研磨墊及研磨裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及研磨墊，其具有：在研磨面上以規(guī)定的間隔平行地設(shè)置的多個第一槽；設(shè)置在所述研磨面上且與所述第一槽交叉的多個第二槽；及設(shè)置在所述第一槽及所述第二槽的底面上的由研磨液供給孔及研磨液吸引孔構(gòu)成的多個孔。
【專利說明】研磨墊及研磨裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及研磨墊及使用了研磨墊的研磨裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示器等所使用的FPD (Flat Panel Display :平板顯示器）用的玻璃板通過 被稱為浮法的玻璃制法將熔融玻璃成形為板狀，并將其通過專利文獻1等公開的連續(xù)式的 研磨裝置，研磨除去表面的微小的凹凸、彎曲，由此制造成滿足作為Fro用的玻璃板所要求 的平坦度的薄板。
[0003] 專利文獻1的研磨裝置使用由分散劑使研磨材料分散而成的料漿，利用研磨墊對 玻璃板的表面（以下，稱為被研磨面）進行研磨。料漿從設(shè)置在研磨墊的中央部的料漿供 給孔向研磨墊的研磨面與玻璃板的被研磨面之間供給，但是當料漿的供給量在研磨面上變 得不均勻時，研磨出的玻璃板的被研磨面的平坦度惡化。因此，在研磨裝置中，需要使料漿 均勻地遍及研磨墊的研磨面整個區(qū)域。
[0004] 本 申請人:在專利文獻2中提出了如下的研磨墊，為了使料漿均勻地遍及研磨墊的 研磨面整個區(qū)域，而在研磨面的中央部具備料漿供給孔，通過從中心朝向外側(cè)形成的多個 槽將研磨面分割成放射狀。
[0005] 另外，專利文獻3記載的研磨裝置的研磨墊在其研磨面上大致等間隔地具備多個 槽，由此在研磨加工時促進研磨劑的擴散。而且，專利文獻3的研磨墊在其研磨面的大致整 個區(qū)域具備多個交替排列的研磨劑供給孔和研磨劑排出孔。
[0006] 【在先技術(shù)文獻】
[0007] 【專利文獻】
[0008] 【專利文獻1】日本國特開2004-122351號公報 [0009]【專利文獻2】日本國特開2011-235425號公報 [0010]【專利文獻3】日本國特開2009-125873號公報


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 【發(fā)明要解決的課題】
[0012] 然而，即便是專利文獻2、3的研磨墊，也存在對于一邊的長度超過2000mm的大型 的玻璃板無法進行高品質(zhì)且高生產(chǎn)性的研磨加工這樣的問題。
[0013] 即，專利文獻2的研磨墊從在研磨墊的研磨面的中央部等具備的料漿供給孔供給 料漿，并經(jīng)由放射狀的槽使料漿遍及研磨面整個區(qū)域，但是當為了對前述的大型的玻璃板 進行研磨而使該研磨墊大型化時，難以使料漿遍及研磨面整個區(qū)域。
[0014] 另外，專利文獻3的研磨墊從在研磨面具備的多個研磨劑供給孔供給研磨劑，經(jīng) 由在研磨面上等間隔地具備的槽而使研磨劑遍及研磨面整個區(qū)域，但是當為了對前述的大 型的玻璃板進行研磨而使該研磨墊大型化時，難以使研磨劑遍及研磨面整個區(qū)域。
[0015] 因此，在專利文獻2、3的研磨墊中，當增加來自料漿（研磨劑）供給孔的料漿（研 磨劑）供給量而嘗試要消除上述問題時，專利文獻2、3的研磨墊是基本上難以使料漿遍及 研磨面整個區(qū)域的構(gòu)成，因此從料漿供給孔供給的料漿量增多為從研磨面的槽向外部排出 的料漿量以上。這種情況下，料漿滯留在研磨墊與玻璃板之間而產(chǎn)生背壓。其結(jié)果是，玻璃 板從研磨墊分離，該分離部分難以由研磨墊研磨，因此產(chǎn)生玻璃板的研磨品質(zhì)、生產(chǎn)性下降 這樣的問題。需要說明的是，背壓能夠由設(shè)置在將料漿供給孔和料漿供給源連接的管路上 的壓力計測定。
[0016] 另外，因所述背壓也會產(chǎn)生以下的問題。
[0017] 即，研磨墊被定期地壓緊于整形修整砂輪而進行整形修整。這種情況下，一邊從研 磨墊的料漿供給孔將整形修整用液體向研磨墊的研磨面與整形修整砂輪的研磨面之間供 給，一邊進行整形修整，但是在該整形修整作業(yè)時，由于整形修整用液體產(chǎn)生的背壓作用于 研磨墊，因此存在該背壓產(chǎn)生部位的研磨面未被整形修整這樣的問題。在未進行整形修整 的研磨面上，附著有作為料漿中的成分的氧化鈰等研磨材料，若在此狀態(tài)下研磨玻璃板，則 所述研磨材料附著于玻璃板而成為使玻璃板的品質(zhì)下降的原因。而且，未進行整形修整的 研磨面的研磨能力較低，因此成為研磨時間變長而使玻璃板的生產(chǎn)性下降的原因。此外，由 于在整形修整時研磨墊的研磨面未被均勻地研磨，因此研磨墊的壽命也變短。
[0018] 本發(fā)明鑒于這樣的情況而作出，其目的在于提供一種尤其是對一邊的長度超過 2000mm的大型的板狀體進行研磨時，不減少研磨液的供給量，減少背壓并使研磨液遍及研 磨墊的研磨面的整個區(qū)域，由此能夠提高研磨品質(zhì)并縮短研磨時間而提高生產(chǎn)性的研磨墊 及研磨裝置。
[0019] 【用于解決課題的方案】
[0020] 為了實現(xiàn)所述目的，本發(fā)明的研磨墊具有：在研磨面上以規(guī)定的間隔平行地設(shè)置 的多個第一槽；設(shè)置在所述研磨面上且與所述第一槽交叉的多個第二槽；及設(shè)置在所述第 一槽及所述第二槽的底面上的由研磨液供給孔及研磨液吸引孔構(gòu)成的多個孔。
