掩模板清洗系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種掩模板清洗系統(tǒng)，包括第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備、第一漂洗設(shè)備和干燥設(shè)備；第一清洗設(shè)備包括電解清洗裝置，電解清洗裝置對(duì)掩模板進(jìn)行清洗去除顆粒雜質(zhì)；第二清洗設(shè)備包括低溫清洗裝置，低溫清洗裝置設(shè)置有用于冷卻所述第二清洗液的冷卻管，第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備、第一漂洗設(shè)備和干燥設(shè)備依次鄰接設(shè)置。本發(fā)明根據(jù)清洗液的不同，采用不同的清洗裝置對(duì)不同的雜質(zhì)進(jìn)行清洗，不僅可有效提高清洗效果，而且可以減少清洗液的損耗，提高清洗液的利用率，從而降低清洗成本。
【專利說(shuō)明】掩模板清洗系統(tǒng)【技術(shù)領(lǐng)域】[0001]本發(fā)明涉及清洗設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種掩模板清洗系統(tǒng)?！颈尘凹夹g(shù)】[0002]有機(jī)電致發(fā)光器件，具有自發(fā)光、反應(yīng)時(shí)間快、視角廣、成本低、制造工藝簡(jiǎn)單、分辨率佳及高亮度等多項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)，被認(rèn)為是下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)電致發(fā)光二極管)技術(shù)中，用于真空蒸鍍的掩模板是一項(xiàng)非常重要和關(guān)鍵的部件，該部件的質(zhì)量直接影響OLED產(chǎn)品的質(zhì)量和制造成本。[0003]掩模板(Mask)，特別是細(xì)小網(wǎng)格的掩模板(Fine Mask)，在初加工成型后，會(huì)在網(wǎng)格內(nèi)或表面殘留金屬邊角料等顆粒物質(zhì)，影響掩模板的正常使用。在循環(huán)使用的過(guò)程中，掩模板上會(huì)沾上有機(jī)發(fā)光材料等雜質(zhì)，這些雜質(zhì)將影響掩模板的精度或正常使用，在將掩模板再次投入使用前必須清除。[0004]由于掩模板特別是Fine Mask對(duì)精度要求非?？量蹋?，一般要求掩模板的網(wǎng)格大小誤差在3 μ m內(nèi)，因此，目前傳統(tǒng)的清洗設(shè)備無(wú)法用于對(duì)FineMask或掩模板進(jìn)行有效清洗，導(dǎo)致掩模板的使用成本大大增加，而且容易因清洗效果不佳而嚴(yán)重影響所生產(chǎn)出的OLED顯示屏的質(zhì)量，甚至?xí)a(chǎn)生大量不良品，直接或間接地提高了 OLED顯示屏的生產(chǎn)成本。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明的主要目的在于，針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種掩模板清洗系統(tǒng)，可有效清洗掩模板表面和蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)，并且不會(huì)對(duì)掩模板造成任何傷害，也不會(huì)對(duì)掩模板的精度產(chǎn)生不利影響，從而在用于制造OLED顯示屏產(chǎn)品時(shí)，顯著提高產(chǎn)品的良品率。[0006]為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案。[0007]本發(fā)明提供的掩模板清洗系統(tǒng)100用于清洗掩模板200，掩模板200具有蒸鍍孔，所述掩模板清洗系統(tǒng)包括用于清洗所述蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)的第一清洗設(shè)備、用于清洗掩模板200表面的有機(jī)發(fā)光材料殘留物的第二清洗設(shè)備、用于漂洗掩模板200的第一漂洗設(shè)備和用于干燥掩模板200的干燥設(shè)備；所述第一清洗設(shè)備包括電解清洗裝置，所述電解清洗裝置內(nèi)盛裝有第一清洗液，所述第一清洗液為經(jīng)電解后可產(chǎn)生高速氣體的堿性電解液，所述高速氣體帶動(dòng)所述清洗液對(duì)所述掩模板200進(jìn)行沖洗去除所述顆粒雜質(zhì)；所述第二清洗設(shè)備包括低溫清洗裝置，所述低溫清洗裝置內(nèi)盛裝有易揮發(fā)性的第二清洗液，且所述低溫清洗裝置設(shè)置有用于冷卻所述第二清洗液的冷卻管，所述第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備、第一漂洗設(shè)備和干燥設(shè)備依次鄰接設(shè)置。[0008]優(yōu)選地，還包括第二漂洗裝置，所述第二漂洗裝置鄰接于所述第一清洗設(shè)備，對(duì)所述掩模板進(jìn)行漂洗。[0009]優(yōu)選地，還包括機(jī)械手，所述機(jī)械手設(shè)置于一支架上，對(duì)所述掩模板進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)。[0010]優(yōu)選地，所述第一清洗設(shè)備還包括第一凈化裝置，所述第二清洗設(shè)備還包括第二凈化裝置，所述第一凈化裝置和第二凈化裝置分別用于對(duì)所述第一清洗液和第二清洗液進(jìn)行凈化處理。
