真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置，包括垂直設(shè)置的冷卻基座、貼合安裝在冷卻基座側(cè)表面的永磁鐵，所述冷卻基座上設(shè)有滑軌，永磁鐵與冷卻基座相貼的側(cè)表面具有與滑軌相配的滑槽。本實(shí)用新型通過(guò)移動(dòng)永磁鐵位置，可均勻地耗用靶材的各個(gè)部分，充分發(fā)揮靶材的最大使用效率，降低成本，確保靶材消耗的均勻性。
【專利說(shuō)明】真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前行業(yè)內(nèi)真空鍍膜常用的永磁鐵一般均安裝在冷卻水槽內(nèi)，位置固定不可移動(dòng)，由于永磁鐵產(chǎn)生的磁力線轟擊靶材是垂直的，靶材的消耗一般是靶材垂直對(duì)應(yīng)磁場(chǎng)的那部分，而靶材其他部分則不能得到有效利用，造成靶材耗用量大，浪費(fèi)嚴(yán)重。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是:克服現(xiàn)有技術(shù)中之不足，提供一種能使靶材得到充分利用、降低成本的真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置。
[0004]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置，包括垂直設(shè)置的冷卻基座、貼合安裝在冷卻基座側(cè)表面的永磁鐵，所述冷卻基座上設(shè)有滑軌，永磁鐵與冷卻基座相貼的側(cè)表面具有與滑軌相配的滑槽。
[0005]進(jìn)一步地，所述的永磁鐵數(shù)量為兩塊，相距滑動(dòng)設(shè)置在冷卻基座側(cè)表面。
[0006]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型通過(guò)移動(dòng)永磁鐵位置，可均勻地耗用靶材的各個(gè)部分，充分發(fā)揮靶 材的最大使用效率，降低成本，確保靶材消耗的均勻性。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0007]下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。
[0008]圖1是本實(shí)用新型的截面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖中1.冷卻基座2.永磁鐵3.滑軌4.滑槽5.靶材6.移位裝置【具體實(shí)施方式】
[0010]現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。
[0011]如圖1所示的一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置，包括垂直設(shè)置冷卻基座1，冷卻基座I側(cè)表面貼合安裝有產(chǎn)生磁場(chǎng)的永磁鐵2，永磁鐵2數(shù)量為兩塊，相距滑動(dòng)設(shè)置在冷卻基座I側(cè)表面，與永磁鐵2正面相對(duì)并相距設(shè)置有經(jīng)永磁鐵2轟擊后產(chǎn)生微粒子的靶材5，對(duì)應(yīng)地,靶材5數(shù)量也為兩個(gè)。
[0012]為實(shí)現(xiàn)永磁鐵2在冷卻基座I側(cè)表面的滑動(dòng)，所述冷卻基座I上設(shè)有滑軌3，永磁鐵2與冷卻基座I相貼的側(cè)表面具有與滑軌3相配的滑槽4，通過(guò)移位裝置6作用，實(shí)現(xiàn)永磁鐵2在冷卻基座I側(cè)表面上沿滑軌3滑動(dòng)。
[0013]冷卻基座I采用銅材制作，具有良好的傳導(dǎo)性，冷卻基座I內(nèi)部灌裝有循環(huán)的冷卻水，通過(guò)冷卻水的不斷循環(huán)來(lái)冷卻永磁鐵2，從而保證了永磁鐵2磁性的穩(wěn)定性。
[0014]本實(shí)用新型通過(guò)移動(dòng)永磁鐵2位置，可均勻地耗用靶材5的各個(gè)部分，充分發(fā)揮靶材5的最大使用效率，降低成本，確保靶材5消耗的均勻性。
[0015] 上述實(shí)施方式只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置，包括垂直設(shè)置的冷卻基座(I)、貼合安裝在冷卻基座(I)側(cè)表面的永磁鐵(2)，其特征是:所述冷卻基座(I)上設(shè)有滑軌(4)，永磁鐵(2)與冷卻基座(I)相貼的側(cè)表面具有與滑軌(4)相配的滑槽(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置，其特征是:所述的永磁鐵(2)數(shù)量為兩塊，相距滑動(dòng)設(shè)置在冷卻基座(I)側(cè)表面。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK203419979SQ201320510144
【公開(kāi)日】2014年2月5日 申請(qǐng)日期:2013年8月20日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月20日
【發(fā)明者】馮新偉 申請(qǐng)人:江蘇津通先鋒光電顯示技術(shù)有限公司