[0021] 根據(jù)本發(fā)明，在研磨墊的研磨面除了具備第一槽之外，還具備與第一槽交叉的第 二槽，因此從研磨液供給孔向研磨面供給的研磨液通過第一槽及第二槽而在研磨面上高效 率地擴散。由此，在板狀體與研磨墊之間產(chǎn)生的背壓下降，因此板狀體的研磨品質(zhì)提高，而 且，能夠增加研磨液的供給量，從而能夠縮短研磨時間并提高生產(chǎn)性。
[0022] 本發(fā)明的第二槽將所述孔與所述孔連通。即，所述孔是研磨液供給孔及研磨液吸 引孔，因此第二槽可以將研磨液供給孔彼此連通，而且，也可以將研磨液供給孔與研磨液吸 引孔連通，此外還可以將研磨液吸引孔彼此連通。從研磨液供給孔供給的研磨液通過第一 槽及第二槽，由此向研磨墊的研磨面整個區(qū)域擴散。而且，第二槽相對于僅具備第一槽的研 磨墊，僅設(shè)置在該研磨面中的發(fā)生背壓升高的部位即可。此外，第二槽相對于第一槽的交叉 方式可以是正交方向，也可以是該方向以外的方向。而且，第二槽可以為直線狀，也可以為 曲線狀。
[0023] 優(yōu)選的是，本發(fā)明的所述多個第一槽貫通到與所述研磨面相接的外周面，所述多 個第二槽中，該多個第二槽中的一部分的槽相對于所述外周面貫通，或者該多個第二槽的 全部的槽相對于所述外周面非貫通。
[0024] 在研磨墊的研磨面具備多個槽的情況在研磨液的擴散、排出的觀點上優(yōu)選。然而， 隨著槽的個數(shù)增加而板狀體的被研磨面上產(chǎn)生因槽的邊緣引起的"條紋"，有時會使板狀體 的研磨品質(zhì)惡化。由此，新具備的第二槽并不是隨便地具備多個，而是只要在用于減少背壓 的必要部位上具備必要長度即可。即，將多個第二槽的一部分相對于所述外周面貫通，或者 將該多個第二槽的全部的槽相對于所述外周面非貫通，由此能夠使第二槽的長度比第一槽 縮短，能夠抑制"條紋"的產(chǎn)生。而且，即使縮短第二槽的長度，流入到第二槽的研磨液也經(jīng) 由與第一槽交叉的交叉部而向第一槽流入，并從研磨面的外周面排出，因此研磨液不會滯 留在板狀體與研磨墊之間，不會產(chǎn)生背壓。如此能夠抑制背壓的本發(fā)明的研磨墊在整形修 整時也利用整形修整砂輪平坦地研磨，因此板狀體的研磨品質(zhì)提高，而且，研磨時間也能夠 大幅縮短，因此板狀體的生產(chǎn)性也提高。而且，還具有研磨墊的壽命也延長的優(yōu)點。
[0025] 優(yōu)選的是，本發(fā)明的所述研磨液供給孔配置在所述研磨面的整個區(qū)域，并且設(shè)定 為所述研磨面的中央部的配置密度高于所述中央部以外的配置密度，所述第二槽配置在所 述研磨面的整個區(qū)域，并且設(shè)定為所述研磨面的中央部的配置密度高于除了所述中央部以 外的部分的配置密度。
[0026] 根據(jù)本發(fā)明，為了使研磨液遍及研磨墊的研磨面的整個區(qū)域，而優(yōu)選在研磨面的 中央部具備多個研磨液供給孔，并且，為了抑制在中央部產(chǎn)生的背壓，在研磨面的中央部具 備多個第二槽。由此，研磨液容易遍及研磨面整個區(qū)域，而且，也能夠可靠地抑制在中央部 產(chǎn)生的背壓。
[0027] 優(yōu)選的是，本發(fā)明的所述第二槽設(shè)置成以所述研磨面的中心點為中心而成為點對 稱。
[0028] 根據(jù)本發(fā)明，通過使第二槽設(shè)置成以研磨面的中心點為中心而成為點對稱，而板 狀體的被研磨面的平坦度進一步提高。
[0029] 本發(fā)明優(yōu)選的是，為了對一邊的長度超過2000mm的矩形形狀的板狀體的被研磨 面進行研磨，使所述研磨面的表面積大于所述被研磨面的表面積。
[0030] 通過本發(fā)明的研磨墊研磨的板狀體的一邊的長度如前述那樣優(yōu)選超過2000mm，但 是在一邊的長度超過2500mm的情況，尤其是在一邊的長度超過2800mm的板狀體的研磨中 特別有效。而且，研磨墊可以是圓形，也可以是矩形。
[0031] 另外，本發(fā)明為了實現(xiàn)所述目的，提供一種通過本發(fā)明的研磨墊對板狀體的被研 磨面進行研磨的研磨裝置。
[0032] 本發(fā)明的研磨裝置可以是以公轉(zhuǎn)軸為中心而使板狀體側(cè)公轉(zhuǎn)并使研磨墊側(cè)回旋 的方式的研磨裝置，也可以是使板狀體側(cè)自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)的方式的研磨裝置。需要說明的是，通 過使板狀體側(cè)公轉(zhuǎn)，能夠得到用于將板狀體的表面的微小凹凸除去的力。
[0033] 【發(fā)明效果】
[0034] 根據(jù)本發(fā)明的研磨墊及研磨裝置，即使在對大型的板狀體進行研磨的情況下，也 不會減少研磨液的供給量，能夠減少背壓并使研磨液遍及研磨墊的研磨面的整個區(qū)域，因 此研磨品質(zhì)及生產(chǎn)性提高。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0035] 圖1是表示實施方式的研磨裝置的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0036] 圖2是托架及膜框的組裝立體圖。
[0037] 圖3是表示研磨頭及研磨臺的實施方式的側(cè)視圖。
[0038] 圖4是表示研磨平臺的結(jié)構(gòu)的包含局部剖切部的立體圖。
[0039] 圖5是表示膜框?qū)τ谕屑艿陌惭b結(jié)構(gòu)的主要部分放大剖視圖。
