一個用于放置和取出該護板的托持部。本實用新型可以有效減輕或避免中心小爐蓋高溫內(nèi)襯對密封一側(cè)密封圈的輻射、烘烤作用，提高密封圈壽命，降低生產(chǎn)成本，保證真空罐體的密封及真空精煉效果。
文檔編號C21C7/10GK202643745SQ20122032209
公開日2013年1月2日 申請日期2012年7月4日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月4日
發(fā)明者李法興, 張君平, 翟正龍, 王學利, 孫永喜, 孟憲華, 于學文, 劉亞麗, 裴建華, 鄭桂蕓, 范黎明, 劉永昌, 盧乃雙 申請人:萊蕪鋼鐵集團有限公司