專利名稱：一種調節(jié)真空磁控輝光均勻性的裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及玻璃深加工技術領域，尤其涉及一種調節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置。
背景技術：
上世紀90年代至今，磁控濺射技術的應用日趨廣泛，在工業(yè)化生產和科學研究領域發(fā)揮巨大作用。磁控濺射技術作為一種十分有效的薄膜沉積方法，被普遍和成功的應用在許多方面，特別是光學薄膜、微電子、材料表面處理領域中，用于薄膜沉積和表面覆蓋層制備。磁控濺射生成的薄膜厚度的均勻性是成膜性質的一項重要指標，在濺射鍍膜中， 由于靶內磁場分布，濺射氣體分部以及濺射源特有的性質等原因，使得所鍍膜層厚度不能理想的均勻分布。專利號CN201120282981. 5的中國專利公開了一種可改善磁控濺射鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其方法是鍍膜腔體內安裝一組可調節(jié)長度的擋板，通過在大氣下控制開口大小來控制均勻程度。該方法的局限性有以下幾點。一、調節(jié)目的性差，靠多次操作經驗來完成。二、調節(jié)針對性不強，不能針對某個腔體時時調節(jié)。三、調節(jié)精度差，沒有定量調節(jié)裝置，所以其實用性不良。四、操作性能不好，該技術只能在大氣環(huán)境下操作，嚴重影響正常工業(yè)化生產。
發(fā)明內容為了克服上述現(xiàn)有技術的不足，本實用新型的目的是提供一種調節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置，能夠在真空中精確定位調節(jié)，實現(xiàn)有效地輝光均勻性調節(jié)。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下裝置一種調節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置，包括長度調節(jié)機構、輝光均勻控制機構、輝光均勻機構，所述長度調節(jié)機構與所述輝光均勻控制機構配合以控制所述輝光均勻機構調節(jié)所述輝光的均勻性；所述長度調節(jié)機構是長度可調的調節(jié)桿。所述輝光均勻控制機構包括圓環(huán)形調節(jié)套和固定于套外的倒V型調節(jié)板。所述調節(jié)套包括調節(jié)內套和調節(jié)外套，所述調節(jié)內套套接固定于所述調節(jié)桿頂端，所述調節(jié)內套設有若干內套定位磁鐵，所述調節(jié)外套相應位置設有相同數量的外套定位磁鐵。所述調節(jié)內套可隨著調節(jié)桿的轉動而轉動，同時，由于所述內套定位磁鐵和所述外套定位磁鐵的磁力作用，所述調節(jié)外套隨著所述調節(jié)內套的旋轉而轉動。所述輝光均勻機構包括長形擋板外罩和若干設置于所述擋板外罩內的輝光均勻構件，所述輝光均勻構件包括擋板和固定于擋板上的擋板釘。[0017]所述輝光均勻機構包括長形擋板外罩和若干設置于所述擋板外罩內的輝光均勻構件，所述輝光均勻構件包括擋板和固定于擋板上的擋板釘，所述調節(jié)板可帶動所述擋板釘往復移動從而調節(jié)所述擋板開口大小。所述調節(jié)桿在長度調節(jié)狀態(tài)下可對應不同位置的所述擋板。所述調節(jié)桿上設置有刻度。所述長度調節(jié)機構通過密封法蘭部分密封于真空腔體，所述輝光均勻控制機構和輝光均勻機構內置于真空腔體內。本實用新型的有益效果是可以在真空環(huán)境下操作，不用回氣操作，大大降低了成本節(jié)約人力物力；可以精確調節(jié)濺射到玻璃表面的濺射物厚度；氣密性好、不會出現(xiàn)漏氣現(xiàn)象；可操作性強，該操作為可視化操作，通過觀察窗能看到每塊擋板的位置；可減少鍍膜玻璃掉渣缺陷的發(fā)生，擋板有一定的擋渣作用；連續(xù)性強、可根據實際生產需要隨時調整。

圖I為本實用新型的工作結構示意圖。圖2為本實用新型的正面結構示意圖。圖3為本實用新型的調節(jié)套與擋板配合示意圖圖4為本實用新型的調節(jié)內套和調節(jié)外套的放大圖圖5為本實用新型的調節(jié)桿的初始狀態(tài)圖圖6為本實用新型的調節(jié)桿的調節(jié)狀態(tài)圖圖中，I、調節(jié)桿2、密封法蘭3、擋板釘4、調節(jié)外套5、調節(jié)外套磁鐵6、調節(jié)內套磁鐵7、調節(jié)內套8、調節(jié)板9、擋板10、擋板外罩11、真空腔體12、底板
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型的一種具體實施方式
