一種研磨拋光裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種研磨拋光裝置,其包括檢測單元、判斷單元與打磨機(jī);所述檢測單元與所述判斷單元連接;所述判斷單元與所述打磨機(jī)連接;所述打磨機(jī)設(shè)置驅(qū)動機(jī)械臂與注液模塊,以及分別與所述驅(qū)動機(jī)械臂連接的粗糙打磨單元、搭配打磨單元與拋光單元;所述注液模塊與所述驅(qū)動機(jī)械臂連接。通過運(yùn)用機(jī)器設(shè)備實(shí)現(xiàn)自動化濕式打磨及拋光,解決了傳統(tǒng)干式打磨工藝易燃易爆的安全隱患,及打磨行業(yè)人工打磨招工難問題,尤其適用于電腦、電視、手機(jī)、IPAD、高爾夫等對產(chǎn)品要求較高的領(lǐng)域。
【專利說明】一種研磨拋光裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及研磨工藝,尤其涉及的是,一種研磨拋光裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]鋁材及鋁合金具有特殊的材料特性:材質(zhì)輕,柔性強(qiáng)易于產(chǎn)品成型及陽極染色處理,因此,其在加工制造中使用的越來越廣泛。
[0003]傳統(tǒng)研磨工藝為人工干式打磨,其缺點(diǎn)為易燃,易爆,粉塵大,作業(yè)環(huán)境惡劣,打磨效率低。這樣,鋁材及鋁合金經(jīng)過機(jī)械加工后表面粗糙度一般在0.15Ra以上。
[0004]隨著人們對電子消費(fèi)性產(chǎn)品外觀要求越來越苛刻,要求表面光滑細(xì)膩,甚至鏡面,傳統(tǒng)的打磨工藝很難達(dá)到此要求,并且,因鋁分子在空氣易被氧化,質(zhì)地較軟,采用一般的打磨砂紙粒度達(dá)到1500#時(shí),就會出現(xiàn)無法散熱排屑,從而造成產(chǎn)品表面氧化,發(fā)黑。即使是濕式打磨,當(dāng)砂紙粒度數(shù)高于1500#進(jìn)行打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁粉較細(xì),鋁粉同樣很難排除,一旦鋁粉殘留在砂粒表面,打磨時(shí)鋁粉會對工件造成二次研磨,從而增加工件表面溫度,力口速工件氧化,發(fā)黑,無法繼續(xù)研磨。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種新型的研磨拋光裝置。
[0006]本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:一種研磨拋光裝置,其包括檢測單元、判斷單元與打磨機(jī);所述檢測單元與所述判斷單元連接;所述判斷單元與所述打磨機(jī)連接;所述打磨機(jī)設(shè)置驅(qū)動機(jī)械臂與注液模塊,以及分別與所述驅(qū)動機(jī)械臂連接的粗糙打磨單元、搭配打磨單元與拋光單元;所述注液模塊與所述驅(qū)動機(jī)械臂連接。
[0007]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述檢測單元設(shè)置粗糙度檢測模塊,用于檢測鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度;所述判斷單元與所述打磨機(jī)連接,用于在粗糙度大于0.3Ra時(shí),所述驅(qū)動機(jī)械臂選擇并驅(qū)動所述粗糙打磨單元進(jìn)行打磨;在粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra時(shí),所述驅(qū)動機(jī)械臂選擇并驅(qū)動所述搭配打磨單元進(jìn)行打磨;在粗糙度小于0.1Ra時(shí),所述驅(qū)動機(jī)械臂選擇并驅(qū)動所述拋光單元進(jìn)行拋光;所述注液模塊用于在所述拋光單元進(jìn)行拋光時(shí)注入拋光液。
[0008]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述注液模塊設(shè)置循環(huán)過濾注液單元,用于在所述拋光單元進(jìn)行拋光時(shí)注入所述拋光液,并且回收過濾所述拋光液循環(huán)使用。
[0009]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述循環(huán)過濾注液單元設(shè)置集液槽、過濾區(qū)與注液器;所述集液槽設(shè)置于所述被拋光工件下方,用于收集所述拋光液并在重力作用下導(dǎo)入所述過濾區(qū);所述過濾區(qū)用于過濾所述拋光液;所述注液器連接所述過濾區(qū),用于將在所述拋光單元進(jìn)行拋光時(shí)注入過濾后的所述拋光液。