[0011]優(yōu)選地，還包括電控箱，所述電控箱分別與所述第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備和干燥設(shè)備連接并對(duì)其進(jìn)行控制。
[0012]優(yōu)選地，還包括封閉外罩，所述第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備、第一漂洗設(shè)備、第二漂洗設(shè)備和干燥設(shè)備均設(shè)置于所述封閉外罩內(nèi)。
[0013]優(yōu)選地，所述掩模板容置于一洗籃內(nèi)，所述機(jī)械手適于通過(guò)所述洗籃對(duì)所述掩模板進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)。
[0014]優(yōu)選地，所述電解清洗裝置包括清洗池，在所述清洗池內(nèi)至少設(shè)置有兩個(gè)側(cè)壁，所述掩模板浸泡于所述第一清洗液中，且位于所述兩個(gè)側(cè)壁之間；所述兩個(gè)側(cè)壁與第一電極連接，所述掩模板與第二電極連接，且所述第一電極與第二電極的極性相反。
[0015]優(yōu)選地，所述電極由耐強(qiáng)堿導(dǎo)電材料制成，所述耐強(qiáng)堿導(dǎo)電材料包括鈦合金、鉛合金或石墨。
[0016]優(yōu)選地，還包括適于裝載掩模板料臺(tái)，所述料臺(tái)鄰接于所述第一清洗設(shè)備。
[0017]本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0018]本發(fā)明利用電解清洗裝置來(lái)去除掩模板上蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)，利用低溫清洗裝置來(lái)去除掩模板表面的有機(jī)發(fā)光材料殘留物，根據(jù)清洗液的不同，采用不同的清洗裝置對(duì)不同的雜質(zhì)進(jìn)行清洗，不僅可有效提高清洗效果，而且可以減少清洗液的損耗，提高清洗液的利用率，從而降低清洗成本。而且，在清洗的過(guò)程中，本發(fā)明采用機(jī)械手對(duì)掩模板進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)，可實(shí)現(xiàn)清洗過(guò)程的連續(xù)化和自動(dòng)化控制，提高了清洗效率，并進(jìn)一步降低了清洗成本。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0019]圖1是本發(fā)明實(shí)施例中掩模板清洗系統(tǒng)的框架示意圖。
[0020]圖2是本發(fā)明實(shí)施例中掩模板清洗系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖3是本發(fā)明實(shí)施例中電解清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]本發(fā)明目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說(shuō)明。
【具體實(shí)施方式】
[0023]以下將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，以便更清楚、直觀地理解本發(fā)明的發(fā)明實(shí)質(zhì)。
[0024]參照?qǐng)D1~圖3所示，本實(shí)施例提供一種掩模板清洗系統(tǒng)100，其主要用于清洗掩模板200表面附著的有機(jī)發(fā)光材料殘留物和掩模板200上所設(shè)置的蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)。該掩模板清洗系統(tǒng)100包括第一清洗設(shè)備1、第二清洗設(shè)備2、第一漂洗設(shè)備3和干燥設(shè)備4，其中，第一清洗設(shè)備I用于清洗所述蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)，第二清洗設(shè)備2用于清洗掩模板200表面的有機(jī)發(fā)光材料殘留物，第一漂洗設(shè)備3用于漂洗掩模板200，干燥設(shè)備4用于干燥掩模板200。
[0025]具體地，第一清洗設(shè)備I包括電解清洗裝置11，該電解清洗裝置11內(nèi)盛裝有第一清洗液，該第一清洗液為經(jīng)電解后可產(chǎn)生高速氣體的堿性電解液，高速氣體帶動(dòng)清洗液對(duì)掩模板200進(jìn)行沖洗以去除上述顆粒雜質(zhì)。第二清洗設(shè)備2包括低溫清洗裝置21，該低溫清洗裝置21內(nèi)盛裝有易揮發(fā)性的第二清洗液，且該低溫清洗裝置21設(shè)置有用于冷卻第二清洗液使其減少揮發(fā)的冷卻管22，上述第一清洗設(shè)備1、第二清洗設(shè)備2、第一漂洗設(shè)備3和干燥設(shè)備4依次鄰接設(shè)置，將掩模板200清洗潔凈，使其達(dá)到生產(chǎn)OLED顯示屏所要求的潔凈度。