[0040] 圖6(a)是表示使膜體膨脹而從膜框?qū)⒉ＡО宀鹦兜某跏紶顟B(tài)的圖。
[0041] 圖6 (b)是從壓縮空氣噴射噴嘴將壓縮空氣向玻璃板的緣部與膜體的分界部噴射 的圖。
[0042] 圖6 (c)是從膜體將玻璃板剝離的說明圖。
[0043] 圖6(d)是將玻璃板從膜體完全拆卸而載置在工作臺上的說明圖。
[0044] 圖6(e)是通過拆卸裝置從托架將膜框拆卸而將膜框載置于千斤頂?shù)恼f明圖。
[0045] 圖7是表示搬運裝置的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0046] 圖8是表示搬運裝置的結(jié)構(gòu)的主要部分放大立體圖。
[0047] 圖9是表示搬運裝置的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0048] 圖10是表示以公轉(zhuǎn)中心為中心進行公轉(zhuǎn)的膜框的移動軌跡的說明圖。
[0049] 圖11是研磨墊的研磨面的俯視圖。
[0050] 圖12是研磨墊的研磨面的主要部分放大立體圖。

【具體實施方式】
[0051] 以下，按照附圖，說明本發(fā)明的研磨墊及研磨裝置的優(yōu)選的實施方式。
[0052] 圖1是表示實施方式的研磨裝置10的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2是托架52及膜框 14的組裝立體圖。圖3是表示研磨頭50及研磨臺的實施方式的側(cè)視圖。
[0053] 研磨裝置10是將例如一邊的長度超過2000mm且厚度為0. 2mm?0. 7mm的矩形的 大型的玻璃板G的被研磨面研磨成液晶顯示器用玻璃板所需的平坦度的研磨裝置。
[0054] 如圖1那樣，研磨裝置10主要具備將研磨前的玻璃板G搬入的玻璃板搬入用輸送 設(shè)備12、將玻璃板G粘貼于膜框14的玻璃板粘貼臺16、第一研磨臺18、第二研磨臺20、將 研磨完成后的玻璃板G從膜框14拆卸的玻璃板拆卸臺22、玻璃板搬出用輸送設(shè)備24、膜框 清洗臺26、膜框干燥臺28、及膜框送回輸送設(shè)備30。
[0055] 以下，為了簡化說明，對于玻璃板粘貼臺16、第一研磨臺18、第二研磨臺20、玻璃 板拆卸臺22、膜框清洗臺26及膜框干燥臺28,僅記載為臺16、18、20、22、26、28。
[0056] 在研磨裝置10設(shè)有從臺16向臺18搬運膜框14的搬運裝置150、從臺18向臺20 搬運膜框14的搬運裝置152、及從臺20向臺22搬運膜框14的搬運裝置154。上述的搬運 裝置150、152、154為同一結(jié)構(gòu)且由統(tǒng)一控制研磨裝置10的控制部200來控制其動作，在圖 1上沿左右方向同步地往復移動。
[0057] 由玻璃板搬入用輸送設(shè)備12搬入的研磨前的玻璃板G被設(shè)置在機器人32的臂33 上的吸附墊34吸附保持。并且，通過臂33的旋轉(zhuǎn)動作而從玻璃板搬入用輸送設(shè)備12向輸 送設(shè)備36移載，由輸送設(shè)備36向臺16搬運。
[0058] 在臺16中，研磨前的玻璃板G粘貼于膜框14。對該粘貼方法進行說明時，膜框14 在臺16中，由未圖示的升降裝置保持，在玻璃板G位于膜框14的下方時，通過升降裝置使 膜框14下降移動，將在圖2所示的膜框14上張設(shè)的具有撓性及自吸附性的膜體38向玻璃 板G的非研磨面（玻璃板G的與被研磨面相對的相對面）壓緊。通過該按壓力而將玻璃板 G的非研磨面粘貼于膜體38。然后，將膜框14保持于圖1的搬運裝置150,向圖3的臺18 搬運，在此安裝于研磨頭50的托架（板狀體保持部）52。需要說明的是，以下敘述的膜框 14是指張設(shè)有膜體38的整體。而且，關(guān)于搬運裝置150在后文敘述。
[0059] 如圖2所示，膜框14將能夠粘貼玻璃板G的矩形形狀的膜體38張設(shè)在同樣的矩 形形狀的上框40與下框42之間后，通過未圖示的螺栓將上框40和下框42緊固而構(gòu)成。
[0060] 接下來，對圖3所示的研磨頭50進行說明。需要說明的是，臺18的研磨頭50及 臺20的研磨頭50成為同一結(jié)構(gòu)，因此標注同一標號進行說明。
[0061] 研磨頭50具備主體殼體51，在主體殼體51內(nèi)置有未圖不的公轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)部。該 公轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)部由行星齒輪機構(gòu)部和馬達構(gòu)成，由該馬達驅(qū)動的行星齒輪機構(gòu)部的輸出軸 與沿鉛垂方向垂下的主軸56連結(jié)。而且，在該主軸56上連結(jié)托架52。因此，當驅(qū)動所述行 星齒輪機構(gòu)部時，托架52及膜框14以規(guī)定的公轉(zhuǎn)中心P為中心進行公轉(zhuǎn)（參照圖10)。
[0062] 而且，圖3所示的主體殼體51經(jīng)由滑動件158而與升降機構(gòu)156連結(jié)。通過該升 降機構(gòu)156使主體殼體51相對于滑動件158升降，由此托架52相對于臺18的圓形的研磨 墊58及臺20的圓形的研磨墊60進退移動，并且粘貼在膜框14上的玻璃板G的被研磨面 以規(guī)定的研磨壓力被按壓于研磨墊58、60的研磨面。