[0010]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述打磨機(jī)設(shè)置模式控制單元與模式存儲單元;所述模式存儲單元與所述模式控制單元連接,用于預(yù)存儲至少一打磨模式與至少一拋光模式;所述模式控制單元分別與所述檢測單元、所述驅(qū)動機(jī)械臂連接,用于根據(jù)所述粗糙度,輸出打磨模式或拋光模式;所述驅(qū)動機(jī)械臂根據(jù)打磨模式或拋光模式,驅(qū)動打磨或拋光。
[0011]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述檢測單元設(shè)置與所述模式控制單元連接的加工面積檢測模塊。
[0012]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述驅(qū)動機(jī)械臂設(shè)置力控模塊或彈簧模塊,用于調(diào)節(jié)打磨或拋光的壓力。
[0013]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述搭配打磨單元設(shè)置柔性透氣背基磨料。
[0014]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述搭配打磨單元設(shè)置抗氧化劑和潤滑劑輔助輸出頭,用于在打磨時(shí)通過對柔性透氣背基磨料的擠壓力,將打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁屑擠壓在柔性透氣背基內(nèi),并采用循環(huán)過濾注液方式,循環(huán)使用抗氧化劑與潤滑劑并將鋁屑排出。
[0015]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述柔性透氣背基磨料采用碳化硅、陶瓷和/或金剛砂作為磨粒。
[0016]采用上述方案,本實(shí)用新型根據(jù)工件表面的粗糙度,采用不同的打磨單元或者拋光單元,提高了處理效率,具有很高的市場應(yīng)用價(jià)值。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0017]圖1為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]為了便于理解本實(shí)用新型,下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例,對本實(shí)用新型進(jìn)行更詳細(xì)的說明。附圖中給出了本實(shí)用新型的較佳的實(shí)施例。但是,本實(shí)用新型可以以許多不同的形式來實(shí)現(xiàn),并不限于本說明書所描述的實(shí)施例。相反地,提供這些實(shí)施例的目的是使對本實(shí)用新型的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。
[0019]需要說明的是,當(dāng)元件被稱為“固定于”另一個(gè)元件,它可以直接在另一個(gè)元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是“連接”另一個(gè)元件,它可以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。本說明書所使用的術(shù)語“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的。
[0020]除非另有定義,本說明書所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本實(shí)用新型的【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本說明書中在本實(shí)用新型的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實(shí)施例的目的,不是用于限制本實(shí)用新型。本說明書所使用的術(shù)語“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。
