等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片的制造方法
【專利摘要】一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，包括：一儲(chǔ)片匣，用于存放一基片；一軌道，設(shè)置于該儲(chǔ)片匣及一PECVD爐之間；一軌道車，設(shè)置于該軌道并沿該軌道運(yùn)動(dòng)，其中，該軌道車往返于靠近該儲(chǔ)片匣的一第一位置及靠近該P(yáng)ECVD爐的一第二位置之間；一機(jī)械臂，固定于該軌道車，其中，該機(jī)械臂擁有一工作端；一吸片機(jī)，固定于該工作端，用于吸片；及一驅(qū)動(dòng)單元，用于對該軌道車，該機(jī)械臂及該吸片機(jī)提供能量。籍由上述之結(jié)構(gòu)，本實(shí)用新型可以半自動(dòng)地完成基片安裝的工作，省去了人工搬片及人工對片的麻煩，降低了生產(chǎn)成本，極大地提高了工作效率及對片精度，保證了鍍膜產(chǎn)品的優(yōu)良品質(zhì)和外觀。
【專利說明】等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，尤其是一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]PECVD，全稱為 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，即:等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法。PECVD借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，并在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體氣相沉積。
[0003]現(xiàn)有的PECVD沉積方式是采用頂部進(jìn)氣通過氣體篩板后進(jìn)入反應(yīng)器內(nèi)，而基片采用插入式安裝?；迦胱鳛镻ECVD鍍膜生產(chǎn)過程中的重要一環(huán)，對產(chǎn)品品質(zhì)及外觀有著舉足輕重的作用。
[0004]在基片插入過程中，需要將處理后的基片移至反應(yīng)爐前并定位，而現(xiàn)有技術(shù)一般采用人工操作等方法實(shí)現(xiàn)這一過程，極大地影響了工作效率，且浪費(fèi)了大量的人力成本；除此以外，采用人工方式進(jìn)行搬片及對位操作，不僅工作量大，且對片不準(zhǔn)，會(huì)影響鍍膜產(chǎn)品的品質(zhì)和外觀。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)合理，操作方便的等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)。
[0006]本實(shí)用新型的又一目的在于提供一種對片精度高，工作效果好的等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)。
[0007]為達(dá)到以上目的，本實(shí)用新型提供一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，包括:
[0008]一儲(chǔ)片匣，用于存放一基片；
[0009]一軌道，設(shè)置于該儲(chǔ)片匣及一 PECVD爐之間；
[0010]一軌道車，設(shè)置于該軌道并沿該軌道運(yùn)動(dòng)，其中，該軌道車往返于靠近該儲(chǔ)片匣的一第一位置及靠近該P(yáng)ECVD爐的一第二位置之間；
[0011]一機(jī)械臂，固定于該軌道車，其中，該機(jī)械臂擁有一工作端；
[0012]一吸片機(jī)，固定于該工作端，用于吸片，其中，當(dāng)該軌道車位于該第一位置時(shí)，該吸片機(jī)吸住該儲(chǔ)片匣中的該基片，并通過該機(jī)械臂的運(yùn)動(dòng)將該基片取出，然后該軌道車向該P(yáng)ECVD爐移動(dòng)并到達(dá)該第二位置，該機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)并將該基片放入該P(yáng)ECVD爐中后，再將該基片推入一基片插座，之后，該吸片機(jī)停止吸片并通過該機(jī)械臂的運(yùn)動(dòng)離開該P(yáng)ECVD爐以此完成基片安裝，最后，該軌道車向該儲(chǔ)片匣移動(dòng)并到達(dá)該第一位置重新吸片 '及
