專利名稱：一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種掩模板，具體涉及一種用于有機(jī)發(fā)光顯示器像素蒸鍍用的掩模板。
背景技術(shù)：
與現(xiàn)行IXD技術(shù)相較，利用有機(jī)發(fā)光二級(jí)管(OLED)技術(shù)所制成的顯示器不僅具有可全彩化、反應(yīng)時(shí)間快、高亮度(10(Tl4，000cd/m2)、高流明效率(16 381m/W)、170度以上的視角、無(wú)一般LCD殘影、可制作成大尺寸與可撓曲性面板、能夠在攝氏-30度 80度的范圍內(nèi)作業(yè)等優(yōu)勢(shì)，而且制程簡(jiǎn)單，整體厚度也能縮小至Imm以下，成本更僅有TFT-1XD的3(Γ40%。因此，利用OLED技術(shù)所制成的顯示器在深得社會(huì)歡迎。在有機(jī)發(fā)光顯示器的制造過程中，其中有機(jī)層的沉積會(huì)使用到掩模板，圖1所示為掩模板的平面示意圖，掩模板為整版結(jié)構(gòu)(圖中所示)或?yàn)槎鄩K拼接而成(圖中未示出，所謂拼接即是掩模板由若干相對(duì)小的單元模板拼接成大尺寸的掩模板)，掩模板10上設(shè)置有與有機(jī)發(fā)光顯示器上像素點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的窗口 100，窗口口 100—般在掩模板10上為陣列結(jié)構(gòu)，且其尺寸由有機(jī)發(fā)光顯示器的尺寸決定。掩模板10通過激光焊接或超聲波焊接等工藝實(shí)現(xiàn)與掩模外框11的連接。圖2所示為采用掩模板蒸鍍有機(jī)材料的示意圖。掩模板10由于比較薄，在蒸鍍前會(huì)通過相關(guān)工藝固定在掩模外框11上，蒸鍍時(shí)，掩模板10借助掩模外框11固定在支撐臺(tái)12上，蒸鍍?cè)?3中的有機(jī)材料130通過蒸發(fā)擴(kuò)散至掩模板10下方，然后通過窗口 100沉積在基板14上對(duì)應(yīng)的位 置處，形成有機(jī)層。傳統(tǒng)的掩模板的窗口截面形貌設(shè)置為圖3所不的幾何結(jié)構(gòu)(圖3為圖2中A部分的放大示意圖)，即窗口的內(nèi)壁與板面呈垂直關(guān)系，使得窗口 100下方(即靠近蒸鍍?cè)?3的一面)的角1000會(huì)對(duì)有機(jī)材料130進(jìn)入窗口 100內(nèi)部產(chǎn)生阻礙，如圖3所示，從而影響有機(jī)材料在基板14上的沉積均勻性，從而使得有機(jī)發(fā)光顯示器的品質(zhì)不高。為解決以上問題，行業(yè)現(xiàn)行工藝是其對(duì)存在以上問題的窗口進(jìn)行了如圖5所示的設(shè)計(jì)，即將掩模板窗口內(nèi)壁設(shè)置為兩頭倒錐的結(jié)構(gòu)，即窗口存在倒角結(jié)構(gòu)1001及倒角結(jié)構(gòu)1002。通過分析了解到，如此設(shè)計(jì)是基于蝕刻工藝來(lái)制作掩模板，上部的倒角結(jié)構(gòu)1001是蝕刻工藝無(wú)法避免的一種缺陷，此倒角結(jié)構(gòu)1001在一定程度上構(gòu)成死角，依舊影響有機(jī)材料在基板上的沉積均勻性?；诖?，業(yè)界亟需一種更優(yōu)異的掩模板來(lái)滿足高品質(zhì)有機(jī)發(fā)光顯示器的蒸鍍工藝。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)。本實(shí)用新型提供了一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的窗口，其特征在于:所述窗口為矩形結(jié)構(gòu)，所述窗口整體構(gòu)成矩形陣列，并且至少有一個(gè)矩形窗口的一個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)，所述窗口為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開口大、另一側(cè)開口小的窗口結(jié)構(gòu)。根據(jù)本實(shí)用新型背景技術(shù)中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，現(xiàn)有技術(shù)中掩模板上的開口截面與掩模板上下兩平面為垂直結(jié)構(gòu)或兩個(gè)倒錐結(jié)構(gòu)的組合，具有垂直結(jié)構(gòu)的掩模板會(huì)對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā)的材料在基板上的沉積均勻性造成影響，而具有倒錐結(jié)構(gòu)組合的掩模板不僅會(huì)對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā)的材料在基板上的沉積均勻性造成影響，在一定程度上形成蒸鍍死角，而且這種結(jié)構(gòu)也是基于蝕刻工藝無(wú)法避免的一種缺陷，因此必須尋找一種新的結(jié)構(gòu)來(lái)避免對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā)的材料在基板上的沉積均勻性造成影響，本實(shí)用新型采用的結(jié)構(gòu)為采用激光工藝切割而成，所述窗口為矩形結(jié)構(gòu)，所述窗口整體構(gòu)成矩形陣列，并且至少有一個(gè)矩形窗口的一個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)，所述窗口為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開口大、另一側(cè)開口小的窗口結(jié)構(gòu)，此種結(jié)構(gòu)不具有蒸鍍過程中可能存在的死角，可以完全避免上述幾種結(jié)構(gòu)對(duì)沉積均勻性造成的影響，對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量提升有極大的幫助。另外，根據(jù)本實(shí)用新型公開的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板還具有如下附加技術(shù)特征:進(jìn)一步地，所述掩模板是通過激光工藝切割制作而成。進(jìn)一步地，所述窗口的四個(gè)內(nèi)壁所在平面均與所述掩模板所在的平面方向?yàn)榉谴?br> 直結(jié)構(gòu)。可選地， 所述窗口的四個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向構(gòu)成的角度均相等，如圖6所示，α =β?？蛇x地，所述窗口的四個(gè)內(nèi)壁所在平面均與掩模板所在的平面方向構(gòu)成的角度存在部分不相等，如圖6所示，S卩α不等于β。進(jìn)一步地，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為20° 70。。進(jìn)一步地，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為30° 60。。