[0063] 需要說明的是，也可以從研磨裝置10將滑動件158拆卸，將主體殼體51與升降機 構(gòu)156直接連結(jié)。
[0064] 圖4是表示研磨平臺62的結(jié)構(gòu)的包含一部分剖切部的立體圖。
[0065] 圖4所示的研磨墊58粘貼在研磨平臺62的上表面。該研磨平臺62經(jīng)由軸承65 而旋轉(zhuǎn)自如地支承于研磨工作臺64,該研磨平臺62的旋轉(zhuǎn)中心設(shè)定在與研磨墊58的中心 軸同軸上。而且，在研磨平臺62的側(cè)面設(shè)有齒輪部66,該齒輪部66與利用馬達68而旋轉(zhuǎn) 的齒輪67嚙合。此外，齒輪部66構(gòu)成為以研磨墊58的中心軸為中心的圓弧狀。因此，通 過使馬達68正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，而研磨墊58以其中心軸為中心沿順時針方向及逆時針方向回旋。
[0066] 另外，研磨工作臺64由平行配置的一對導軌69、69支承為滑動移動自如。通過具 備使研磨工作臺64沿導軌69、69往復動作的驅(qū)動部（未圖示），而研磨墊58在必要時沿箭 頭A所示的水平方向擺動。研磨墊58的擺動方向可以是與圖1的搬運裝置150的搬運方 向正交的方向，也可以是與該搬運方向平行的方向。即，只要是使研磨墊58沿水平方向擺 動的方向即可。
[0067] 需要說明的是，在圖4的研磨平臺62連結(jié)有多個管路（未圖示），所述多個管路用 于向沿上下（研磨墊58的厚度方向）貫通而設(shè)于研磨墊58的多個料漿供給孔（研磨液供 給孔）供給料漿（研磨液）。為了避免使上述的管路纏繞，研磨墊58以從規(guī)定的基準位置 在規(guī)定的角度范圍內(nèi)回旋的方式設(shè)定其回旋角度。所述料漿通過所述多個料漿供給孔而向 研磨墊58的研磨面176供給，經(jīng)由研磨面176具備的多個槽（第一槽、第二槽）而向研磨 面176的整個區(qū)域擴散。并且，料漿從在研磨面176上設(shè)置的多個料漿吸引孔（研磨液吸 引孔）及與研磨面176相接的外周面177向研磨墊58的外部排出。關(guān)于研磨墊58的所述 料漿供給孔、所述槽及所述料漿吸引孔在后文敘述。
[0068] 另外，研磨墊58的回旋角度的范圍、回旋速度等的回旋動作、每單位時間的公轉(zhuǎn) 轉(zhuǎn)速等的公轉(zhuǎn)動作、及圖4的箭頭A所示的擺動范圍、擺動速度由圖1的控制部200獨立控 制。
[0069] 需要說明的是，關(guān)于研磨墊60的各部結(jié)構(gòu)，與上述的研磨墊58的結(jié)構(gòu)相同，因此 這里省略其說明。
[0070] 另一方面，如圖3那樣，在臺18的滑動件158安裝有直動引導件70、70。直動引導 件70、70與導軌72、72嵌合。該導軌72、72朝向如圖1的虛線那樣對臺18的主軸56、托架 52進行維修的維修臺74設(shè)置。
[0071] 另外，如圖3那樣，在臺20的滑動件158上也同樣地安裝直動引導件70、70,直動 引導件70、70與導軌160U60嵌合。該導軌160U60朝向如圖1的虛線那樣對臺20的主 軸56、托架52進行維修的維修臺76設(shè)置。
[0072] 需要說明的是，也可以從研磨裝置10將滑動件158拆卸，將直動引導件70、70直 接安裝于升降機構(gòu)156。
[0073] 接下來，對圖2、圖5所示的托架52進行說明。圖5是表示膜框14相對于托架52 的安裝結(jié)構(gòu)的主要部分放大剖視圖。
[0074] 通過未圖示的螺栓在托架52的上部外周部固定有懸吊框架78。在懸吊框架78的 凸緣部以規(guī)定的等間隔開設(shè)有貫通孔80、80...，在滑動框架82 (slide-contact frame :滑 動-接觸框架）的上表面突出設(shè)置的滑動框架吊具84如圖5那樣從下方貫通這些貫通孔 80、80···。而且，滑動框架吊具84如圖5所示向配置在懸吊框架78與懸吊用蝶形彈簧86之 間的懸吊彈簧88貫通，并向懸吊用蝶形彈簧86的貫通孔90貫通，與螺旋千斤頂92連結(jié)。
[0075] 因此，使螺旋千斤頂92動作，使滑動框架吊具84克服懸吊彈簧88的作用力而向 上方提升，由此滑動框架82相對于托架52被提升。由此，拆裝自如地安裝于滑動框架82 的膜框14被提升，向膜體38施加規(guī)定的張力。
[0076] 在托架52上開設(shè)有向空氣室54噴出壓縮空氣的噴射口 98、98···。這些噴射口 98、 98…經(jīng)由在托架52的上表面設(shè)置的空氣室100而與圖3上的虛線及實線所示的空氣供給 通路102連通?？諝夤┙o通路102經(jīng)由安裝在研磨頭50上的未圖示的回旋接頭而向研磨 頭50的外部延伸設(shè)置，經(jīng)由閥104而與空氣泵106連接。因此，當打開閥104時，來自空氣 泵106的壓縮空氣經(jīng)由空氣供給通路102、圖5的空氣室100及噴射口 98向空氣室54供 給。由此，壓縮空氣的壓力經(jīng)由膜體38而向玻璃板G傳遞，通過該壓力將玻璃板G的被研 磨面壓緊于圖4的研磨墊58(60)的研磨面176而進行研磨。
[0077] 接下來，說明圖2、圖5所示的膜框14相對于滑動框架82的拆裝單元的結(jié)構(gòu)。
[0078] 在膜框14的上框40等間隔地突出設(shè)置有多個銷108、108···，在上述的銷108的上 端部設(shè)置的大徑的頭部110與在滑動框架82的下部固定的鉤112扣合，由此將膜框14安 裝于滑動框架82。頭部110與鉤112的扣合力通過由螺旋千斤頂92將膜體38提升時的膜 體38的反力而變得牢固，避免頭部110在研磨時從膜體38受到的研磨阻力的作用下從鉤 112脫落。