[0021]如圖1所示,本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例是,一種研磨拋光裝置,其包括檢測單元、判斷單元與打磨機(jī);所述檢測單元與所述判斷單元連接;所述判斷單元與所述打磨機(jī)連接;所述打磨機(jī)設(shè)置驅(qū)動機(jī)械臂與注液模塊,以及分別與所述驅(qū)動機(jī)械臂連接的粗糙打磨單元、搭配打磨單元與拋光單元;所述注液模塊與所述驅(qū)動機(jī)械臂連接。例如,根據(jù)待處理工件表面的粗糙度,自動選擇粗糙打磨單元、搭配打磨單元或拋光單元。粗糙打磨單元,例如,一個(gè)打磨頭,上面設(shè)置普通砂紙,砂紙的規(guī)格根據(jù)粗糙度設(shè)置或者自動選擇、自動固定于打磨頭上。搭配打磨單元,例如,一個(gè)打磨頭,上面設(shè)置柔性透氣背基磨料,柔性透氣背基磨料的磨粒的規(guī)格根據(jù)粗糙度設(shè)置或者自動選擇、自動固定于打磨頭上。拋光單元,例如,一個(gè)打磨頭,上面設(shè)置拋光皮。這樣,可以實(shí)現(xiàn)全自動打磨、拋光,無須人手控制。[0022]例如,優(yōu)選的,所述檢測單元設(shè)置粗糙度檢測模塊,用于檢測鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度;所述判斷單元與所述打磨機(jī)連接,用于在粗糙度大于0.3Ra時(shí),所述驅(qū)動機(jī)械臂選擇并驅(qū)動所述粗糙打磨單元進(jìn)行打磨;在粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra時(shí),所述驅(qū)動機(jī)械臂選擇并驅(qū)動所述搭配打磨單元進(jìn)行打磨;在粗糙度小于0.1Ra時(shí),所述驅(qū)動機(jī)械臂選擇并驅(qū)動所述拋光單元進(jìn)行拋光;所述注液模塊用于在所述拋光單元進(jìn)行拋光時(shí)注入拋光液。
[0023]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述注液模塊設(shè)置循環(huán)過濾注液單元,用于在所述拋光單元進(jìn)行拋光時(shí)注入所述拋光液,并且回收過濾所述拋光液循環(huán)使用,即過濾后繼續(xù)在拋光時(shí)注入所述拋光液。例如,所述循環(huán)過濾注液單元設(shè)置集液槽、過濾區(qū)與注液器;所述集液槽設(shè)置于所述被拋光工件下方,用于收集所述拋光液并在重力作用下導(dǎo)入所述過濾區(qū);所述過濾區(qū)用于過濾所述拋光液;所述注液器連接所述過濾區(qū),用于將在所述拋光單元進(jìn)行拋光時(shí)注入過濾后的所述拋光液。
[0024]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述打磨機(jī)設(shè)置模式控制單元與模式存儲單元;所述模式存儲單元與所述模式控制單元連接,用于預(yù)存儲至少一打磨模式與至少一拋光模式;所述模式控制單元分別與所述檢測單元、所述驅(qū)動機(jī)械臂連接,用于根據(jù)所述粗糙度,輸出打磨模式或拋光模式;所述驅(qū)動機(jī)械臂根據(jù)打磨模式或拋光模式,驅(qū)動打磨或拋光。
[0025]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述檢測單元設(shè)置與所述模式控制單元連接的加工面積檢測模塊,其用于檢測工件的加工面積;例如,加工面積檢測模塊設(shè)置判斷子單元,加工面積檢測模塊用于檢測工件的加工面積,判斷子單元在加工面積大于第一預(yù)設(shè)面積時(shí),通知所述模式控制單元輸出偏轉(zhuǎn)拋光模式,在加工面積小于第二預(yù)設(shè)面積時(shí),通知所述模式控制單元輸出并列拋光模式。
[0026]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述驅(qū)動機(jī)械臂設(shè)置力控模塊或彈簧模塊,用于調(diào)節(jié)打磨或拋光的壓力。例如,力控模塊根據(jù)反饋力調(diào)整驅(qū)動機(jī)械臂的位置和/或轉(zhuǎn)速;又如,彈簧模塊給所述驅(qū)動機(jī)械臂施加反向彈性力,用于防止損毀工件或者所述驅(qū)動機(jī)械臂。
