專利名稱：一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種鍍膜工裝，特別是涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，主要適用于磁控濺射鍍膜設備技術領域。
背景技術：
目前磁控濺射鍍膜是屬于PVD鍍膜方式的一個分支，該鍍膜法是指，在真空環(huán)境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜，由于磁控濺射鍍膜機技術具有，成膜工藝處理溫度低，瞬間溫度不超過20(TC，不會熱灼傷被鍍件，結合強度高，不污染環(huán)境，被廣泛運用于汽車反光鏡、手機面板、汽車內外飾件的鍍膜。由于鍍膜產品的多樣性決定，需要對產品進行部分區(qū)域鍍膜，而通常使用的遮蔽式鍍膜工裝，往往只實現中間部分鍍膜邊緣部分遮蔽的形式，要實現邊緣部分鍍膜中間部分遮蔽，通常會選用貼PET薄膜遮蔽，鍍膜后再移除，或者使用絲網印刷涂覆遮蔽非鍍膜區(qū)域，鍍膜后再除去涂膠，而以上兩種方式成本高，輪廓度偏離大，邊緣難以平滑，工藝流程長，增加了不良品產生的幾率。如，中國專利公開了公開號為CN202430282U的一種新型的磁控濺射鍍膜基片夾具，該新型的磁控濺射鍍膜基片夾具為鏤空框架結構，所述鏤空框架底部為鏤空擋板，覆蓋基片背面四邊，所述鏤空擋板內表面四個角上用螺絲固定安裝四個同樣大小的墊子，所述鏤空框架正上端設置有一擋板。該新型的磁控濺射鍍膜基片夾具遮擋邊緣部分，無法進行外緣全封閉帶的鍍膜。
實用新型內容本實用新型的目的在于克服現有技術中存在的上述不足，而提供一種結構設計合理，使用方便，可實現鍍外緣全封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準確，邊緣清晰無陰影，可鍍任意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶，成本較低的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝。本實用新型解決上述問題所采用的技術方案是:該鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，包括主干框架，主干框架上設置至少一個架設基片的架設單元，所述架設單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架，所述遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上，該遮擋片固定梁位于主干框架的鍍膜面，所述遮擋片上設置有固定孔，遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定，遮擋片與主干框架平行，所述被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側，該被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉軸與主干框架活動連接，所述主干框架上設有卡座，被鍍膜片支撐固定架的另一端與卡座相配合，所述被鍍膜片支撐固定架位于架設單元的上方，所述遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。遮擋片用于遮蔽被鍍膜片的被鍍面的非鍍膜部分，遮擋片固定梁用于固定遮擋片，被鍍膜片支撐固定架用于固定被鍍膜片的位置，豎鍍時可防止被鍍膜片移動，遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間的一圈間隙使被鍍膜片的鍍膜部分裸露。本實用新型每個架設單元還包括至少三個被鍍膜片基準定位支撐點，所述被鍍膜片基準定位支撐點位于架設單元的邊緣。被鍍膜片基準定位支撐點主要起到定位被鍍膜片的作用。本實用新型所述遮擋片的邊緣用CNC或慢走絲加工,表面粗糙度Ra=0.8 μ m以下，遮擋片的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0.05_，遮擋片的雙面經過平面磨床加工，遮擋片與被鍍膜片的貼合面的平面度小于0.05。使外緣全封閉帶成膜位置準確，邊緣清晰無陰影。本實用新型所述遮擋片固定梁與被鍍膜片的被鍍面的距離> 28mm，該遮擋片固定梁的寬度< 6.5_。可實現磁控濺射鍍膜機靶材通過氬離子轟擊后，鍍膜材料被均勻濺落在鍍膜區(qū)域。本實用新型所述遮擋片固定梁的兩端的棱角處設有兩個1.6X45°的倒角?？商嵘潭合路降牟Ａ雍穸鹊木鶆蛐浴１緦嵱眯滦退黾茉O單元的邊緣與被鍍膜片的間隙< 1.27_。防止被鍍膜片的邊沿由于繞射效應也會被鍍上膜層，影響產品檔次和外觀。本實用新型所述遮擋片與主干框架的鍍膜一側的平面之間的距離為12_。用于消除繞射的膜層沉降。主干框架的鍍膜一側即遮擋片所在的一側。作為優(yōu)選，架設單元為六個。本實用新型與現有技術相比，具有以下優(yōu)點和效果:結構設計合理，使用方便，可鍍任意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶，遮擋片用于遮蔽被鍍膜片的被鍍面的非鍍膜部分，遮擋片固定梁用于固定遮擋片，被鍍膜片支撐固定架用于固定被鍍膜片的位置，豎鍍時可防止被鍍膜片移動，遮擋片的邊緣與架設單元的邊緣之間的一圈間隙使被鍍膜片的鍍膜部分裸露，可實現鍍外緣全封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準確，邊緣清晰無陰影，被鍍膜片基準定位支撐點主要起到定位被鍍膜片的作用，另外可防止擦傷磁控濺射鍍膜機內的玻璃，遮擋片與主干框架的鍍膜一 側的平面之間的距離為12_，可消除繞射的膜層沉降，成本較低，適用于橫鍍和豎鍍兩種腔體。

圖1是本實用新型實施例的鍍膜面的結構示意圖。圖2是本實用新型實施例的非鍍膜面的結構示意圖。圖3是本實用新型實施例被鍍膜片被鍍面的結構示意圖。標號說明:遮擋片1、遮擋片固定梁2、被鍍膜片基準定位支撐點3、主干框架4、被鍍膜片支撐固定架5、被鍍膜片6、鍍膜部分61和非鍍膜部分62。
具體實施方式