[0013]一驅(qū)動(dòng)單元，用于對該軌道車，該機(jī)械臂及該吸片機(jī)提供能量。[0014]籍由上述之結(jié)構(gòu)，本實(shí)用新型可以半自動(dòng)地完成基片安裝的工作，整個(gè)安裝過程中，僅需人工將基片放入該儲(chǔ)片匣即可，剩余的操作將由該等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)完成，省去了人工搬片及人工對片的麻煩，降低了生產(chǎn)成本，極大地提高了工作效率及對片精度，保證了鍍膜產(chǎn)品的優(yōu)良品質(zhì)和外觀。
[0015]本實(shí)用新型的這些目的，特點(diǎn)，和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)在下面的【具體實(shí)施方式】，附圖，和權(quán)利要求中詳細(xì)的揭露。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖。
[0017]圖2為本實(shí)用新型的A-A向視圖。
[0018]圖3為本實(shí)用新型的電路連接示意圖。
[0019]圖中:1_儲(chǔ)片匣，2-軌道，3-軌道車，4-機(jī)械臂，5-吸片機(jī)，6-驅(qū)動(dòng)單元，7-定位傳感器，8-真空吸盤，9-第一控制單元，10-距離傳感器，11-第一電機(jī)，12-第二控制單元，13-第二電機(jī)，14-第二控制單兀，15-真空栗。
【具體實(shí)施方式】
[0020]請參見圖1和圖2，本實(shí)用新型為一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，包括:
[0021]一儲(chǔ)片匣I，用于存放一基片；
[0022]一軌道2，設(shè)置于該儲(chǔ)片匣I及一 PECVD爐之間；
[0023]一軌道車3，設(shè)置于該軌道2并沿該軌道2運(yùn)動(dòng)，其中，該軌道車3往返于靠近該儲(chǔ)片匣I的一第一位置及靠近該P(yáng)ECVD爐的一第二位置之間；
[0024]一機(jī)械臂4，固定于該軌道車3，其中，該機(jī)械臂4擁有一工作端；
[0025]一吸片機(jī)5，固定于該工作端，用于吸片，其中，當(dāng)該軌道車3位于該第一位置時(shí)，該吸片機(jī)5吸住該儲(chǔ)片匣I中的該基片，并通過該機(jī)械臂4的運(yùn)動(dòng)將該基片取出，然后該軌道車3向該P(yáng)ECVD爐移動(dòng)并到達(dá)該第二位置，該機(jī)械臂4運(yùn)動(dòng)并將該基片放入該P(yáng)ECVD爐中后，再將該基片推入一基片插座，之后，該吸片機(jī)5停止吸片并通過該機(jī)械臂4的運(yùn)動(dòng)離開該P(yáng)ECVD爐以此完成基片安裝，最后，該軌道車3向該儲(chǔ)片匣I移動(dòng)并到達(dá)該第一位置重新吸片；及
[0026]一驅(qū)動(dòng)單元6，用于對該軌道車3，該機(jī)械臂4及該吸片機(jī)5提供能量。
[0027]籍由上述之結(jié)構(gòu)，本實(shí)用新型可以半自動(dòng)地完成基片安裝的工作，整個(gè)安裝過程中，僅需人工將基片放入該儲(chǔ)片匣I即可，剩余的操作將由該等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)完成，省去了人工搬片及人工對片的麻煩，降低了生產(chǎn)成本，極大地提高了工作效率及對片精度，保證了鍍膜產(chǎn)品的優(yōu)良品質(zhì)和外觀。
[0028]優(yōu)選的，該儲(chǔ)片匣I可從本實(shí)用新型中略去，該基片從生產(chǎn)線通過人工搬運(yùn)至該吸片機(jī)5旁，然后該吸片機(jī)5進(jìn)行吸片。
[0029]優(yōu)選的，該機(jī)械臂4吸在該基片的側(cè)面中心部位，將該基片放入該P(yáng)ECVD爐中后，該機(jī)械臂4撤走，該基片由人工推入該基片插座。
[0030]優(yōu)選的，該軌道2進(jìn)一步包括兩個(gè)擋板，固定于該軌道2的兩端，用于防止該軌道
車3滑落。[0031]優(yōu)選的，所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，進(jìn)一步包括一控制面板，用于手動(dòng)啟動(dòng)和停止該等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)。
[0032]優(yōu)選的，所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，進(jìn)一步包括一保護(hù)單元，用于在過載，短路，漏電和過熱時(shí)使該等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)停止工作。