[0027]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述搭配打磨單元設(shè)置柔性透氣背基磨料。采用柔性透氣背基磨料,磨料與背基之間屬于透氣結(jié)構(gòu),打磨后產(chǎn)生的熱量和鋁屑可以及時(shí)得到排除。柔性透氣背基磨料材質(zhì)一般不采用氧化鋁,采用氧化鋁打磨易發(fā)黑。例如,所述柔性透氣背基磨料采用碳化硅、陶瓷和/或金剛砂作為磨粒。例如,柔性透氣背基磨料包括磨粒層,磨粒層采用碳化硅、陶瓷和/或金剛砂作為磨粒。又如,柔性透氣背基磨料包括柔性透氣背基層,其具有柔性背基,例如橡膠背基、海綿背基、尼龍背基、塑料背基或者彈性背基等,柔性背基之間設(shè)置孔隙,打磨時(shí)通過對柔性透氣背基磨料的擠壓力,將打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁屑擠壓在柔性透氣背基內(nèi),采用循環(huán)過濾注液方式,循環(huán)使用抗氧化劑與潤滑劑。例如運(yùn)用循環(huán)過濾注液裝置實(shí)現(xiàn),使抗氧化劑和潤滑劑循環(huán)使用降低成本,通過循環(huán)過濾注液裝置將打磨時(shí)吸附在背基內(nèi)的鋁屑沖出,還能散熱降溫,避免工件氧化。優(yōu)選的,柔性背基內(nèi)部設(shè)置規(guī)則排列的框架結(jié)構(gòu),框架結(jié)構(gòu)中間為各所述孔隙。優(yōu)選的,各所述孔隙規(guī)則排列。
[0028]優(yōu)選的,所述研磨拋光裝置中,所述搭配打磨單元設(shè)置抗氧化劑和潤滑劑輔助輸出頭,用于在打磨時(shí)通過對柔性透氣背基磨料的擠壓力,將打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁屑擠壓在柔性透氣背基內(nèi),采用循環(huán)過濾注液方式,循環(huán)使用抗氧化劑與潤滑劑并將鋁屑排出。
[0029]例如,該裝置在實(shí)際操作中包括以下步驟。[0030]SI,判斷鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度,粗糙度大于0.3Ra則執(zhí)行步驟S2,粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra則執(zhí)行步驟S3,粗糙度小于0.1Ra則執(zhí)行步驟S4 ;
[0031]S2,設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式,采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨至粗糙度大于等于
0.1Ra且小于等于0.3Ra;優(yōu)選的,步驟S2中,設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式,其中,設(shè)置粒度為180至1500目,下一道打磨粒度比上一道打磨粒度大60至400目,打磨壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié),打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。優(yōu)選的,步驟S2采用濕式打磨;例如,采用抗氧化劑和潤滑劑輔助打磨,一是便于鋁屑及時(shí)沖洗,二是保護(hù)產(chǎn)品表面,防止工件表面氧化,三是延長打磨耗材的壽命。
[0032]步驟S2中,當(dāng)工件的粗糙度大于0.3Ra時(shí),為了節(jié)約成本與時(shí)間,一般采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨,粒度為180至1500目之間,下一道打磨粒度比上一道打磨粒度大60至400目之間,打磨壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié),打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。例如,第一次采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨,粒度為200目,第二次采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨,粒度為500目,第三次采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨,粒度為800目,優(yōu)選的,在打磨過程中,檢測工件的粗糙度,當(dāng)其不大于0.3Ra時(shí),則執(zhí)行步驟S3。
[0033]S3,設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式,采用1500至5000目之間的柔性透氣背基磨料進(jìn)行搭配打磨,至粗糙度小于0.1Ra ;優(yōu)選的,步驟S3中,設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式,下一粒度將上一粒度的打磨痕進(jìn)行覆蓋,打磨壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié),打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。步驟S3中,采用柔性透氣背基磨料代替普通砂紙進(jìn)行打磨,磨料粒度可以達(dá)到5000目以上,打磨后產(chǎn)品表面光滑細(xì)膩。