[0026]上述電解清洗裝置11包括清洗池111，在清洗池111內(nèi)至少設(shè)置有兩個(gè)側(cè)壁112，掩模板200浸泡于所述第一清洗液中，且位于該兩個(gè)側(cè)壁112之間，且兩個(gè)側(cè)壁112與第一電極(未圖示)連接，掩模板200與第二電極(未圖示)連接，且第一電極與第二電極的極性相反。這樣，在放電時(shí)，掩模板200上通有強(qiáng)電流。根據(jù)大電流末端放電原理,掩模板200上的細(xì)小網(wǎng)格線會(huì)產(chǎn)生放電現(xiàn)象，凸出于網(wǎng)格線表面的金屬顆?；蚧覊m顆粒上會(huì)產(chǎn)生大量的熱量，從而將金屬顆粒或灰塵顆粒等雜質(zhì)燒融或剝離。
[0027]同時(shí)，第一清洗液在強(qiáng)電流的作用下電解，產(chǎn)生高速氣體，這些高速氣體帶動(dòng)第一清洗液運(yùn)動(dòng)，使第一清洗液產(chǎn)生“沸騰”的效果，從而對(duì)掩模板200進(jìn)行沖刷，將燒融或剝離后的顆粒雜質(zhì)帶走，完成第一階段的清洗。
[0028]第一階段的清洗完成后，掩模板200放置于第二清洗液中進(jìn)行第二階段的清洗，通過(guò)第二清洗液對(duì)掩模板200表面或網(wǎng)格中的有機(jī)發(fā)光材料等雜質(zhì)進(jìn)行清除，完成第二階段的清洗，此時(shí)，掩模板200上的雜質(zhì)基本都已清除。
[0029]本實(shí)施例還設(shè)置有用于轉(zhuǎn)運(yùn)掩模板200的機(jī)械手5，該機(jī)械手5可將掩模板200放入第一清洗設(shè)備I或第二清洗設(shè)備2中，清洗完成后，取出再放入第一漂洗設(shè)備3中漂洗，漂洗完成后，取出再放入干燥設(shè)備4中進(jìn)行干燥處理。這樣便可使本實(shí)施例的掩模板清洗設(shè)備100實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化，連續(xù)性 操作。
[0030]在第一階段的清洗完成后，掩模板200表面會(huì)沾上部分第一清洗液，為了避免在第二階段的清洗時(shí)，第一清洗液污染第二清洗液，本實(shí)施例增加第二漂洗裝置6，該第二漂洗裝置6鄰接于第一清洗設(shè)備1，以對(duì)掩模板200進(jìn)行漂洗，去除其表面的第一清洗液。
[0031]此外,本實(shí)施例的第一清洗設(shè)備I還包括第一凈化裝置12,第二清洗設(shè)備2還包括第二凈化裝置23，第一凈化裝置12和第二凈化裝置23分別用于對(duì)第一清洗液和第二清洗液進(jìn)行凈化處理，使第一清洗液和第二清洗液中的雜質(zhì)形成氣體或沉淀后清除，凈化后的第一清洗液和第二清洗液可以循環(huán)利用，從而減少第一清洗液和第二清洗液的使用，降低清洗成本。
[0032]本實(shí)施例的掩模板清洗系統(tǒng)100還設(shè)置有電控箱7，該電控箱7分別與上述第一清洗設(shè)備1、第二清洗設(shè)備I和干燥設(shè)備4連接并對(duì)其進(jìn)行控制。直接或間接地對(duì)強(qiáng)電流的電流大小的控制、冷卻管22的溫度控制、第一凈化裝置12和第二凈化裝置23中水泵的控制(若第一凈化裝置12和第二凈化裝置23由水泵驅(qū)動(dòng))，等等。
[0033]同時(shí)，本實(shí)施例還包括有封閉外罩8，上述第一清洗設(shè)備1、第二清洗設(shè)備2、第一漂洗設(shè)備3、第二漂洗設(shè)備6和干燥設(shè)備4均設(shè)置于封閉外罩8內(nèi)，使內(nèi)部形成一個(gè)無(wú)塵空間，避免清洗后的掩模板200再次沾染到灰塵。
[0034]為了便于機(jī)械手5的抓持或掛置，本實(shí)施例將掩模板200容置于一洗籃300內(nèi)，該洗籃300可以放入到第一清洗設(shè)備1、第二清洗設(shè)備2、第一漂洗設(shè)備3和第二漂洗設(shè)備6中，作為掩模板200的托架，機(jī)械手5可以通過(guò)該洗籃300對(duì)掩模板200進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)。[0035]本實(shí)施例中，電解清洗裝置11是通過(guò)大電流尖端放電原理去除顆粒雜質(zhì)的，在電極放電時(shí)，電流從掩模板200中穿過(guò)，使掩模板200通有強(qiáng)電流，從而將顆粒雜質(zhì)去除。為保證電極能長(zhǎng)時(shí)間使用而不被第一清洗液腐蝕，本實(shí)施例的電極由耐強(qiáng)堿導(dǎo)電材料制成，該耐強(qiáng)堿導(dǎo)電材料包括但不限于鈦合金、鉛合金和石墨。
[0036]由于對(duì)掩模板200的干燥過(guò)程處于無(wú)塵空間內(nèi)，本實(shí)施例米用干燥設(shè)備4對(duì)掩模板200進(jìn)行干燥處理時(shí)，為節(jié)約成本，可采用鼓風(fēng)機(jī)等設(shè)備向掩模板200吹風(fēng)，將掩模板200風(fēng)干，不會(huì)影響其表面潔凈度。
[0037]此外，本實(shí)施例還設(shè)置有料臺(tái)9，用于裝載掩模板，該料臺(tái)9鄰接于第一清洗設(shè)備1，機(jī)械手5可以從料臺(tái)9上抓取掩模板200，放入第一清洗設(shè)備I中清洗。