做出說明。參見圖1-3，本實用新型的調節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置，包括在真空腔體11內設置有至少一排擋板9，其內置于擋板外罩10內，調節(jié)內套4和調節(jié)外套7形成調節(jié)套，并且調節(jié)內套4套接于調節(jié)桿I的位于真空腔體11內的遠端部分，調節(jié)桿I通過密封法蘭2與真空腔體11密封連接，調節(jié)套可以根據調節(jié)桿的長度調節(jié)來定位于不同擋板9的擋板釘3處，從而調整擋板9的開口大小，調整底板12的濺射均勻性。參見圖3，調節(jié)外套7外周固定有呈倒V型的調節(jié)板8，擋板9的擋板釘3位于調節(jié)板8的V型空間內。參見圖4，在調節(jié)內套4的周圍有多個調節(jié)內套磁鐵6，例如4個，相應地，在調節(jié)外套7的周圍有相應數量的調節(jié)外套磁鐵5,例如4個,該兩組磁鐵可相互作用，實現(xiàn)力傳遞。參見圖5-6，調節(jié)桿I長度可調節(jié)，其結構形式為可抽插移動、可多次折疊方式，并且上面帶有刻度，可精確定位調節(jié)桿在真空腔體11內的位置，也可以精確定位所要調整擋板9的位置。其工作方式是在真空(不限于真空)環(huán)境下通過帶有刻度調節(jié)桿I的旋轉來帶動在調節(jié)桿遠端的調節(jié)內套4，調節(jié)內套4通過其上設置的多個例如4個調節(jié)內套磁鐵6來帶動旋轉調節(jié)外套磁鐵5，使調節(jié)外套7也跟著旋轉，當調節(jié)外套7旋轉時其下端的調節(jié)板8會帶動固定在擋板上的擋板釘3，從而擋板9也隨之被調節(jié)。由于調節(jié)桿I長度是可以調節(jié)的，不同長度的調節(jié)桿I可以調節(jié)成對應不同位置擋板9，因此在生產過程中，根據不同真空內環(huán)境調節(jié)相應位置擋板開口大小，可以精確的完成單靶均勻性。實際產品的濺射過程如下1、測量濺射產品均勻性，判斷各個位置的濺射強弱；2、調節(jié)桿I根據濺射強弱的位置調節(jié)長度以定位需要調整擋板9的位置，旋轉調節(jié)桿I帶動調節(jié)套上的調節(jié)板8旋轉，調節(jié)板8帶動擋板9上的擋板釘3移動，控制該位置擋板9的開口大小，如果是濺射較強位置，移動使擋板9開口變小，在濺射較弱部分，移動使擋板9開口變大；3、繼續(xù)生產濺射產品并測量其均勻性；4、重復步驟I至3，直至均勻性達到生產要 求。以上對本實用新型的一個實例進行了詳細說明，但所述內容僅為本實用新型的較佳實施例，不能被認為用于限定本實用新型的實施范圍。凡依本實用新型申請范圍所作的均等變化與改進等，均應仍歸屬于本實用新型的專利涵蓋范圍之內。
權利要求1.一種調節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置，包括長度調節(jié)機構、輝光均勻控制機構、輝光均勻機構，所述長度調節(jié)機構與所述輝光均勻控制機構配合以控制所述輝光均勻機構調節(jié)所述輝光的均勻性。
2.根據權利要求I所述的裝置，其特征在于所述長度調節(jié)機構是長度可調的調節(jié)桿。
3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于所述輝光均勻控制機構包括圓環(huán)形調節(jié)套和固定于套外的倒V型調節(jié)板。
4.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于所述調節(jié)套包括調節(jié)內套和調節(jié)外套，所述調節(jié)內套套接固定于所述調節(jié)桿頂端，所述調節(jié)內套設有若干調節(jié)內套磁鐵，所述調節(jié)外套相應位置設有相同數量的調節(jié)外套磁鐵。
5.根據權利要求4所述的裝置，其特征在于所述調節(jié)內套可隨著調節(jié)桿的轉動而轉動，同吋，由于所述調節(jié)內套磁鐵和所述調節(jié)外套磁鐵的磁力作用，所述調節(jié)外套隨著所述 調節(jié)內套的旋轉而轉動。
6.根據權利要求I所述的裝置，其特征在于所述輝光均勻機構包括長形擋板外罩和若干設置于所述擋板外罩內的輝光均勻構件，所述輝光均勻構件包括擋板和固定于擋板上的擋板釘。
7.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于所述輝光均勻機構包括長形擋板外罩和若干設置于所述擋板外罩內的輝光均勻構件，所述輝光均勻構件包括擋板和固定于擋板上的 擋板釘，所述調節(jié)板可帶動所述擋板釘往復移動從而調節(jié)所述擋板開ロ大小。
8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于所述調節(jié)桿在長度調節(jié)狀態(tài)下可對應不同位置的所述擋板。
9.根據權利要求2所述的裝置，所述調節(jié)桿上設置有刻度。
10.根據權利要求I所述的裝置，其特征在于所述長度調節(jié)機構通過密封法蘭部分密封于真空腔體，所述輝光均勻控制機構和輝光均勻機構內置于真空腔體內。
專利摘要本實用新型涉及一種調節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置，該裝置包括長度調節(jié)機構、輝光均勻控制機構、輝光均勻機構，所述長度調節(jié)機構與所述輝光均勻控制機構配合以控制所述輝光均勻機構調節(jié)所述輝光的均勻性。本實用新型的有益效果包括可以在真空環(huán)境下操作，不用回氣操作，降低了成本，并節(jié)約人力物力；可以精確調節(jié)輝光均勻性。
文檔編號C23C14/35GK202755050SQ201220378188
公開日2013年2月27日 申請日期2012年8月1日 優(yōu)先權日2012年8月1日
發(fā)明者王旭升, 王爍, 童帥 申請人:天津南玻節(jié)能玻璃有限公司