[0034]例如,所述搭配打磨模式,采用1500目+3000目、1500+5000目、或者3000+5000目
進(jìn)行搭配進(jìn)行打磨,這樣,就實(shí)現(xiàn)了下一粒度將上一粒度的打磨痕進(jìn)行覆蓋。
[0035]當(dāng)工件的粗糙度在0.1至0.3Ra時(shí),因鋁分子在空氣中易被氧化,質(zhì)地較軟,采用一般的打磨砂紙粒度達(dá)到1500# (即1500目)時(shí),就會出現(xiàn)無法散熱排屑,從而造成產(chǎn)品表面氧化,發(fā)黑。即使是濕式打磨,當(dāng)砂紙粒度數(shù)高于1500#進(jìn)行打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁粉較細(xì),鋁粉同樣很難排除,一旦鋁粉殘留在砂粒表面,打磨時(shí)鋁粉會對工件造成二次研磨,從而增加工件表面溫度,加速工件氧化,發(fā)黑,無法繼續(xù)研磨,因此采用柔性透氣背基磨料1500至5000目之間的粒度進(jìn)行搭配打磨,下一粒度需將上一粒度的打磨痕進(jìn)行覆蓋,例如1500目+3000目或者1500+5000目或者3000+5000目進(jìn)行搭配均可以達(dá)到粗糙度降到0.1Ra以下,打磨壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié),打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。例如,打磨機(jī)轉(zhuǎn)速為100、180或250轉(zhuǎn)/分,通常的,根據(jù)工件的材質(zhì)、大小、處理面積與工藝要求確定所述打磨機(jī)轉(zhuǎn)速。
[0036]優(yōu)選的,采用濕式打磨方式,例如,采用抗氧化劑和潤滑劑輔助打磨,打磨時(shí)通過對柔性透氣背基磨料的擠壓力,將打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁屑擠壓在柔性透氣背基內(nèi),采用循環(huán)過濾注液方式,循環(huán)使用抗氧化劑與潤滑劑。例如運(yùn)用循環(huán)過濾注液裝置實(shí)現(xiàn),使抗氧化劑和潤滑劑循環(huán)使用降低成本,通過循環(huán)過濾注液裝置將打磨時(shí)吸附在背基內(nèi)的鋁屑沖出,還能散熱降溫,避免工件氧化。
[0037]S4,設(shè)置機(jī)器為拋光模式,采用拋光皮進(jìn)行拋光處理;其中,采用循環(huán)過濾注液方式,循環(huán)使用拋光液。
[0038]其中,本實(shí)用新型各實(shí)施例中,打磨時(shí)間與拋光時(shí)間不作額外限制,只需能夠?qū)崿F(xiàn)打磨或拋光效果即可,例如,對于大型工件或者處理面積較大的工件,打磨時(shí)間與拋光時(shí)間較長,例如5分鐘、10分鐘乃至于更長的時(shí)間;又如,對于小型工件或者處理面積較小的工件,打磨時(shí)間與拋光時(shí)間較短,例如10秒鐘、5秒鐘乃至于更短的時(shí)間。
[0039]優(yōu)選的,步驟S4之前,還執(zhí)行以下步驟S41:判斷工件的加工面積是否大于第一預(yù)設(shè)面積,是則在步驟S4中設(shè)置機(jī)器為偏轉(zhuǎn)拋光模式,采用偏心打磨機(jī)粘拋光皮加拋光液進(jìn)行拋光處理或者同心打磨機(jī)粘拋光皮加偏擺裝置搭配拋光液進(jìn)行拋光處理;否則在步驟S4中采用研磨機(jī)進(jìn)行拋光處理;其中,打磨壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié),打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。
[0040]優(yōu)選的,步驟S41之前,還執(zhí)行以下步驟S40:判斷工件的加工面積是否小于第二預(yù)設(shè)面積,是則將工件裝夾并列排好后執(zhí)行步驟S4,否則執(zhí)行步驟S41。