[0033]藉由上述之結(jié)構(gòu)，該保護(hù)單元可以有效防止過載，短路，漏電和過熱對該等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)帶來的損害。
[0034]優(yōu)選的，其中，該軌道車3包括:
[0035]一車體；
[0036]復(fù)數(shù)個(gè)車輪，設(shè)置于該車體的一下部，其中，該車輪被該軌道2限制以此沿該軌道2滾動(dòng)；
[0037]一第一電機(jī)11，用于驅(qū)動(dòng)該車輪；
[0038]一平臺(tái)，固定于該車體的一上部，其中，該機(jī)械臂4固定于該平臺(tái)；
[0039]一距離傳感器10，固定于該車體上，用于測量該軌道車3與該儲(chǔ)片匣I之間的一第一距離及與該P(yáng)ECVD爐之間的一第二距離；及
[0040]—第一控制單兀9，用于控制該第一電機(jī)11，其中，當(dāng)該第一距離小于一第一預(yù)設(shè)距離，或該第二距離小于一第二預(yù)設(shè)距離時(shí)，該第一控制單元9使該第一電機(jī)11停止工作，并當(dāng)該機(jī)械臂4及該吸片機(jī)5完成工作時(shí)使該第一電機(jī)11反向工作，以此使該軌道車3從該第一位置移動(dòng)至該第二位置，或從該第二位置移動(dòng)至該第一位置。
[0041]籍由上述之結(jié)構(gòu)，該軌道車3可以自動(dòng)往返于該第一位置及該第二位置之間，整個(gè)過程不需人為干預(yù)，降低了生產(chǎn)成本，提高了工作效率。
[0042]優(yōu)選的，該軌道車3進(jìn)一步包括剎車裝置，固定于該車輪，用于使該軌道車3快速停止。
[0043]優(yōu)選的，其中，該機(jī)械臂4包括:
[0044]一升降臂，擁有一齒狀邊緣；
[0045]一第二電機(jī)13，擁有一齒輪，其中，該齒輪與該齒狀邊緣嚙合，以此通過該第二電機(jī)13驅(qū)動(dòng)該升降臂；
[0046]一支架，固定于該升降臂的一下部，其中，該支架擁有該工作端，用于固定該吸片機(jī)5 ;
[0047]一定位傳感器7，設(shè)置于該升降臂，用于測定該升降臂的一位置信息；及
[0048]一第二控制單元12，用于控制該第二電機(jī)13，其中，當(dāng)該位置信息與一預(yù)設(shè)位置信息相符合時(shí)，該第二控制單元12使該第二電機(jī)13停止工作，并當(dāng)該吸片機(jī)5完成工作時(shí)使該第二電機(jī)13反向工作。
[0049]籍由上述之結(jié)構(gòu)，該機(jī)械臂4可以輔助該吸片機(jī)5完成取片操作及插片操作，且使用了該定位傳感器7，使該機(jī)械臂4被限定在有效范圍內(nèi)工作，整個(gè)過程不需人為干預(yù)，降低了生產(chǎn)成本，提高了工作效率。
[0050]優(yōu)選的，該機(jī)械臂4進(jìn)一步包括一配重塊，用于使該軌道車3受到的總力矩為零以此提供穩(wěn)定性并減少脫軌的可能性。
[0051]優(yōu)選的，其中，該吸片機(jī)5包括:
[0052]一真空吸盤8，用于吸住該基片；[0053]—真空栗15，用于為該真空吸盤8減壓；及
[0054]一第三控制單元14，用于控制該真空栗15以完成吸片操作。
[0055]籍由上述之結(jié)構(gòu)，該吸片機(jī)5可以用真空吸盤8進(jìn)行取片操作，其具有吸力強(qiáng)，不易損傷基片表面的優(yōu)點(diǎn)，且整個(gè)過程不需人為干預(yù)，降低了生產(chǎn)成本，提高了工作效率。
[0056]優(yōu)選的，該真空吸盤8為橡膠材質(zhì)，用于更好地貼合該基片。
[0057]通過上述實(shí)施例，本實(shí)用新型的目的已經(jīng)被完全有效的達(dá)到了。熟悉該項(xiàng)技藝的人士應(yīng)該明白本實(shí)用新型包括但不限于附圖和上面【具體實(shí)施方式】中描述的內(nèi)容。任何不偏離本實(shí)用新型的功能和結(jié)構(gòu)原理的修改都將包括在權(quán)利要求書的范圍中。
【權(quán)利要求】