[0079] 玻璃板G的研磨如圖3那樣利用搬運裝置150,將粘貼有玻璃板G的膜框14從臺 16向臺18搬運，在臺18上對玻璃板G的被研磨面進行了研磨后,利用搬運裝置152將粘貼 有玻璃板G的膜框14從臺18向臺20依次搬運，在臺20中對玻璃板G的被研磨面進行研 磨，由此以2階段來實施。此外，在臺20上結(jié)束了玻璃板G的研磨后，在此將膜框14從托 架52拆卸而利用搬運裝置154向臺22搬運。需要說明的是，研磨臺根據(jù)用途的不同可以 為一個，也可以為兩個以上。當考慮效率、成本時，優(yōu)選具備粗研磨臺和精研磨臺這兩個臺， 但是根據(jù)情況也可以為了高品質(zhì)目的而追加精研磨臺。
[0080] 從托架52將膜框14拆卸的方法首先使圖5所示的螺旋千斤頂92向松緩的方向 動作，消除膜體38的張力。接下來，使膜框14相對于托架52滑動而從鉤112將頭部110 拆卸。由此，從托架52將膜框14拆卸。
[0081] 另一方面，在圖1所示的臺22中，從由搬運裝置154搬運來的膜框14將研磨結(jié)束 后的玻璃板G拆卸。拆卸后的玻璃板G由輸送設(shè)備138搬運，然后，由安裝在機器人140的 臂142上的吸附頭144吸附，利用機器人140的動作而向玻璃板搬出用輸送設(shè)備24移載， 向研磨裝置10的外部搬出。
[0082] 圖6 (a)?6 (d)示出在臺22上實施的將研磨完成后的玻璃板G從膜框14拆卸的 工序。需要說明的是，在圖6(a)?6(d)中，說明了從膜框14將玻璃板G拆卸之后將膜框 14從托架52拆卸的例子，但也可以如上述那樣在從托架52將膜框14拆卸之后從膜框14 將玻璃板G拆卸。
[0083] 如圖6(a)所示，當托架52位于在臺22上設(shè)置的工作臺204的上方時，經(jīng)由空氣 供給通路102向空氣室54供給空氣，使膜體38膨脹。該狀態(tài)是玻璃板G的拆卸的初始狀 態(tài)。當成為該狀態(tài)時，由于玻璃板G與膜體38相對地產(chǎn)生位置錯動的情況及欲使玻璃板G 返回成平坦的弾性力，而玻璃板G容易從膜體38拆卸。即，以往通過將玻璃板G強制地拆 卸而設(shè)備存在負擔的拆卸工序通過使膜體38膨脹而能夠容易地進行。
[0084] 為了縮短拆卸工序中的作業(yè)時間，可列舉其他的實施方式。如圖6(b)所示，在圖 6 (a)的工序之后，從與玻璃板G的緣部相對配置的多個壓縮空氣噴射噴嘴206、206將壓縮 空氣向玻璃板G的緣部與膜體38的分界部噴射。由此，如圖6(c)那樣，從膜體38將玻璃 板G剝離。膜體38的吸附力因壓縮空氣而下降，因此容易將玻璃板G從膜體38拆卸。需 要說明的是，也可以取代壓縮空氣而噴射水，而且，即使將水和壓縮空氣一起噴射也能夠得 到同樣的效果。需要說明的是，在圖6(c)中省略壓縮空氣噴射噴嘴206。
[0085] 圖6(d)示出將玻璃板G從膜體38完全拆卸而載置在工作臺204上的狀態(tài)。然后， 玻璃板G由圖1所不的輸送設(shè)備138搬運，并且，由機器人140向玻璃板搬出用輸送設(shè)備24 移載，向研磨裝置10的外部搬出。
[0086] 另一方面，如圖6(d)那樣，當將玻璃板G從膜體38完全拆卸時，接下來，如圖6(e) 那樣，利用拆卸裝置從托架52將膜框14拆卸，將膜框14載置在千斤頂208、208上。該膜 框14由圖1所示的輸送設(shè)備146向膜框清洗臺26搬運。
[0087] 被搬運到臺26上的膜框14在此進行水清洗。清洗結(jié)束后的膜框14由輸送設(shè)備 148向臺28搬運，在此被加熱而干燥。并且，干燥結(jié)束后的膜框14由膜框送回輸送設(shè)備30 向臺16搬運，再使用于玻璃板G的粘貼。
[0088] 接下來，參照圖7、圖8、圖9,說明搬運裝置150 (152、154)。圖7、8、9分別是表示 搬運裝置150(152、154)的結(jié)構(gòu)的立體圖、主要部分放大立體圖、俯視圖。
[0089] 搬運裝置150具備從下方對在膜框14的四角部設(shè)置的突起部43進行保持的4個 保持部162、162···。這些保持部162、162···配置于在臺16與臺18之間形成的膜框14的搬 運通路的兩側(cè)，并與機器人164的軸166連結(jié)。該軸166由機器人164沿鉛垂方向及水平 方向驅(qū)動，由此，將保持部162沿鉛垂方向及水平方向驅(qū)動。
[0090] 另外，如圖8那樣在機器人164的下部固定有引導塊168,該引導塊168與在膜框 14的搬運通路的兩側(cè)設(shè)置的導軌170U70嵌合。而且，引導塊168與沿著導軌170設(shè)置的 進給絲杠裝置的進給絲杠172螺合。由此，粘貼有玻璃板G的膜框14由搬運裝置150 (152、 154)的保持部162、162···保持而從臺16向臺18搬運。而且，利用保持部162、162···的下降 移動動作而能夠?qū)徇\到臺18上的膜框14向臺18的研磨墊58上載置，然后，利用保持部 162、162…的水平方向的轉(zhuǎn)動動作而能夠使保持部162、162···從膜框14退避移動。而且，從 膜框14進行了退避移動后的保持部162U62···在玻璃板G的研磨期間朝向臺16送回。在 此，載置于臺16的下一粘貼有玻璃板G的膜框14由保持部162、162···保持，待機至下一搬 運時。保持部162的在臺之間的移動、相對于膜框14的鉛垂方向及水平方向的動作由圖1 所示的控制部200控制。
