專利名稱：一種用于卷繞鍍膜機的防導向輥結(jié)霧裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本實用新型涉及一種卷繞鍍膜機防導向輥結(jié)霧裝置，屬于電子設備鍍膜技術(shù)領域。
背景技術(shù)：
真空卷繞鍍膜技術(shù)能夠在基材上鍍IT0、Si0 2、In、Cu、N i、T i等金屬、非金屬及其氧化物，基材以PET、B0 PP、CPP、涂漆紙及復合玻璃微珠的紙等居多。真空卷繞鍍膜設備按其用途可分為裝飾用真空卷繞鍍膜設備；包裝用真空卷繞鍍膜設備；功能膜真空卷繞鍍膜設備。功能膜真空卷繞鍍膜設備中又可細分為電容器鍍膜(分為鍍鋁、鍍鋅鋁、鍍銀鋅鋁三種)、防偽鍍膜、功能性阻隔鍍膜、高速公路反光標鍍膜、物理光譜鍍膜、顯示鍍膜、導電ITO鍍膜、泡沫鎳鍍膜、防輻射布鍍膜、鍍絲設備、鋼帶鍍膜等等。對于柔性基材PET表面濺鍍Ho導電薄膜而言，采用直流磁控濺射濺鍍得到的Ho 薄膜附著力較強。直流磁控濺射過程中靶材與基材距離在IOOmm左右，導致基材表面溫度很高，因此基材需采用冷卻裝置，即低溫濺射鍍膜。如圖I所示，該鍍膜系統(tǒng)冷卻鼓給基材降溫，一般工藝要求溫度低于-10°C。由于鼓表面溫度很低，導致鼓上側(cè)導向輥溫度也很低，一般低于-5°C ο 一次鍍膜周期結(jié)束后，卷繞鍍膜機恢復大氣壓時，由于冷卻鼓可根據(jù)設定值自動回溫并達到室溫，而導向輥恢復到室溫需要時間很長，與此同時，鍍膜機恢復大氣壓的過程中空氣中水蒸氣進入真空室并在導向輥表面發(fā)生凝華現(xiàn)象導致輥表面附著大量水珠，對下一次產(chǎn)品的生產(chǎn)造成影響，如影響導電膜層的光電性能，影響膜層外觀并導致良品率下降，影響卷繞鍍膜機的潔凈程度等。
發(fā)明內(nèi)容為了克服上述缺陷，本實用新型的目的在于提供一種保持導向輥的溫度，以消除冷卻鼓對其冷卻影響的用于卷繞鍍膜機的防導向輥結(jié)霧裝置。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案一種用于卷繞鍍膜機的防導向輥結(jié)霧裝置，該裝置包括兩個或者兩個以上豎向的固定裝置，在兩兩固定裝置之間設置有多個橫向的加熱器。所述加熱器由電熱管或電熱片組成。所述固定裝置的材料為陶瓷耐高溫材料。防結(jié)霧裝置固定于導向輥上側(cè)，尺寸不得阻礙柔性基材轉(zhuǎn)動。加熱器由電熱管或電熱片組成，該電熱管或電熱片能持續(xù)加熱。加熱溫度范圍為0°c至300°C。固定裝置由陶瓷等耐高溫材料組成，該固定裝置承受溫度大于600°C，不易老化。本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比有如下技術(shù)優(yōu)點防止該導向輥凝結(jié)水汽對膜層光電性能的影響，保證鍍膜成品率，提高鍍膜室清潔度，除此之外該裝置還可以為基材升溫，防止基材因鼓溫度過低導致表面凝結(jié)水蒸氣。

[0011]圖I為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為卷繞鍍膜機內(nèi)本實用新型裝置安裝結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖1、2對本實用新型進行詳細說明一種用于卷繞鍍膜機的防導向輥結(jié)霧裝置，該裝置包括兩個或者兩個以上豎向的固定裝置2，在兩兩固定裝置2之間設置有多個橫向的加熱器I。所述加熱器I由電熱管或電熱片組成。所述固定裝置2的材料為陶瓷耐高溫材料。本實用新型固定于導向輥3上側(cè)，尺寸不得阻礙柔性基材轉(zhuǎn)動。
·[0015]鍍膜工藝過程中，基材由放卷室卷至鍍膜鼓上面，經(jīng)由各個鍍膜室進入收卷室。鍍膜時為保證基材不發(fā)生熱致變形，冷卻鼓采用冷卻液將溫度保持在-10°C到-15°c之間，打開防結(jié)霧裝置電源，溫度控制在60°C到300°C之間，保證鍍膜鼓在對基材降溫的過程中不會導致導向輥溫度值過低。以上所述實施例僅表達了本專利的一種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本專利構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本專利的保護范圍應以所附權(quán)利要求為準。
權(quán)利要求1.一種用于卷繞鍍膜機的防導向輥結(jié)霧裝置，其特征在于該裝置包括兩個或者兩個以上豎向的固定裝置(2)，在兩兩固定裝置(2)之間設置有多個橫向的加熱器(I)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于卷繞鍍膜機的防導向輥結(jié)霧裝置，其特征在于所述加熱器(I)由電熱管或電熱片組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于卷繞鍍膜機的防導向輥結(jié)霧裝置，其特征在于所述固定裝置(2)的材料為陶瓷耐高溫材料。
專利摘要本實用新型涉及一種卷繞鍍膜機防導向輥結(jié)霧裝置，屬于電子設備鍍膜技術(shù)領域。該裝置包括兩個或者兩個以上豎向的固定裝置，在兩兩固定裝置之間設置有多個橫向的加熱器。防止該導向輥凝結(jié)水汽對膜層光電性能的影響，保證鍍膜成品率，提高鍍膜室清潔度，除此之外該裝置還可以為基材升溫，防止基材因鼓溫度過低導致表面凝結(jié)水蒸氣。
文檔編號C23C14/56GK202688431SQ201220353049
公開日2013年1月23日 申請日期2012年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月20日
發(fā)明者李晨光 申請人:南昌歐菲光科技有限公司