專利名稱：磁控濺射平面靶材屏蔽罩的制作方法
技術領域：
磁控濺射平面靶材屏蔽罩技術領域:本實用新型涉及一種屏蔽罩，特別是涉及一種改型磁控濺射平面靶材屏蔽罩，應用于磁控濺射薄膜沉積，涉及磁控濺射設備技術領域。
背景技術：
:真空磁控濺射過程中，電子在電磁場的作用下以旋輪線的運動軌跡向陽極靠近，在該遷移中與Ar原子發(fā)生電尚碰撞,生成的Ar尚子在電場作用下撞擊祀材進而發(fā)生派射
效果。其中電子的旋輪線軌跡的旋輪半徑為r =為保證在磁控濺射過程中沉積
薄膜的純度，需在平面靶材側面四周及靶表面非靶材區(qū)域添加屏蔽罩，屏蔽罩與陰極靶材
之間的距離5 S ip ,即萬i mE/(eB2) = 337U^/M (U是磁控濺射的電壓，υ = Εδ)，若υ=500
V, B=0.03 Τ,則5￡0_25aw。在大型平面靶材的應用中傳統(tǒng)的屏蔽罩為分體結構，靶材側面四周為分離的四塊擋板由螺釘直接固定在靶背板上，靶表面邊緣四周非靶材區(qū)域由固定于側擋板上的蓋板遮罩，在大型平面靶的使用中，該種分離結構的側擋板由于長度較長在生產過程中由于加熱容易發(fā)生形變導致部分側板距離與陰極靶材側面過近，較容易出現(xiàn)打火或短路現(xiàn)象。實用新型內容:本實用新型就是為了 克服現(xiàn)有技術存在的不足，對傳統(tǒng)的靶材屏蔽罩做出相應改進，設計一種改型磁控濺射平面靶材屏蔽罩。技術方案:一種磁控濺射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板，屏蔽罩，四周側擋板，上方蓋板，固定螺釘組成，所述四周側擋板為整體結構，上方蓋板也為整體結構，所述四周側擋板由螺釘固定于靶背板上，所述四周側擋板上側留有缺口，保證濺射過程中產生的顆粒雜質漏掉，所述缺口下沿與位于四周側擋板內部的陰極靶上表面保持同一高度，所述四周側擋板安裝后應保證其與其內部陰極靶側面距離為0.1 0.5cm，優(yōu)選0.2cm，所述上方蓋板由螺釘固定于四周側擋板上，上方蓋板與位于四周側擋板內部的陰極靶上表面平行且距離保證為0.1 0.5cm，優(yōu)選0.2cm，上蓋板的內側邊緣與陰極靶上表面靶材區(qū)域外沿對齊，保證非祀材區(qū)域被完全遮擋屏蔽。本實用新型的有益效果:本實用新型的改型磁控濺射平面靶材屏蔽罩，可減小在安裝及實際鍍膜加熱過程中的形變，使其與靶材基座之間距離保持穩(wěn)定，減少陰陽極之間距離過近而產生打火現(xiàn)象的發(fā)生頻率。


:圖1是改型平面靶材屏蔽罩四周側板的主視圖；圖2是圖1的俯視圖；圖3是圖1的左視圖；圖4是改型平面靶材屏蔽罩上蓋板的俯視圖；圖5是改型平面靶材屏蔽罩裝配圖。圖中標號為I為祀背板,2為四周側擋板,3為上方蓋板；4為固定螺釘,5為缺口。[0017]具體實施方式
:參見圖1-圖5，磁控濺射平面靶材屏蔽罩包括靶背板1，四周側擋板2和上方蓋板3，以及固定螺釘4。其中，所述四周側擋板2為整體結構，四周側擋板2的四條邊框能夠相互支撐，保證在安裝及加熱過程中其形變最小。所述四周側擋板2的下方分別設置有向外的翻邊，在翻邊上設置有安裝孔，利用固定螺釘4將所述四周側擋板2固定于靶背板I上，安裝后應保證所述四周側擋板2與陰極靶側面為0.2cm左右。所述四周側擋板2上側留有缺口 5，保證濺射過程中產生的顆粒雜質漏掉。同時，所述缺口 5下沿與位于四周側擋板2內部的陰極靶上表面處于一個水平位置，所述四周側擋板2安裝后應保證其與陰極靶側面距離為0.2cm左右，上方蓋板3也為整體結構，所述上方蓋板3由固定螺釘4固定于四周側擋板2上，與靶上表面平行且距離保證為0.2cm左右，上蓋板3內側邊緣應與陰極靶上表面靶材區(qū)域外沿對齊，保證非靶材區(qū)域被完全遮擋屏蔽。
權利要求1.一種磁控濺射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板(1)，四周側擋板(2)，上方蓋板(3)，固定螺釘(4)，所述上方蓋板(3)由固定螺釘(4)固定于四周側擋板(2)上，其特征在于，所述四周側擋板(2)為整體結構，上方蓋板(3)也為整體結構，所述四周側擋板(2)由固定螺釘(4)固定于靶背板(I)上。
2.根據權利要求1所述的磁控濺射平面靶材屏蔽罩，其特征在于所述四周側擋板(2)上側留有缺口(5)。
3.根據權利要求2所述的磁控濺射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，所述缺口(5)下沿與位于四周側擋板(2)內部的陰極靶上表面保持同一高度。
4.根據權利要求1所述的磁控濺射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，所述四周側擋板(2)與其內部的陰極革巴側面距離為0.1 0.5cm。
5.根據權利要求4所述的磁控濺射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，所述四周側擋板(2)與陰極靶側面距離為0.20cm。
6.根據權利要求1所述的磁控濺射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，所述上方蓋板(3)與位于四周側擋板(2)內部的陰極靶上表面平行且距離保證為0.1 0.5cm，上蓋板的內側邊緣與陰極靶上表面靶材區(qū)域外沿對齊。
7.根據權利要求6所述的磁控濺射平面靶材屏蔽罩，其特征在于，所述上方蓋板(3)與陰極靶上表面平行且距離保證為0.20cm。
專利摘要本實用新型涉及一種磁控濺射平面靶材屏蔽罩，包括靶背板，屏蔽罩，四周側擋板，上方蓋板，固定螺釘，所述四周側擋板為整體結構，上方蓋板也為整體結構，所述四周側擋板由螺釘固定于靶背板上，所述四周側擋板上側留有缺口，保證濺射過程中產生的顆粒雜質漏掉，本實用新型的改型磁控濺射平面靶材屏蔽罩，可減小在安裝及實際鍍膜加熱過程中的形變，使其與靶材基座之間距離保持穩(wěn)定，減少陰陽極之間距離過近而產生打火現(xiàn)象的發(fā)生頻率。
文檔編號C23C14/04GK202989274SQ20122066598
公開日2013年6月12日 申請日期2012年12月6日 優(yōu)先權日2012年12月6日
發(fā)明者彭春超, 何保軍, 趙躍林, 高文波 申請人:許昌天地和光能源有限公司