用于燒成工藝的承載裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于燒成工藝的承載裝置，所述承載裝置為鎳鉻合金承燒匣缽。優(yōu)選地，所述承載裝置為Ni25Cr20合金承燒匣缽。本實用新型特別適于作為片式元件玻璃涂覆層燒結(jié)的承燒裝置，可以消除產(chǎn)品粘結(jié)承燒匣缽引起產(chǎn)品表面外觀缺陷和電性能欠佳的不良影響，保證產(chǎn)品優(yōu)良的外觀和電氣性能。
【專利說明】用于燒成工藝的承載裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實用新型涉及一種用于燒成工藝的承載裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]制作電子元件如壓敏電阻的燒成工藝中，用于承載元件玻璃涂覆層進行燒結(jié)的承燒匣缽存在如下問題:
[0003]1、高溫下玻璃料與承載匣缽相互浸潤，導(dǎo)致產(chǎn)品與承載匣缽粘結(jié)在一起，溫度降低后產(chǎn)品無法從匣缽上正常分離。
[0004]2、長時間使用承載匣缽燒結(jié)產(chǎn)品后，玻璃層會在承載匣缽表面進一步沉積，加劇了第I點中所述的不良現(xiàn)象。
[0005]3、傳統(tǒng)的承燒匣缽長時間反復(fù)使用后，匣缽自身易開裂、形變，承載匣缽自身的使用壽命極短。
實用新型內(nèi)容
[0006]本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種用于燒成工藝的承載裝置，保證被燒結(jié)的產(chǎn)品具有優(yōu)良的外觀和電氣性能。
[0007]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用以下技術(shù)方案:
[0008]一種用于燒成工藝的承載裝置，所述承載裝置為鎳鉻合金承燒匣缽。
[0009]優(yōu)選地，所述承載裝置為Ni25Cr2tl合金承燒匣缽。
[0010]優(yōu)選地，所述承燒匣缽為中空的長方體形。
[0011]優(yōu)選地,所述承燒匣缽的尺寸為:
[0012]長:98mm?102mm ;
[0013]寬:98mm?102mm ;
[0014]高:9mm ?Ilmm ；
[0015]壁厚:3mm?5mm。
[0016]本實用新型的有益技術(shù)效果:
[0017]本實用新型中的承燒匣缽為采用已知的鎳鉻合金制成的承燒匣缽，尤其是采用Ni25Cr20合金制成的承燒匣缽，高溫下鎳鉻合金與玻璃層不浸潤，且表面抗氧化性優(yōu)良，高溫下強度高，導(dǎo)熱系數(shù)高，傳熱快。利用這些優(yōu)點，在燒結(jié)涂覆玻璃層時，可以有效的避免玻璃層在高溫下與承載物粘結(jié)在一起，避免因承載物氧化、變形等引起元件涂覆層玻璃燒結(jié)時的表面缺陷。本實用新型特別適于作為片式元件玻璃涂覆層燒結(jié)的承燒裝置，可以消除產(chǎn)品粘結(jié)承燒匣缽引起產(chǎn)品表面外觀缺陷和電性能欠佳的不良影響，保證產(chǎn)品優(yōu)良的外觀和電氣性能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型承載裝置一種實施例的立體示意圖；[0019]圖2為本實用新型承載裝置一種實施例的俯視示意圖。
【具體實施方式】
[0020]以下結(jié)合附圖對本實用新型的實施例作詳細(xì)說明。應(yīng)該強調(diào)的是，下述說明僅僅是示例性的，而不是為了限制本實用新型的范圍及其應(yīng)用。
[0021]參閱圖1和圖2，在一些實施例里，一種用于燒成工藝的承載裝置為鎳鉻合金承燒匣缽。在一種優(yōu)選的實施例里，鎳鉻合金承燒匣缽為Ni25Cr2tl合金承燒匣缽。Ni25Cr2tl合金為已知的鎳鉻合金材料。
[0022]在較佳的實施例里，所述Ni25Cr2tl合金承燒匣缽為中空的長方體形。
[0023]在一種具體實施例里，所述Ni25Cr2tl合金承燒匣缽的尺寸為:
[0024]長a:98mm ?102mm ;
[0025]寬b:98mm ?102mm ;
[0026]高 c:9mm ?Ilmm ；
[0027]壁厚d:3mm ?5mm。
