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      浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置制造方法

      文檔序號(hào):3306441閱讀:568來(lái)源:國(guó)知局
      浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置制造方法
      【專利摘要】本實(shí)用新型屬于一種浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置,其特征在于陽(yáng)極(2)與懸浮外筒(3)之間設(shè)有間隙(6),陽(yáng)極(2)為圓筒形,陽(yáng)極(2)的左側(cè)中心處設(shè)有接頭(12),接頭(12)中心設(shè)有氬氣充氣孔(10),并裝有墊圈(8),用螺母(9)與接頭(12)螺紋連接;接頭(12)上裝有絕緣套(11);懸浮外筒(3)的左側(cè)裝有懸浮蓋板(1);懸浮外筒(3)的外面裝有絕緣筒(5);陽(yáng)極(2)內(nèi)設(shè)有放電的輝光腔(7)。該實(shí)用新型通過陽(yáng)極內(nèi)的輝光放電,電離氬氣形成陽(yáng)極輝光。陽(yáng)極形成電子通道,使電子束流清洗工件,同時(shí)電離的氣體離子奔向工件(陰極)對(duì)工件進(jìn)行離子清洗,傳遞動(dòng)能輔助成膜,提高膜層質(zhì)量。
      【專利說明】浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型屬于真空離子鍍膜設(shè)備,特別涉及一種浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置?!颈尘凹夹g(shù)】
      [0002]目前在真空離子鍍膜中,薄膜沉積中的離子清洗效果不好,在薄膜成膜中僅依靠偏壓電源改變成膜,其動(dòng)力特性不足,鍍膜質(zhì)量不理想。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本發(fā)明的目的在于克服上述技術(shù)不足,提供一種簡(jiǎn)易等離子體源使氬氣體在電子轟擊下產(chǎn)生陽(yáng)極輝光,利用其清洗工件,并通入反應(yīng)氣體,離化后參與反應(yīng)鍍膜;陽(yáng)極電位避免自身濺射的污染,增加電子通道,使鍍膜制程中陰極源工作更穩(wěn)定的浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置。
      [0004]本實(shí)用新型解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置,其特征在于陽(yáng)極與懸浮外筒之間設(shè)有間隙,陽(yáng)極為圓筒形,陽(yáng)極的左側(cè)中心處設(shè)有接頭,接頭中心設(shè)有氬氣充氣孔,并裝有墊圈,用螺母與接頭螺紋連接;接頭上裝有絕緣套;懸浮外筒的左側(cè)裝有懸浮蓋板;懸浮外筒的外面裝有絕緣筒;陽(yáng)極內(nèi)設(shè)有放電的輝光腔。
      [0005]本實(shí)用新型的有益效果是:該實(shí)用新型通過陽(yáng)極內(nèi)的輝光放電,電離氬氣形成陽(yáng)極輝光。陽(yáng)極形成電子通道,使電子束流清洗工件,同時(shí)電離的氣體離子奔向工件(陰極)對(duì)工件進(jìn)行離子清洗,傳遞動(dòng)能輔助成膜,提高膜層質(zhì)量。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0006]以下結(jié)合附圖以實(shí)施例具體說明。
      [0007]圖1是浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置。
      [0008]圖中:1_懸浮蓋板;2-陽(yáng)極;3_懸浮外筒;4_真空鍍膜設(shè)備殼體;5_絕緣筒;6-間隙;7_輝光腔;8-墊圈;9-螺母;10_氬氣充氣孔;11_絕緣套;12_接頭。
      【具體實(shí)施方式】
      [0009]實(shí)施例,參照附圖,一種浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置,其特征在于陽(yáng)極2與懸浮外筒3之間設(shè)有間隙6,陽(yáng)極2為圓筒形,陽(yáng)極2的左側(cè)中心處設(shè)有接頭12,接頭12中心設(shè)有氬氣充氣孔10,并裝有墊圈8,用螺母9與接頭12螺紋連接;接頭12上裝有絕緣套11 ;懸浮外筒3的左側(cè)裝有懸浮蓋板I ;懸浮外筒3的外面裝有絕緣筒5 ;陽(yáng)極2內(nèi)設(shè)有放電的輝光腔7。絕緣筒5裝在真空鍍膜設(shè)備殼體4上,其工作原理,陽(yáng)極2收集電子;離子奔向工件,沉積成膜。大面積的陽(yáng)極2構(gòu)成均勻的電子通道,使真空室內(nèi)電子密度呈不均勻分布。陽(yáng)極2制成如附圖1所示圓筒狀或制成條狀,其上施以比真空室殼體更高的電位,由于電位差必使電子呈條束狀優(yōu)先奔向該裝置。此束狀電子密度比周邊高,形成電子束流,有很好的清洗工件效果。通過氬氣充氣孔10向陽(yáng)極2通入氬氣,氣體會(huì)被電子電離并發(fā)出輝光,充實(shí)在輝光腔7中。輝光中電子電離氬氣產(chǎn)生更多的二次電子,維持或增強(qiáng)放電過程。電離產(chǎn)生的離子奔向負(fù)電位的工件實(shí)現(xiàn)離子清洗,并傳遞動(dòng)能輔助成膜,改善膜層質(zhì)量。
      【權(quán)利要求】
      1.一種浮動(dòng)電位陽(yáng)極輝光發(fā)射裝置,其特征在于陽(yáng)極(2)與懸浮外筒(3)之間設(shè)有間隙(6 ),陽(yáng)極(2 )為圓筒形,陽(yáng)極(2 )的左側(cè)中心處設(shè)有接頭(12 ),接頭(12 )中心設(shè)有氬氣充氣孔(10),并裝有墊圈(8),用螺母(9)與接頭(12)螺紋連接;接頭(12)上裝有絕緣套(11);懸浮外筒(3)的左側(cè)裝有懸浮蓋板(I);懸浮外筒(3)的外面裝有絕緣筒(5);陽(yáng)極(2)內(nèi)設(shè)有放電的輝光腔(7)。
      【文檔編號(hào)】C23C16/513GK203613262SQ201320807894
      【公開日】2014年5月28日 申請(qǐng)日期:2013年12月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月11日
      【發(fā)明者】陳大民 申請(qǐng)人:陳大民
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