進(jìn)一步地，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為40° 50。。優(yōu)選地，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角為45°?？蛇x地，所述窗口的四個(gè)角具有倒角。同時(shí),所述窗口的大小與相應(yīng)有機(jī)發(fā)光顯不器的大小相適應(yīng)。可選地，所述掩模板還包括用于固定用的掩模外框。以上所述掩模板的結(jié)構(gòu)特征是在理想狀況下的結(jié)構(gòu)，由于制作本身工藝的精度問題，實(shí)際產(chǎn)品的的板面、窗口的內(nèi)壁可能達(dá)不到絕對(duì)的平面，故在不違背本實(shí)用新型的核心內(nèi)容而刻意作出的修改依舊落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。通過提供以上所述掩模板，其不存在有機(jī)材料蒸鍍時(shí)的死角區(qū)域，從而使得有機(jī)材料更均勻的沉積在基板上，形成質(zhì)量?jī)?yōu)異的有機(jī)發(fā)光顯示器。本實(shí)用新型附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。

[0024]本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從
以下結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:圖1所示為掩模板的平面示意圖(現(xiàn)有技術(shù))；圖2所示為采用掩模板蒸鍍有機(jī)材料的示意圖(現(xiàn)有技術(shù))；圖3所示為圖2所示掩模板中A部分的平面放大示意圖(現(xiàn)有技術(shù));圖4為一種改進(jìn)的窗口示意圖(現(xiàn)有技術(shù))；圖5為本實(shí)用新型掩模板的窗口截面一種實(shí)施例的示意圖；圖6為本實(shí)用新型所述掩模板一個(gè)窗口在蒸鍍時(shí)的示意圖；圖7本實(shí)用新型一種實(shí)施例一個(gè)窗口的俯視圖；圖8本實(shí)用新型一種實(shí)施例一個(gè)窗口的仰視圖；圖9本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例掩模板整體的仰視圖。其中，掩模板10 ，窗口 100，，掩模外框11，支撐臺(tái)12，蒸鍍?cè)?3，有機(jī)材料130，基板14，角1000，倒角結(jié)構(gòu)1001、1002，內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向構(gòu)成的角度α、β 0
具體實(shí)施方式
下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本實(shí)用新型，而不能解釋為對(duì)本實(shí)用新型的限制。在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、
“內(nèi)”、“外”、“左”、“右”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。在本實(shí)用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“聯(lián)接”、“連通”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接；可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。本實(shí)用新型的實(shí)用新型構(gòu)思如下，現(xiàn)有技術(shù)中掩模板上的開口截面與掩模板上下兩平面為垂直結(jié)構(gòu)或兩個(gè)倒錐結(jié)構(gòu)的組合，此類結(jié)構(gòu)可以形成蒸鍍死角，會(huì)對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā)的材料在基板上的沉積均勻性造成影響，因此必須尋找一種新的結(jié)構(gòu)來(lái)避免對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā)的材料在基板上的沉積均勻性造成影響，本實(shí)用新型采用的結(jié)構(gòu)為采用激光工藝切割而成，所述窗口為矩形結(jié)構(gòu)，所述窗口整體構(gòu)成矩形陣列，并且至少有一個(gè)矩形窗口的一個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)，所述窗口為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開口大、另一側(cè)開口小的窗口結(jié)構(gòu)，此種結(jié)構(gòu)不具有蒸鍍過程中可能存在的死角，可以完全避免上述幾種結(jié)構(gòu)對(duì)沉積均勻性造成的影響，對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量提升有極大的幫助。下面將參照附圖來(lái)描述本實(shí)用新型的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其中圖1-圖4為現(xiàn)有技術(shù)圖示，圖5為本實(shí)用新型掩模板的窗口截面一種實(shí)施例的示意圖，圖6為本實(shí)用新型所述掩模板一個(gè)窗口在蒸鍍時(shí)的示意圖，圖7本實(shí)用新型一種實(shí)施例一個(gè)窗口的俯視圖，圖8本實(shí)用新型一種實(shí)施例一個(gè)窗口的仰視圖，圖9本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例掩模板整體的仰視圖。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，參照?qǐng)D5-9所示，本實(shí)用新型提供的一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板10，其包括平面板及形成在平面板上的窗口 100，其特征在于:所述窗口 100為矩形結(jié)構(gòu)，所述窗口整體構(gòu)成矩形陣列，并且至少有一個(gè)矩形窗口 100的一個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板10所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)，所述窗口為蒸鍍?cè)?3—側(cè)開口大、另一側(cè)開口小的窗口結(jié)構(gòu)。在蒸鍍過程中，蒸鍍?cè)?3揮發(fā)沉積材料通過開口 100在基板14上進(jìn)行沉積，由于開口內(nèi)壁1003與掩模板10上下兩平面為為非垂直結(jié)構(gòu)，且所述窗口為蒸鍍?cè)?3 —側(cè)開口大、另一側(cè)開口小的窗口結(jié)構(gòu)，如圖5所示。