[0041]工件粗糙度達(dá)到0.1Ra以下時(shí)采用拋光皮進(jìn)行拋光。當(dāng)工件較大時(shí),采用偏心打磨機(jī)粘拋光皮加拋光液進(jìn)行拋光處理或者同心打磨機(jī)粘拋光皮加偏擺裝置搭配拋光液進(jìn)行拋光處理。運(yùn)用循環(huán)過濾注液裝置,一使拋光液循環(huán)使用降低成本,二散熱降溫,避免工件氧化。拋光壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié),打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。當(dāng)工件較小時(shí),采用Lapping (研磨)機(jī)進(jìn)行拋光處理或者將小件裝夾并列排好后進(jìn)行拋光,以提高工作效率。
[0042]優(yōu)選的,步驟S2至S4中,根據(jù)工件的粗糙度及工件的大小形狀調(diào)節(jié)打磨路徑或拋光路徑。例如,O形、L形、S形、9字形和/或8字形等預(yù)設(shè)置打磨路徑或拋光路徑,這樣,可以根據(jù)實(shí)際情況,調(diào)整路徑,獲取更好的打磨或拋光效果。
[0043]優(yōu)選的,步驟S2至S4中,通過力控模塊或彈簧模塊調(diào)節(jié)打磨或拋光的壓力。上述步驟中,通常的,不限制打磨時(shí)間與拋光時(shí)間,只需能達(dá)到打磨或拋光效果即可,優(yōu)選的,在打磨過程或者拋光過程中,定時(shí)或者實(shí)時(shí)檢測工件表面的粗糙度,然后判斷鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度,然后確定是否停止當(dāng)前工序進(jìn)入下一工序,或者繼續(xù)執(zhí)行當(dāng)前工序。優(yōu)選的,打磨時(shí)間為I至5分鐘,拋光時(shí)間為I至3分鐘。又如,打磨時(shí)間根據(jù)粗糙度檢測結(jié)果確定,拋光時(shí)間為I至2分鐘。又如,拋光時(shí)間根據(jù)粗糙度檢測結(jié)果確定,例如,在粗糙度小于0.05Ra或者0.03Ra時(shí)停止;優(yōu)選的,在粗糙度小于0.02Ra時(shí)停止。又如,拋光時(shí)間根據(jù)粗糙度檢測結(jié)果確定,在粗糙度小于0.0lRa時(shí)停止,這樣,有助于滿足嚴(yán)苛工藝規(guī)格的要求,實(shí)現(xiàn)表面非常光滑的效果。
[0044]優(yōu)選的,步驟SI至S4中,全部采用機(jī)器自動化操作,步驟SI中,工件被傳送到檢測器,檢測工件表面的粗糙度,然后判斷鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度,粗糙度大于
0.3Ra則執(zhí)行步驟S2,粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra則執(zhí)行步驟S3,粗糙度小于
0.1Ra則執(zhí)行步驟S4。步驟S2至S4中,根據(jù)粗糙度的數(shù)值,自動設(shè)置機(jī)器的運(yùn)作模式,自動選擇打磨砂紙、柔性透氣背基磨料或者拋光皮,以及上述打磨、拋光材料的規(guī)格,然后進(jìn)行打磨或者拋光。
[0045]例如,鋁材及鋁合金自動化濕式鏡面拋光分為以下步驟:機(jī)器的調(diào)節(jié),調(diào)整使用機(jī)器及其運(yùn)作模式、選擇打磨、拋光材料及其規(guī)格;粗糙度降低,為了縮短鏡面拋光的時(shí)間,先將工件表面的粗糙度降低到0.1Ra以下,Ra值越小鏡面拋光的時(shí)間越短;鏡面拋光。鏡面拋光步驟中,通過自動機(jī)器人或打磨專用機(jī)器根據(jù)工件的粗糙度及工件的大小形狀調(diào)節(jié)打磨路徑及時(shí)間,通過力控模塊或彈簧模塊調(diào)節(jié)打磨的壓力。[0046]經(jīng)以上研磨工藝打磨拋光后的工件,表面光滑細(xì)膩,達(dá)到鏡面效果。例如,粗糙度在0.2Ra的工件,采用以下步驟進(jìn)行打磨拋光。
[0047]1、1500#柔性透氣背基磨料進(jìn)行開粗,時(shí)間為1-5分鐘,機(jī)械轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分;例如,開粗的時(shí)間為5分鐘、4分鐘或2.5分鐘,根據(jù)打磨件的大小與打磨面積確定;
[0048]2,2000^3000#柔性透氣背基磨料進(jìn)行二次打磨,時(shí)間為1_5分鐘,機(jī)械轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分覆蓋前道打磨痕;例如,二次打磨的時(shí)間為3分鐘、2分鐘或1.5分鐘,根據(jù)打磨件的大小與打磨面積確定;