[0091] 在實施方式中，導軌170設(shè)置在膜框14的搬運通路的兩側(cè)，但導軌170的根數(shù)并 未限定為一對（2根）。也可以僅設(shè)置在膜框14的搬運通路的一側(cè)。但是，在將導軌170設(shè) 置在搬運通路的兩側(cè)的情況下，能夠從與導軌170相對的兩側(cè)保持玻璃板G，因此能夠穩(wěn)定 地保持玻璃板G。
[0092] 圖10是表示以公轉(zhuǎn)中心P為中心進行公轉(zhuǎn)的膜框14及主軸56的移動軌跡的俯 視圖。如圖10那樣，膜框14與保護導軌170等的筒狀殼體174不發(fā)生碰撞地公轉(zhuǎn)。
[0093] 圖11是容易理解地示意性地表示研磨墊58(60)的研磨面176的結(jié)構(gòu)的研磨面 176的俯視圖。而且，圖12是將研磨面176的主要部分放大表示的立體圖。
[0094] 另外，圖11的箭頭A表示研磨墊58(60)的擺動方向（參照圖4)，箭頭B表示研磨 墊58(60)的回旋方向。此外，所述擺動方向設(shè)定為與下述的槽178正交的方向。
[0095] 此外，實施方式的研磨墊58 (60)的研磨面176是長徑Di、短徑D2的橢圓形狀。
[0096] 需要說明的是，研磨墊58(60)的形狀并未限定為圖11那樣的橢圓形狀，例如也可 以是正圓，還可以是矩形形狀。
[0097] 如圖11那樣，在研磨墊58的研磨面176上具備在圖中上下方向上具有規(guī)定的間 隔且沿圖中左右方向平行設(shè)置的多個槽（第一槽：所謂"紋路")178U78···。而且，在研磨面 176上在圖11中上下方向上設(shè)置與槽178、178···交叉的多個槽（第二槽：所謂"紋路")184、 184···。此外，在槽178U78···及槽184U84···的底面設(shè)有多個孔，該多個孔由多個料漿供給 孔（研磨液供給孔）180、180…及多個料漿吸引孔（研磨液吸引孔）182、182構(gòu)成。需要說 明的是，在圖11中，料漿供給孔180由"〇"標記表示，料漿吸引孔182由"·"標記表示。
[0098] 在圖12中，槽178及槽184的尺寸、以及料漿供給孔180及料漿吸引孔182的尺 寸由玻璃板的大小、玻璃板的制品所要求的研磨面的平坦度、研磨墊58的材料等來規(guī)定。 因此，上述的尺寸不受限定，例如，槽178的槽間距P優(yōu)選為4. 5?9mm，槽寬度％優(yōu)選為 1. 5?3臟，槽深度?\優(yōu)選為1?5臟，更優(yōu)選為1?3mm。而且，槽184的槽寬度W2優(yōu)選為 1. 5?5mm，更優(yōu)選為3?5mm，槽深度T2優(yōu)選為1?5mm，更優(yōu)選為1?3mm。
[0099] 根據(jù)實施方式的研磨墊58,在研磨面176上除了具備通常的紋路用的槽178之外， 還具備與槽178交叉的槽184,因此從料漿供給孔180向研磨面176供給的料漿通過槽178 及槽184而在研磨面176上高效率地擴散。由此，在玻璃板G與研磨墊58之間產(chǎn)生的背壓 下降，因此玻璃板G的研磨品質(zhì)提高，能夠增加料漿的供給量，因此能夠縮短研磨時間并提 高生產(chǎn)性。
[0100] 另外，槽184將所述孔與所述孔連通。即，所述孔為料漿供給孔180及料漿吸引孔 182,因此槽184可以將料漿供給孔180、180彼此連通，而且，也可以將料漿供給孔180與料 漿吸引孔182連通，還可以將料漿吸引孔182、182彼此連通。
[0101] 從料楽供給孔180供給的研磨液通過槽178及槽184,由此向研磨墊58的研磨面 176的整個區(qū)域擴散。而且，槽184相對于僅具備槽178的以往的研磨墊，只要設(shè)置在該研 磨面176中的背壓較高地產(chǎn)生的部位即可。而且，槽184相對于槽178的交叉方式可以是 圖11所示的正交方向，也可以是該方向以外的方向。而且，槽184從槽184的一端到另一 端可以為圖11所示的直線狀，也可以為曲線狀。
[0102] 槽178貫通到與研磨面176相接的外周面177。另一方面，除了槽184A(在圖11 中圖示2個槽184A、184A)之外的全部的槽184、184···相對于研磨面176的外周面177為非 貫通。即，槽184的一方的端及另一方的端位于研磨面176上。而且，槽184U84···中的一 部分的槽184A貫通到外周面177。即，槽184、184···中的一部分的槽184A的一方的端位于 研磨面176上，另一方的端貫通到外周面177。上述的結(jié)構(gòu)換言之，優(yōu)選包含槽184A的全部 的槽184的一方的端及另一方的端中的至少任一端相對于研磨面176的外周面177為非貫 通。而且，從減少背壓的觀點優(yōu)選槽184A配置在研磨面176的中央部的情況。研磨面176 的中央部是圖11的左右方向的中央部。左右方向的中央部是在與研磨面176的槽178平 行的平行方向上距中心點〇為研磨面176的直徑的25%以內(nèi)的范圍。
[0103] 槽184、184A在至少一方的端具備所述孔（料漿供給孔180或料漿吸引孔182)。 通過在這樣的位置具備所述孔，在槽178、184、184A內(nèi)流動的料漿的循環(huán)性提高。
[0104] 在研磨墊58的研磨面176具備多個槽178、184的情況在料漿的擴散、排出的觀點 上優(yōu)選，但是隨著槽178、184的個數(shù)的增加而在玻璃板G的被研磨面上產(chǎn)生槽的邊緣引起 的"條紋"，有時會使玻璃板G的研磨品質(zhì)惡化。
