專利名稱：乙炔脈沖真空滲碳裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及了一種乙炔脈沖真空滲碳裝置，屬于熱處理技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
乙炔能獲得非常高的碳勢，是滲碳工藝中一種非常常用的滲碳劑?，F(xiàn)有的采用乙炔進行滲碳的過程通常是在空氣中進行的，由于氣體滲碳，導致晶界氧化比較嚴重，對于細孔的工件，細孔內(nèi)部的滲碳層不夠均勻。

實用新型內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種乙炔脈沖真空滲碳裝置，使利用該裝
置完成滲碳的工件的滲碳層更加均勻，沒有晶界氧化產(chǎn)生，滲碳時間短，能耗小。為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型所采用的技術(shù)方案是一種乙炔脈沖真空滲碳裝置，包括滲碳爐和乙炔存儲罐，所述還包括多個形狀、容量相同的腔體，每個腔體與所述乙炔存儲罐相連通，所述滲碳爐上、下表面均等間距設(shè)有與所述腔體數(shù)量相同的開口，每個腔體對應(yīng)連通一個上表面開口和一個下表面開口，所述每個開口處設(shè)有第一電磁閥，所述腔體與乙炔存儲罐設(shè)有第二電磁閥。前述的乙炔脈沖真空滲碳裝置，其特征在于所述滲碳爐上還連接有抽真空裝置。前述的乙炔脈沖真空滲碳裝置，其特征在于至少一個所述腔體上安裝有壓力計。前述的乙炔脈沖真空滲碳裝置，其特征在于所述腔體的數(shù)量為6個。本實用新型的有益效果是通過間隙式的乙炔滲碳的方式，能對形狀較為復(fù)雜的工件進行滲碳，細孔的工件內(nèi)部進行滲碳，也能得到較均勻的滲碳層，并且工件表面清潔光亮，真空脈沖滲碳滲速較快，時間較短，金相組織均勻，而晶界氧化幾乎為零，成品外觀良好、耗能少、無環(huán)境污染、又可以保證高品質(zhì)。

圖I是本發(fā)明乙炔脈沖真空滲碳裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合說明書附圖，對本發(fā)明作進一步的說明。如圖I所示，一種乙炔脈沖真空滲碳裝置，包括滲碳爐I和乙炔存儲罐2，所述還包括多個形狀、容量相同的腔體3，每個腔體3與所述乙炔存儲罐2相連通，所述滲碳爐I上、下表面均等間距設(shè)有與所述腔體3數(shù)量相同的開口，每個腔體3對應(yīng)連通一個上表面開口和一個下表面開口，所述每個開口處設(shè)有第一電磁閥4，所述腔體3與乙炔存儲罐2設(shè)有第二電磁閥7，所述滲碳爐I上還連接有抽真空裝置5，至少一個所述腔體3上安裝有壓力計8，所述腔體3的數(shù)量為6個。在利用該裝置完成滲碳工藝時，關(guān)閉滲碳爐I上、下表面開口處的第一電磁閥4，打開第二電磁閥7，通過乙炔存儲罐2對腔體3內(nèi)同時充乙炔氣體，通過壓力計8讀取腔體3內(nèi)的壓力，當壓力值滿足滲碳需要的壓力時，關(guān)閉第二電磁閥7，利用抽真空裝置5將滲碳爐I內(nèi)抽真空，然后打開滲碳爐I上表面開口處的第一電磁閥4，使乙炔氣體從滲碳爐I上部進入，對產(chǎn)品6進行滲碳，一定時間后，關(guān)閉滲碳爐I上表面開口處的第一電磁閥4，利用抽真空裝置5將滲碳爐I內(nèi)抽真空，打開第二電磁閥7，通過乙炔存儲罐2對腔體3內(nèi)同時充乙炔氣體，通過壓力計8讀取腔體3內(nèi)的壓力，當壓力值滿足滲碳需要的壓力時，關(guān)閉第二電磁閥7，然后打開滲碳爐I下表面開口處的第一電磁閥4，使乙炔氣體從滲碳爐I下部進入，對產(chǎn)品6進行滲碳，一定時間后，關(guān)閉滲碳爐I下表面開口處的第一電磁閥4，利用抽真空裝置5將滲碳爐I內(nèi)抽真空，循環(huán)上述過程，實現(xiàn)對產(chǎn)品6進行間隙式真空滲碳。綜上所述，本實用新型提供的乙炔脈沖真空滲碳裝置，使利用該裝置完成滲碳的工件的滲碳層更加均勻，沒有晶界氧化產(chǎn)生，滲碳時間短，能耗小。以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征及優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本 實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內(nèi)。本實用新型要求保護范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界。
權(quán)利要求1.一種乙炔脈沖真空滲碳裝置，包括滲碳爐(I)和乙炔存儲罐(2)，其特征在于所述還包括多個形狀、容量相同的腔體(3)，每個腔體與所述乙炔存儲罐(2)相連通，所述滲碳爐(I)上、下表面均等間距設(shè)有與所述腔體(3)數(shù)量相同的開口，每個腔體(3)對應(yīng)連通一個上表面開口和一個下表面開口，所述每個開口處設(shè)有第一電磁閥(4 )，所述腔體(3 )與乙炔存儲罐(2 )設(shè)有第二電磁閥(7 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的乙炔脈沖真空滲碳裝置，其特征在于所述滲碳爐(I)上還連接有抽真空裝置(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的乙炔脈沖真空滲碳裝置，其特征在于至少一個所述腔體(3)上安裝有壓力計(8)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的乙炔脈沖真空滲碳裝置，其特征在于所述腔體(3)的數(shù)量為6個。
專利摘要本實用新型公開了一種乙炔脈沖真空滲碳裝置，包括滲碳爐和乙炔存儲罐，所述還包括多個形狀、容量相同的腔體，每個腔體與所述乙炔存儲罐相連通，所述滲碳爐上、下表面均等間距設(shè)有與所述腔體數(shù)量相同的開口，每個腔體對應(yīng)連通一個上表面開口和一個下表面開口，所述每個開口處設(shè)有第一電磁閥，所述腔體與乙炔存儲罐設(shè)有第二電磁閥。本實用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中由于氣體滲碳，導致晶界氧化比較嚴重，對于細孔的工件，細孔內(nèi)部的滲碳層不夠均勻的問題，通過間隙式的乙炔滲碳的方式，能對形狀較為復(fù)雜的工件進行滲碳，細孔的工件內(nèi)部進行滲碳，也能得到較均勻的滲碳層，而晶界氧化幾乎為零，成品外觀良好、耗能少、無環(huán)境污染、又可以保證高品質(zhì)。
文檔編號C23C8/20GK202705448SQ201220342988
公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月16日
發(fā)明者楊洪波 申請人:鑫光熱處理工業(yè)(昆山)有限公司