[0028]以下以該承載裝置應(yīng)用于壓敏電阻玻璃涂覆層燒結(jié)為例，將應(yīng)用例與采用現(xiàn)有承載裝置的對比例進行比較，闡述將本實用新型的承載裝置用于燒成工藝中的優(yōu)點。
[0029]應(yīng)用例I
[0030]步驟一:準(zhǔn)備Ni25Cr2tl合金承燒匣缽
[0031]Ni25Cr2tl合金承燒匣缽尺寸如下:
[0032]長:98mm?102mm ;
[0033]寬:98mm?102mm ;
[0034]高:9mm ?Ilmm ;
[0035]壁厚:3mm?5mm。
[0036]步驟二:準(zhǔn)備噴涂好玻璃涂覆層待燒的產(chǎn)品
[0037]使用如下成份的玻璃，按照一定比例配制成玻璃層涂覆漿料:
[0038]Si20:70.0% ?88.0% ;
[0039]Β203:9.0% ?15.0% ;
[0040]Α1203:1.6% ?4.8% ;
[0041]CaO: < 0.5% ；
[0042]Na20:4.5% ?7.9%。
[0043]將該涂覆漿料均勻的噴涂在產(chǎn)品表面，烘干后均勻的平鋪排置在Ni25Cr2tl合金承燒匣缽中。
[0044]步驟三:玻璃層燒結(jié)
[0045]將承載有產(chǎn)品的匣缽放置于燒結(jié)爐中，最高燒結(jié)溫度控制在850± 10°C內(nèi)，保溫時間控制在1.5h?2h之內(nèi)。
[0046]本例制作的壓敏電阻片性能(壓敏電壓VlmA、漏電流IL、非線性系數(shù)α、電容量Cp、損耗D、限制電壓與壓敏電壓之比Vc/VlmA、ESD性能)、產(chǎn)品外觀、匣缽?fù)庥^，其結(jié)果見表
1
[0047]應(yīng)用例2[0048]步驟一:準(zhǔn)備Ni25Cr2tl合金承燒匣缽
[0049]Ni25Cr20合金承燒匣缽尺寸如下:
[0050]長:98mm?102mm ;
[0051]寬:98mm?102mm ;
[0052]高:9mm ?Ilmm ;
[0053]壁厚:3mm?5mm。
[0054]步驟二:準(zhǔn)備噴涂好玻璃涂覆層待燒的產(chǎn)品
[0055]使用如下成份的玻璃，按照一定比例配制成玻璃層涂覆漿料:
[0056]Si20:70.0% ?88.0% ;
[0057]Β203:9.0% ?15.0% ;
[0058]Α1203:1.6% ?4.8% ;
[0059]CaO: < 0.5% ；
[0060]Na20:4.5% ?7.9%。
[0061]將該涂覆漿料均勻的噴涂在產(chǎn)品表面，烘干后均勻的平鋪排置在Ni25Cr2tl合金承燒匣缽中。
[0062]步驟三:玻璃層燒結(jié)
[0063]將承載有產(chǎn)品的匣缽放置于燒結(jié)爐中，最高燒結(jié)溫度控制在900± 10°C內(nèi)，保溫時間控制在1.5h?2h之內(nèi)。
[0064]本例制作的壓敏電阻片性能(壓敏電壓VlmA、漏電流IL、非線性系數(shù)α、電容量Cp、損耗D、限制電壓與壓敏電壓之比Vc/VlmA、ESD性能)、產(chǎn)品外觀、匣缽?fù)庥^，其結(jié)果見表
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[0065]應(yīng)用例3
[0066]步驟一:準(zhǔn)備Ni25Cr2tl合金承燒匣缽
[0067]Ni25Cr20合金承燒匣缽尺寸如下:
[0068]長:98mm?102mm ;
[0069]寬:98mm?102mm ;
[0070]高:9mm ?Ilmm ；
[0071]壁厚:3mm?5mm。
[0072]步驟二:準(zhǔn)備噴涂好玻璃涂覆層待燒的產(chǎn)品
[0073]使用如下成份的玻璃，按照一定比例配制成玻璃層涂覆漿料:
[0074]Si20:70.0% ?88.0% ;
[0075]Β203:9.0% ?15.0% ;
[0076]Α1203:1.6% ?4.8% ;
[0077]CaO: < 0.5% ；
[0078]Na20:4.5% ?7.9%。
[0079]將該涂覆漿料均勻的噴涂在產(chǎn)品表面，烘干后均勻的平鋪排置在Ni25Cr2tl合金承燒匣缽中。
[0080]步驟三:玻璃層燒結(jié)
[0081 ]將承載有產(chǎn)品的匣缽放置于燒結(jié)爐中，最高燒結(jié)溫度控制在950 ± 10°C內(nèi)，保溫時間控制在1.5h?2h之內(nèi)。