[0105] 由此，新具備的槽184并不是隨便地具備多個，而是只要在用于減少背壓的必要 部位上具備必要長度即可。即，將多個槽184、184···相對于研磨面176的外周面177形成為 非貫通，由此能夠使槽184的長度比槽178縮短，能夠抑制"條紋"的產(chǎn)生。而且，即使縮短 槽184的長度，向槽184流入的料漿也經(jīng)由與槽178交叉的交叉部而向槽178流入，并從研 磨面176的外周面177排出，因此料漿不會滯留在玻璃板G與研磨墊58之間，不會產(chǎn)生背 壓。需要說明的是，優(yōu)選將全部的槽184相對于外周面177形成為非貫通。
[0106] 如此能夠抑制背壓的實施方式的研磨墊58在整形修整時也通過整形修整砂輪平 坦地研磨，因此玻璃板G的研磨品質(zhì)提高，而且，研磨時間也能夠大幅縮短，因此玻璃板G的 生產(chǎn)性提高。而且，具有研磨墊58的壽命也延長的優(yōu)點。
[0107] 實施方式的研磨墊58的料漿供給孔180分散配置在研磨面176的整個區(qū)域，并且 以研磨面176的中央部的配置密度高于所述中央部以外的配置密度的方式配置。而且，槽 184配置在研磨面176的整個區(qū)域，并且以研磨面176的中央部的配置密度高于除了所述中 央部之外的部分的配置密度的方式設(shè)置。
[0108] 為了使料漿遍及研磨墊58的研磨面176整個區(qū)域，優(yōu)選在研磨面176的中央部具 備多個料漿供給孔180,并且，為了抑制在中央部產(chǎn)生的背壓，優(yōu)選在研磨面176的中央部 具備多個第二槽184。由此，料漿容易遍及研磨面176的整個區(qū)域，而且，也能夠可靠地抑制 在中央部廣生的背壓。
[0109] 另一方面，槽184優(yōu)選以研磨面176的中心點0為中心而成為點對稱地設(shè)置。由 此，玻璃板G的被研磨面的平坦度進一步提高。
[0110] 另外，實施方式的研磨墊58的料漿吸引孔182配置在研磨面176的中央部。由此， 能夠從研磨墊58的中央部吸引料漿，因此不會減少來自料漿供給孔180的料漿供給量，能 夠確保玻璃板G的中央附近的研磨余量并進行正常的研磨。研磨面176的中央部優(yōu)選為距 研磨面176的中心點0為研磨面176的直徑的25%以內(nèi)的范圍。
[0111] 需要說明的是，研磨面176的直徑在研磨面176為橢圓形狀的情況下，是指短徑 側(cè)的直徑。而且，所述25%在研磨面176為矩形形狀的情況下，是指短邊側(cè)的邊的長度的 25%。這種情況下，研磨面176的中央部的范圍成為一邊具有所述25%以內(nèi)的長度的矩形 形狀，該范圍的中心點成為研磨面的中心點0。
[0112] 利用實施方式的研磨墊58研磨的玻璃板G的一邊的長度如前述那樣優(yōu)選超過 2000mm，但是在一邊的長度超過2500mm的情況，尤其是一邊的長度超過2800mm的玻璃板G 的研磨中，實施方式的研磨墊58特別有效。
[0113] 另外，研磨墊58為了高效率地研磨上述尺寸的玻璃板G，優(yōu)選研磨面176的表面積 大于玻璃板G的被研磨面的表面積。
[0114] 接下來，說明如前述那樣構(gòu)成的研磨裝置10的作用。
[0115] 〔實施例〕
[0116] 臺18、20的規(guī)格如下述所示。
[0117] 研磨壓力：2kPa ?25kPa
[0118] 料漿：從研磨墊58、60的料漿供給孔供給使氧化鈰分散在水中而成的料漿
[0119] 研磨墊58 :發(fā)泡聚氨脂制且在表面具有使料漿流動的槽178 (槽間距4. 5mm、槽寬 度1. 5mm、槽深度1?5mm)、尺寸：長徑5040mm且短徑4800mm的圓形
[0120] 研磨墊60 :軟質(zhì)氨基甲酸乙酯制絨面狀且在表面具有使料漿流動的槽178 (槽間 距4. 5mm、槽寬度1. 5mm、槽深度1?5mm)、尺寸：長徑5040mm且短徑4800mm的圓形
[0121] 玻璃板G的厚度：0. 2mm?0. 7_
[0122] 玻璃板G的形狀：長邊3130mm、短邊2880mm的矩形
[0123] 玻璃板G的非研磨面：利用構(gòu)成膜體38的聚氨脂制的吸附墊進行密接保持
[0124] 如圖11那樣，在研磨墊58 (60)的表面具備與槽178交叉的多個槽184、184···。如 圖12那樣，槽184的槽寬度W2為4mm，槽深度T 2為3mm。
[0125] 〔基于臺18的第一研磨工序〕
[0126] 研磨時間：根據(jù)要求平坦度及余量來決定（例如2分鐘）
[0127] 托架52的公轉(zhuǎn)直徑：150mm
[0128] 托架52的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速：110rpm
[0129] 研磨工作臺64的擺動速度：180mm/min
[0130] 研磨工作臺64的擺動行程：± 100mm
[0131] 研磨平臺62的回旋范圍：±80°
[0132] 研磨平臺62的回旋速度：7. 4° /sec
[0133] 〔基于臺20的第二研磨工序〕
[0134] 研磨時間：最后的30sec
[0135] 托架52的公轉(zhuǎn)直徑：150mm
[0136] 托架52的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速：110rpm
[0137] 研磨工作臺64的擺動速度：180mm/min
[0138] 研磨工作臺64的擺動行程：± 100mm
[0139] 研磨平臺62的回旋范圍：±80°