[0038]綜上所述，本發(fā)明利用電解清洗裝置來(lái)去除掩模板上蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)，利用低溫清洗裝置來(lái)去除掩模板表面的有機(jī)發(fā)光材料殘留物，根據(jù)清洗液的不同，采用不同的清洗裝置對(duì)不同的雜質(zhì)進(jìn)行清洗，不僅可有 效提高清洗效果，而且可以減少清洗液的損耗，提高清洗液的利用率，從而降低清洗成本。而且，在清洗的過(guò)程中，本發(fā)明采用機(jī)械手對(duì)掩模板進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)，可實(shí)現(xiàn)清洗過(guò)程的連續(xù)化和自動(dòng)化控制，提高了清洗效率，并進(jìn)一步降低了清洗成本。
[0039]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制其專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種掩模板清洗系統(tǒng)，所述掩模板具有蒸鍍孔，其特征在于:包括用于清洗所述蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)的第一清洗設(shè)備、用于清洗掩模板表面的有機(jī)發(fā)光材料殘留物的第二清洗設(shè)備、用于漂洗掩模板的第一漂洗設(shè)備和用于干燥掩模板的干燥設(shè)備；所述第一清洗設(shè)備包括電解清洗裝置，所述電解清洗裝置內(nèi)盛裝有第一清洗液，所述第一清洗液為經(jīng)電解后可產(chǎn)生高速氣體的堿性電解液，所述高速氣體帶動(dòng)所述清洗液對(duì)所述掩模板進(jìn)行沖洗去除所述顆粒雜質(zhì)；所述第二清洗設(shè)備包括低溫清洗裝置，所述低溫清洗裝置內(nèi)盛裝有易揮發(fā)性的第二清洗液，且所述低溫清洗裝置設(shè)置有用于冷卻所述第二清洗液的冷卻管，所述第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備、第一漂洗設(shè)備和干燥設(shè)備依次鄰接設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:還包括第二漂洗裝置，所述第二漂洗裝置鄰接于所述第一清洗設(shè)備，對(duì)所述掩模板進(jìn)行漂洗。
3.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:還包括機(jī)械手，所述機(jī)械手設(shè)置于一支架上，對(duì)所述掩模板進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)。
4.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:所述第一清洗設(shè)備還包括第一凈化裝置，所述第二清洗設(shè)備還包括第二凈化裝置，所述第一凈化裝置和第二凈化裝置分別用于對(duì)所述第一清洗液和第二清洗液進(jìn)行凈化處理。
5.如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:還包括電控箱，所述電控箱分別與所述第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備和干燥設(shè)備連接并對(duì)其進(jìn)行控制。
6.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:還包括封閉外罩，所述第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備、第一漂洗設(shè)備、第二漂洗設(shè)備和干燥設(shè)備均設(shè)置于所述封閉外罩內(nèi)。
7.如權(quán)利要求3所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:所述掩模板容置于一洗籃內(nèi)，所述機(jī)械手適于通過(guò)所述洗籃對(duì) 所述掩模板進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)。
8.如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:所述電解清洗裝置包括清洗池，在所述清洗池內(nèi)至少設(shè)置有兩個(gè)側(cè)壁，所述掩模板浸泡于所述第一清洗液中，且位于所述兩個(gè)側(cè)壁之間；所述兩個(gè)側(cè)壁與第一電極連接，所述掩模板與第二電極連接，且所述第一電極與第二電極的極性相反。
9.如權(quán)利要求8所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:所述電極由耐強(qiáng)堿導(dǎo)電材料制成，所述耐強(qiáng)堿導(dǎo)電材料包括鈦合金、鉛合金和石墨。
10.如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于:還包括適于裝載掩模板料臺(tái)，所述料臺(tái)鄰接于所述第一清洗設(shè)備。
【文檔編號(hào)】C23C14/24GK103469152SQ201310364800
【公開(kāi)日】2013年12月25日 申請(qǐng)日期:2013年8月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月11日
【發(fā)明者】唐軍, 田鉻淇 申請(qǐng)人:唐軍, 田鉻淇