[0082]本例制作的壓敏電阻片性能(壓敏電壓VlmA、漏電流IL、非線性系數(shù)α、電容量Cp、損耗D、限制電壓與壓敏電壓之比Vc/VlmA、ESD性能)、產(chǎn)品外觀、匣缽?fù)庥^，其結(jié)果見表
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[0083]對比例I
[0084]本對比例使用傳統(tǒng)的氧化鋁承燒匣缽，步驟包含如下:
[0085]步驟一:匣缽準(zhǔn)備
[0086]氧化鋁匣缽的長寬高尺寸為:IOOmmX IOOmmX 12mm。
[0087]步驟二:準(zhǔn)備噴涂好玻璃涂覆層待燒的產(chǎn)品
[0088]使用如下成份的玻璃，按照一定比例配制成玻璃層涂覆漿料:
[0089]Si20:70.0% ?88.0% ;
[0090]Β203:9.0% ?15.0% ;
[0091]Α1203:1.6% ?4.8% ;
[0092]CaO: < 0.5% ；
[0093]Na20:4.5% ?7.9%。
[0094]將該涂覆漿料均勻的噴涂在產(chǎn)品表面，烘干后均勻的平鋪排置在氧化鋁承燒匣缽中。
[0095]步驟三:玻璃層燒結(jié)
[0096]將承載有產(chǎn)品的匣缽放置于燒結(jié)爐中，最高燒結(jié)溫度控制在900± 10°C內(nèi)，保溫時間控制在1.5h?2h之內(nèi)。
[0097]本比較例制作的壓敏電阻片性能(壓敏電壓VlmA、漏電流IL、非線性系數(shù)α、電容量Cp、損耗D、限制電壓與壓敏電壓之比Vc/VlmA、ESD性能)、產(chǎn)品外觀、匣缽?fù)庥^，其結(jié)果見表I。
[0098]對比例2
[0099]本對比例使用傳統(tǒng)的莫來石承燒匣缽，步驟包含如下:
[0100]步驟一:匣缽準(zhǔn)備
[0101]莫來石匣缽，匣缽的長寬高尺寸為:IOOmmX IOOmmX 12mm。
[0102]步驟二:準(zhǔn)備噴涂好玻璃涂覆層待燒的產(chǎn)品。
[0103]使用如下成份的玻璃，按照一定比例配制成玻璃層涂覆漿料:
[0104]Si20:70.0% ?88.0% ;
[0105]Β203:9.0% ?15.0% ;
[0106]Al203:1.6% ?4.8% ;
[0107]CaO: < 0.5% ；
[0108]Na20:4.5% ?7.9%。
[0109]將該涂覆漿料均勻的噴涂在產(chǎn)品表面，烘干后均勻的平鋪排置在氧化鋯承燒匣缽中。
[0110]步驟三，玻璃層燒結(jié)
[0111]將承載有產(chǎn)品的匣缽放置于燒結(jié)爐中，最高燒結(jié)溫度控制在900± 10°C內(nèi)，保溫時間控制在1.5h?2h之內(nèi)。[0112]本比較例制作的壓敏電阻片性能(壓敏電壓VlmA、漏電流IL、非線性系數(shù)α、電容量Cp、損耗D、限制電壓與壓敏電壓之比Vc/VlmA、ESD性能)、產(chǎn)品外觀、匣缽?fù)庥^，其結(jié)果見表1.[0113]表1
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【權(quán)利要求】
1.一種用于燒成工藝的承載裝置，用于承載元件玻璃涂覆層進行燒結(jié)，其特征在于，所述承載裝置為鎳鉻合金承燒匣缽。
2.如權(quán)利要求1所述的承載裝置，其特征在于，，其特征在于，所述承載裝置為Ni25Cr2ci合金承燒匣缽。
3.如權(quán)利要求1或2所述的承載裝置，其特征在于，所述承燒匣缽為中空的長方體形。
4.如權(quán)利要求3所述的承載裝置，其特征在于，所述承燒匣缽的尺寸為: 長:98mm ?102mm ； 寬:98mm ?102mm ； 高:9mm ?Ilmm ； 壁厚:3mm?5mmο
【文檔編號】C22C38/40GK203810934SQ201320780224
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2013年11月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月29日
【發(fā)明者】姚斌, 王清華, 賈廣平 申請人:深圳順絡(luò)電子股份有限公司