[0140] 研磨平臺62的回旋速度：0.1° /sec
[0141] 以上是各臺18、20的規(guī)格，利用這些臺18、20對玻璃板G進行研磨，由此能夠?qū)⒉?璃板G的表面的微小的凹凸、彎曲除去。而且，與僅具有槽178的以往的研磨墊相比，研磨 時間大幅縮短，因此生產(chǎn)性提高。
[0142] 另外，獨立地控制托架52的公轉(zhuǎn)動作及研磨平臺62的回旋動作，在玻璃板G的研 磨時間中，將研磨平臺62的回旋速度（角速度）變更為低速，由此能夠抑制研磨墊58、60 的槽178U84引起的局部的研磨不均。在此，所述公轉(zhuǎn)動作產(chǎn)生的力成為將玻璃板G的表 面的微小的凹凸除去的力，所述回旋動作產(chǎn)生的力成為對被研磨面的品質(zhì)進行控制的力。
[0143] 需要說明的是，在實施方式中例示了玻璃板作為板狀體，但并未限定為玻璃板，也 可以是其他的板狀體。
[0144] 詳細地且參照特定的實施方式說明了本發(fā)明，但是在不脫離本發(fā)明的范圍和宗旨 的范圍內(nèi)能夠施加各種修正、變更的情況對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說不言自明。
[0145] 本申請基于2012年2月10日提出申請的日本專利申請2012-027648,并將其內(nèi)容 作為參照而援引于此。
[0146] 標號說明
[0147] G…玻璃板，10···研磨裝置，12···玻璃板搬入用輸送設(shè)備，14···膜框，16···玻璃板粘 貼臺，18···第一研磨臺，20···第二研磨臺，22···玻璃板拆卸臺，24···玻璃板搬出用輸送設(shè)備， 26···膜框清洗臺，28···膜框干燥臺，30···膜框送回輸送設(shè)備，32···機器人，33···臂，34…吸附 墊，36…輸送設(shè)備，38...膜體，40...上框，42...下框，43…突起部，50…研磨頭，51...主體殼 體，52···托架，54···空氣室，56···主軸，58···研磨墊，60···研磨墊，62···研磨平臺，64…研磨工 作臺，65…軸承，66…齒輪部，67...齒輪，68...馬達，69...導軌，70...直動引導件，72...導軌， 74···維修臺，76…維修臺，78…懸吊框架，80···貫通孔，82···滑動框架，84···滑動框架吊具， 86···懸吊用蝶形彈簧，88···懸吊彈簧，90···貫通孔，92···螺旋千斤頂，98···噴射口，100…空 氣室，102…空氣供給通路，104…閥，106…空氣泵，108…銷，110…頭部，112…鉤，138…輸 送設(shè)備，140…機器人，142…臂，144…吸附頭，146、148…輸送設(shè)備，150、152、154...搬運裝 置，160…導軌，162…保持部，164…機器人，166…軸，168…引導塊，170…導軌，172…進給 絲杠，176···研磨面，177···外周面，178···槽，180···料漿供給孔，182···料漿吸引孔，184···槽， 184A…槽，200…控制部，204…工作臺，206…壓縮空氣噴射噴嘴，208…千斤頂
【權(quán)利要求】
1. 一種研磨墊，具有： 在研磨面上以規(guī)定的間隔平行地設(shè)置的多個第一槽； 設(shè)置在所述研磨面上且與所述第一槽交叉的多個第二槽；及 設(shè)置在所述第一槽及所述第二槽的底面上的由研磨液供給孔及研磨液吸引孔構(gòu)成的 多個孔。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中， 所述多個第一槽貫通到與所述研磨面相接的外周面， 所述多個第二槽中，該多個第二槽中的一部分的槽相對于所述外周面貫通，或者該多 個第二槽的全部的槽相對于所述外周面非貫通。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的研磨墊，其中， 所述研磨液供給孔配置在所述研磨面的整個區(qū)域，并且設(shè)定為所述研磨面的中央部的 配置密度高于所述中央部以外的配置密度， 所述第二槽配置在所述研磨面的整個區(qū)域，并且設(shè)定為所述研磨面的中央部的配置密 度高于除了所述中央部以外的部分的配置密度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1?3中任一項所述的研磨墊，其中， 所述研磨液吸引孔配置在所述研磨面的中央部。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項所述的研磨墊，其中， 所述第二槽設(shè)置成以所述研磨面的中心點為中心而成為點對稱。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1?5中任一項所述的研磨墊，其中， 為了對一邊的長度超過2000mm的矩形形狀的板狀體的被研磨面進行研磨，使所述研 磨面的表面積大于所述被研磨面的表面積。
7. -種研磨裝置，利用權(quán)利要求1?6中任一項所述的研磨墊對板狀體的被研磨面進 行研磨。
【文檔編號】B24B37/26GK104105573SQ201380008676
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2013年1月23日 優(yōu)先權(quán)日:2012年2月10日
【發(fā)明者】山本一義 申請人:旭硝子株式會社