[0049]3,4000^5000#柔性透氣背基磨料進(jìn)行打磨,時(shí)間為1_5分鐘,機(jī)械轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分覆蓋前道打磨痕;打磨完成后工件粗糙度可達(dá)0.02Ra,光澤度可以達(dá)到850⑶;例如,打磨時(shí)間為為4.5分鐘、3.5分鐘或I分鐘,根據(jù)打磨件的大小與打磨面積確定;
[0050]4、拋光皮加拋光液進(jìn)行拋光,時(shí)間為1-5分鐘;達(dá)到鏡面效果;例如,拋光時(shí)間為5分鐘、3分鐘或I分鐘,根據(jù)打磨件的大小與打磨面積確定;
[0051]5、以上步驟1-4中,在打磨的同時(shí)加入抗氧化劑和潤滑劑輔助打磨,優(yōu)選的,抗氧化劑和潤滑劑用量為鋪滿工件表面,以保護(hù)產(chǎn)品表面,防止工件在打磨時(shí)表面氧化并延長打磨耗材壽命,降低打磨時(shí)所產(chǎn)生的溫度,鋁屑及時(shí)沖洗。
[0052]通過以上工藝可以根據(jù)不同的打磨時(shí)間達(dá)到不同的打磨效果,一般采用以上工藝打磨拋光后工件粗糙度可以達(dá)到0.05Ra以下,工件表面達(dá)到鏡面效果。
[0053]本實(shí)用新型運(yùn)用機(jī) 器設(shè)備實(shí)現(xiàn)自動化濕式打磨及拋光解決了傳統(tǒng)干式打磨工藝的易燃易爆的安全隱患及打磨行業(yè)人工打磨招工難問題,尤其適用于電腦、電視、手機(jī)、IPAD、高爾夫等對產(chǎn)品要求較高的領(lǐng)域。
[0054]進(jìn)一步地,本實(shí)用新型的實(shí)施例還包括,上述各實(shí)施例的各技術(shù)特征,相互組合形成的拋光裝置。
[0055]需要說明的是,上述各技術(shù)特征繼續(xù)相互組合,形成未在上面列舉的各種實(shí)施例,均視為本實(shí)用新型說明書記載的范圍;并且,對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)上述說明加以改進(jìn)或變換,而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種研磨拋光裝置,包括檢測單元、判斷單元與打磨機(jī);所述檢測單元與所述判斷單元連接;所述判斷單元與所述打磨機(jī)連接;所述打磨機(jī)設(shè)置驅(qū)動機(jī)械臂與注液模塊;其中所涉及的判斷過程、檢測過程采用的計(jì)算機(jī)程序?qū)儆诂F(xiàn)有技術(shù);其特征在于, 所述打磨機(jī)設(shè)置分別與所述驅(qū)動機(jī)械臂連接的粗糙打磨單元、搭配打磨單元與拋光單元; 所述注液模塊與所述驅(qū)動機(jī)械臂連接; 所述搭配打磨單元設(shè)置柔性透氣背基磨料; 所述柔性透氣背基磨料包括磨粒層; 所述注液模塊設(shè)置循環(huán)過濾注液單元,用于在所述拋光單元進(jìn)行拋光時(shí)注入所述拋光液,并且回收過濾所述拋光液循環(huán)使用; 所述循環(huán)過濾注液單元設(shè)置集液槽、過濾區(qū)與注液器; 所述集液槽設(shè)置于被拋光工件下方,用于收集所述拋光液并在重力作用下導(dǎo)入所述過濾區(qū); 所述過濾區(qū)用于過濾所述拋光液; 所述注液器連接所述過濾區(qū),用于將在所述拋光單元進(jìn)行拋光時(shí)注入過濾后的所述拋光液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述研磨拋光裝置,其特征在于,所述驅(qū)動機(jī)械臂設(shè)置力控模塊或彈簧模塊,用于調(diào)節(jié)打磨或拋光的壓力。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述研磨拋光裝置,其特征在于,所述搭配打磨單元設(shè)置抗氧化劑和潤滑劑輔助輸出頭,用于在打磨時(shí)通過對柔性透氣背基磨料的擠壓力,將打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁屑擠壓在柔性透氣背基內(nèi),并采用循環(huán)過濾注液方式,循環(huán)使用抗氧化劑與潤滑劑并將鋁屑排出。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述研磨拋光裝置,其特征在于,所述柔性透氣背基磨料采用碳化硅、陶瓷和/或金剛砂作為磨粒。
【文檔編號】B24B37/00GK203738559SQ201320763213
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2013年11月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月28日
【發(fā)明者】潘剛 申請人:潘剛