因此不存在蒸鍍死角，能夠保證材料沉積的均勻性，蒸鍍效果如圖6所示。圖9所示為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例掩模板整體的仰視圖，即觀測(cè)方向?yàn)閺拈_口較大一側(cè)向開口較小一側(cè)，蒸鍍?cè)次挥陂_口較大的一側(cè)，蒸鍍材料從開口較大一側(cè)進(jìn)入，逐漸匯集到開口較小的一側(cè)，蒸鍍過程中不會(huì)出現(xiàn)蒸鍍死角。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述掩模板是通過激光工藝切割制作而成?？蛇x地，根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述窗口 100的四個(gè)內(nèi)壁所在平面均與所述掩模板所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)?？蛇x地，根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述窗口的四個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向構(gòu)成的角度均相等，如圖5所示，α = β?？蛇x地，根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí) 施例，所述窗口的四個(gè)內(nèi)壁所在平面均與掩模板所在的平面方向構(gòu)成的角度存在部分不相等，如圖5所示，S卩α不等于β。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為20° 70°。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為30° 60°。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為40° 50°。優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角為45°。 可選地，根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述窗口的四個(gè)角具有倒角。同時(shí),所述窗口的大小與相應(yīng)有機(jī)發(fā)光顯不器的大小相適應(yīng)?？蛇x地，根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述掩模板還包括用于固定用的掩模外框11，如圖9所示。一般在行業(yè)內(nèi)部，對(duì)掩模板的厚度要求一般在50um左右，故圖中所示的幾何尺寸并不能代表實(shí)際產(chǎn)品的幾何尺寸，即本實(shí)用新型中附圖的所展示的尺寸不能作為限定本實(shí)用新型的依據(jù)。另外，盡管參照本實(shí)用新型的多個(gè)示意性實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
進(jìn)行了詳細(xì)的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施例將落在本實(shí)用新型原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫離本實(shí)用新型的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附·權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求1.一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的窗口，其特征在于:所述窗口為矩形結(jié)構(gòu)，所述窗口整體構(gòu)成矩形陣列，并且至少有一個(gè)矩形窗口的一個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)，所述窗口為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開口大、另一側(cè)開口小的窗口結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述窗口的四個(gè)內(nèi)壁所在平面均與所述掩模板所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述窗口的四個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向構(gòu)成的角度均相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的 用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述窗口的四個(gè)內(nèi)壁所在平面均與掩模板所在的平面方向構(gòu)成的角度存在部分不相等。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為20° 70°。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為30° 60°。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角范圍為40° 50°。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述窗口內(nèi)壁與掩模板所在的平面方向所呈的夾角為45°。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述窗口的四個(gè)角具有倒角。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的窗口，所述窗口為矩形結(jié)構(gòu)，所述窗口整體構(gòu)成矩形陣列，并且至少有一個(gè)矩形窗口的一個(gè)內(nèi)壁所在平面與掩模板所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)，所述窗口為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開口大、另一側(cè)開口小的窗口結(jié)構(gòu)；此種結(jié)構(gòu)在蒸鍍過程中不出現(xiàn)可能存在的死角，可以完全避免現(xiàn)有結(jié)構(gòu)對(duì)沉積均勻性造成的影響，對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量提升有極大的幫助。
文檔編號(hào)C23C14/04GK203159698SQ201320125070
公開日2013年8月28日 申請(qǐng)日期2013年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月19日
發(fā)明者魏志凌 申請(qǐng)人:昆山允升吉光電科技有限公司