以下結合附圖并通過實施例對本實用新型作進一步的詳細說明，以下實施例是對本實用新型的解釋而本實用新型并不局限于以下實施例。參見圖1至圖3，本實施例包括主干框架4和三條被鍍膜片支撐固定架5，主干框架4上設置有六個架設單元，六個架設單元以2X3的形式排列。本實施例一個架設單元包括遮擋片1、遮擋片固定梁2、被鍍膜片基準定位支撐點3。[0021]本實施例每個架設單元對應兩個遮擋片固定梁2，兩個遮擋片固定梁2平行設置，遮擋片固定梁2的兩端固定在主干框架4上，遮擋片固定梁2位于主干框架4的鍍膜面，遮擋片I上設置有四個固定孔，遮擋片I通過固定孔與遮擋片固定梁2固定，遮擋片I與主干框架4平行。遮擋片I的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙，使被鍍膜片6的鍍膜部分61裸露，遮擋片I用于遮蔽被鍍膜片6的被鍍面的非鍍膜部分62。本實施例被鍍膜片支撐固定架5位于主干框架4的非鍍膜面，被鍍膜片支撐固定架5的一端通過轉軸與主干框架4活動連接，主干框架4上設有卡座，被鍍膜片支撐固定架5的另一端與卡座相配合，被鍍膜片支撐固定架5位于兩個架設單元的上方，此處所述的“上方”為橫鍍時，本實施例所呈現的狀態(tài)限定的方向，三個被鍍膜片支撐固定架5平行設置。本實施例架設單元還包括每個架設單元對應九個被鍍膜片基準定位支撐點3，被鍍膜片基準定位支撐點3位于架設單元的邊緣。本實施例遮擋片I的邊緣用CNC或慢走絲加工，表面粗糙度Ra=0.8 μ m以下，遮擋片I的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0.05_，遮擋片I的雙面經過平面磨床加工，遮擋片I與被鍍膜片6的貼合面的平面度小于0.05。CNC為“計算機數字控制機床”的
英文縮寫。本實施例遮擋片固定梁2與被鍍面距離> 28mm,該遮擋片固定梁2的寬度<6.5_，遮擋片固定梁2的兩端的棱角處設有兩個1.6X45°的倒角。架設單元的邊緣與被鍍膜片6的間隙彡1.27mm。遮擋片I與主干框架4的鍍膜面之間的距離為12mm。使用時，將被鍍膜片支撐固定架5打開，用無痕吸盤吸住被鍍膜片6的非鍍膜面，將被鍍膜片6緊貼遮擋片I放置，遮擋片I遮住被鍍膜片6上的非鍍膜部分62，利用被鍍膜片基準定位支撐 點3固定被鍍膜片6。然后將被鍍膜片支撐固定架5合上，固定住被鍍膜片
6。再將本鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝豎放入磁控濺射鍍膜機，靶材通過氬離子轟擊后，鍍膜材料被均勻濺落在鍍膜部分61，從而完成鍍膜。此外，需要說明的是，本說明書中所描述的具體實施例，其零、部件的形狀、所取名稱等可以不同，本說明書中所描述的以上內容僅僅是對本實用新型結構所作的舉例說明。凡依據本實用新型專利構思所述的構造、特征及原理所做的等效變化或者簡單變化，均包括于本實用新型專利的保護范圍內。本實用新型所屬技術領域的技術人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實用新型的結構或者超越本權利要求書所定義的范圍，均應屬于本實用新型的保護范圍。
權利要求1.一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，包括主干框架，主干框架上設置至少一個架設基片的架設單元，其特征在于:所述架設單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架，所述遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上，該遮擋片固定梁位于主干框架的鍍膜面，所述遮擋片上設置有固定孔，遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定，遮擋片與主干框架平行，所述被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側，該被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉軸與主干框架活動連接，所述主干框架上設有卡座，被鍍膜片支撐固定架的另一端與卡座相配合，所述被鍍膜片支撐固定架位于架設單元的上方，所述遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。
2.根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:每個架設單元還包括至少三個被鍍膜片基準定位支撐點，所述被鍍膜片基準定位支撐點位于架設單元的邊緣。
3.根據權利要求1所述的鍍外緣全封 閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述遮擋片的邊緣用CNC或慢走絲加工，表面粗糙度Ra=0.8μπι以下，遮擋片的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0.05mm ;遮擋片的雙面經過平面磨床加工，遮擋片與被鍍膜片的貼合面的平面度小于0.05。
4.根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述遮擋片固定梁與被鍍膜片的被鍍面的距離> 28mm，該遮擋片固定梁的寬度< 6.5mm。
5.根據權利要求4所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述遮擋片固定梁的兩端的棱角處設有兩個1.6X45°的倒角。
6.根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述架設單元的邊緣與被鍍膜片的間隙彡1.27mm。
7.根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述遮擋片與主干框架的鍍膜一側的平面之間的距離為12mm。
8.根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述架設單元為六個。
專利摘要本實用新型涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，主要適用于磁控濺射鍍膜設備技術領域。本實用新型包括主干框架，主干框架上設置至少一個架設基片的架設單元，架設單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架，遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上，遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定，被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側，被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉軸與主干框架活動連接，遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。本實用新型結構設計合理，使用方便，可實現鍍外緣全封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準確，邊緣清晰無陰影，可鍍任意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶，成本較低。
文檔編號C23C14/35GK203159701SQ20132010570
公開日2013年8月28日 申請日期2013年3月8日 優(yōu)先權日2013年3月8日
發(fā)明者趙禮, 李志忠 申請人:浙江藍特光學股份有限公司