殼體及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種殼體及該殼體的制作方法。該殼體包括基體及形成于基體表面的裝飾層，該裝飾層中含有鉻、鐵、鋁、三氧化二鉻、三氧化二鐵、及三氧化二鋁，且所述三氧化二鉻、三氧化二鐵、及三氧化二鋁均勻的分散于該裝飾層中，使得該裝飾層中的鉻、鐵、及鋁之間不連續(xù)，因此該殼體不導(dǎo)電，具有電磁波可穿透性。本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。
【專利說明】殼體及其制作方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是關(guān)于一種殼體及其制作方法，尤其涉及一種具有鏡面外觀的殼體及其制作方法。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)，通常采用電化學(xué)沉積方式于電子產(chǎn)品的殼體表面形成具有鏡面效果的裝飾性膜層。然而，由于電化學(xué)沉積工藝中的電解液往往含有六價鉻或氰化物等有害物質(zhì)，對環(huán)境造成一定的危害。
[0003]真空鍍膜技術(shù)是一種綠色環(huán)保的鍍膜技術(shù)。然而，采用真空鍍膜技術(shù)在電子產(chǎn)品的殼體表面鍍覆一金屬鍍膜層后，所述金屬鍍膜層往往不具有電磁波可穿透性，且該金屬鍍膜層具有導(dǎo)電性，電子易在該金屬鍍膜層傳導(dǎo)，從而影響到電子產(chǎn)品的通訊質(zhì)量。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]鑒于此，本發(fā)明提供一種具有鏡面外觀的殼體。
[0005]另外，本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。
[0006]一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的裝飾層，該裝飾層中含有鉻、鐵、鋁、三氧化二鉻、三氧化二鐵、及三氧化二鋁，且所述三氧化二鉻、三氧化二鐵、及三氧化二鋁均勻的分散于該裝飾層中，使得該裝飾層中的鉻、鐵、及鋁之間不連續(xù)。
[0007]一種殼體的制作方法，其包括如下步驟:
提供一基體；
采用真空鍍膜法在該基體的表面形成裝飾層，該裝飾層中含有鉻、鐵、鋁、三氧化二鉻、三氧化二鐵、及三氧化二鋁，且所述三氧化二鉻、三氧化二鐵、及三氧化二鋁均勻的分散于該裝飾層中，使得該裝飾層中的鉻、鐵、及鋁之間不連續(xù)。
[0008]相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述的殼體通過在基體表面鍍覆一裝飾層，使得該殼體具有黑色鏡面外觀，且不導(dǎo)電。該方法簡單易行，且殼體的硬度高，且較耐磨，不易被刮傷。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是本發(fā)明第一較佳實施例殼體的剖視圖；
圖2是本發(fā)明第二較佳實施例殼體的剖視圖；
圖3是本發(fā)明第三較佳實施例殼體的剖視圖；
圖4是本發(fā)明第四較佳實施例殼體的剖視圖；
圖5是本發(fā)明第五較佳實施例殼體的剖視圖；
圖6是本發(fā)明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。
[0010]主要元件符號說明

【權(quán)利要求】
1.一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的裝飾層，其特征在于:該裝飾層中含有絡(luò)、鐵、招、二氧化二絡(luò)、二氧化二鐵、及二氧化二招，且所述二氧化二絡(luò)、二氧化二鐵、及二氧化二鋁均勻的分散于該裝飾層中，使該裝飾層中的鉻、鐵、及鋁之間不連續(xù)。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于:所述裝飾層呈黑色，且其厚度為3(T100nm；該裝飾層中，氧的質(zhì)量百分比范圍為4飛％，鋁的質(zhì)量百分比范圍為4飛％，鉻的質(zhì)量百分比范圍為19~20%，鐵的質(zhì)量百分比范圍為68~71%。
3.如權(quán)利要求2所述的殼體，其特征在于:所述殼體進一步包括通過噴涂的方式依次形成于該裝飾層上的一透明的第二面漆層和一透明的第一面漆層，所述第一面漆層形成于該第二面漆層的表面，該第一面漆層的厚度為l(T30Mffl，且該第一面漆層的具體成份為紫外光固化油漆；所述第二面漆層形成于裝飾層與所述第一面漆層之間，該第二面漆層的厚度為3~15Mm，且該第二面漆層的具體成份為紫外光固化油漆或熱固化油漆。
4.如權(quán)利要求3所述的殼體，其特征在于:所述殼體進一步包括通過噴涂的方式依次形成于該基體和該裝飾層之間的一第二底漆層和一第一底漆層，所述第一底漆層形成于該第二底漆層與裝飾層之間，該第一底漆層的厚度為，且該第一底漆層的具體成份為紫外光固化油漆；所述第二底漆層形成于基體與第一底漆層之間，該第二底漆層的厚度為fl5Mm，且該第二底漆層的具體成份為紫外光固化油漆或熱固化油漆。
5.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于:所述基體的材質(zhì)為塑料、玻璃、陶瓷、或金 屬。
6.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟: 提供一基體； 采用真空鍍膜法在該基體的表面形成裝飾層，該裝飾層中含有鉻、鐵、鋁、三氧化二鉻、三氧化二鐵、及三氧化二鋁，且所述三氧化二鉻、三氧化二鐵、及三氧化二鋁均勻的分散于該裝飾層中，使得該裝飾層中的鉻、鐵、及鋁之間不連續(xù)。
7.如權(quán)利要求6所述的殼體的制作方法，其特征在于:采用一真空鍍膜機對該基體進行鍍覆處理，該真空鍍膜機包括一鍍膜室及設(shè)置于該鍍膜室中的一治具、二電極、及一合金絲。
8.如權(quán)利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于:采用一抽絲爐制備所述合金絲，且該合金絲的制作方法為:提供一金屬混合物，所述金屬混合物中含有質(zhì)量百分比范圍為f 15%的鋁，質(zhì)量百分比范圍為10-24%的鉻，及質(zhì)量百分比范圍為50-75%的鐵；將該金屬混合物置入所述抽絲爐中，加熱該抽絲爐的溫度至1700-1900?，并在該溫度下保溫l(T50min，使得該金屬混合物處于熔融狀態(tài)；對所述處于熔融狀態(tài)的金屬混合物進行抽絲處理，獲得直徑為0.5^3mm的合金絲。
9.如權(quán)利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于:所述合金絲為鉻、鐵、鋁的金屬及其氧化物的混合物，該合金絲中，氧的質(zhì)量百分比范圍為2~7%，鋁的質(zhì)量百分比范圍為3~8%，鉻的質(zhì)量百分比范圍為15~20%，鐵的質(zhì)量百分比范圍為65~70%。
10.如權(quán)利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于:形成所述裝飾層的方法為:向該電極施加220V的電壓，加熱該合金絲，且鍍膜時間為120-180秒。
【文檔編號】C23C14/14GK104070913SQ201310107986
【公開日】2014年10月1日 申請日期:2013年3月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月29日
【發(fā)明者】姜傳華, 王杰祥 申請人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司