1.一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，包括: 一儲(chǔ)片匣，用于存放一基片； 一軌道，用于將該基片從該儲(chǔ)片匣運(yùn)送至一 PECVD爐； 一軌道車，設(shè)置于該軌道并沿該軌道運(yùn)動(dòng)，其中，該軌道車往返于靠近該儲(chǔ)片匣的一第一位置及靠近該P(yáng)ECVD爐的一第二位置之間； 一機(jī)械臂，固定于該軌道車，其中，該機(jī)械臂擁有一工作端； 一吸片機(jī)，固定于該工作端，用于吸片，其中，當(dāng)該軌道車位于該第一位置時(shí)，該吸片機(jī)吸住該儲(chǔ)片匣中的該基片，并通過該機(jī)械臂的運(yùn)動(dòng)將該基片取出，然后該軌道車向該P(yáng)ECVD爐移動(dòng)并到達(dá)該第二位置，該機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)并將該基片放入該P(yáng)ECVD爐中后，再將該基片推入一基片插座，之后，該吸片機(jī)停止吸片并通過該機(jī)械臂的運(yùn)動(dòng)離開該P(yáng)ECVD爐以此完成基片安裝，最后，該軌道車向該儲(chǔ)片匣移動(dòng)并到達(dá)該第一位置重新吸片；及 一驅(qū)動(dòng)單元，用于對該軌道車，該機(jī)械臂及該吸片機(jī)提供能量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，該軌道進(jìn)一步包括兩個(gè)擋板，固定于該軌道的兩端，用于防止該軌道車滑落。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，進(jìn)一步包括一控制面板，用于手動(dòng)啟動(dòng)和停止該等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，進(jìn)一步包括一保護(hù)單元，用于在過載，短路，漏電和過熱時(shí)使該等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)停止工作。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，該軌道車包括: 一車體； 復(fù)數(shù)個(gè)車輪，設(shè)置于該車體的一下部，其中，該車輪被該軌道限制以此沿該軌道滾動(dòng)； 一第一電機(jī)，用于驅(qū)動(dòng)該車輪； 一平臺(tái)，固定于該車體的一上部，其中，該機(jī)械臂固定于該平臺(tái)； 一距離傳感器，固定于該車體上，用于測量該軌道車與該儲(chǔ)片匣之間的一第一距離及與該P(yáng)ECVD爐之間的一第二距離；及 一第一控制單元，用于控制該第一電機(jī)，其中，當(dāng)該第一距離小于一第一預(yù)設(shè)距離，或該第二距離小于一第二預(yù)設(shè)距離時(shí)，該第一控制單元使該第一電機(jī)停止工作，并當(dāng)該機(jī)械臂及該吸片機(jī)完成工作時(shí)使該第一電機(jī)反向工作，以此使該軌道車從該第一位置移動(dòng)至該第二位置，或從該第二位置移動(dòng)至該第一位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，該軌道車進(jìn)一步包括剎車裝置，固定于該車輪，用于使該軌道車快速停止。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，該機(jī)械臂包括: 一升降臂，擁有一齒狀邊緣； 一第二電機(jī)，擁有一齒輪，其中，該齒輪與該齒狀邊緣嚙合，以此通過該第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)該升降臂； 一支架，固定于該升降臂的一下部，其中，該支架擁有該工作端，用于固定該吸片機(jī)；一定位傳感器，設(shè)置于該升降臂，用于測定該升降臂的一位置信息；及一第二控制單元，用于控制該第二電機(jī)，其中，當(dāng)該位置信息與一預(yù)設(shè)位置信息相符合時(shí)，該第二控制單元使該第二電機(jī)停止工作，并當(dāng)該吸片機(jī)完成工作時(shí)使該第二電機(jī)反向工作。
8.據(jù)權(quán)利要求7所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，該機(jī)械臂進(jìn)一步包括一配重塊，用于使該軌道車受到的總力矩為零以此提供穩(wěn)定性并減少脫軌的可能性。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動(dòng)插片機(jī)，其特征在于，該吸片機(jī)包括: 一真空吸盤，用于吸住該基片； 一真空栗，用 于為該真空吸盤減壓；及 一第三控制單元，用于控制該真空栗以完成吸片操作。
【文檔編號】C23C16/458GK203602710SQ201320469816
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年8月3日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月3日
【發(fā)明者】沙嫣, 沙曉林 申請人:沙嫣, 沙曉林