具有復(fù)雜形狀的磨粒及其形成方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種磨粒，所述磨?？砂ū倔w。所述本體可限定長(zhǎng)度(l)、高度(h)和寬度(w)。在一個(gè)特定方面，所述長(zhǎng)度大于或等于所述高度，且所述高度大于或等于所述寬度。此外，在一個(gè)特定方面，所述本體可包括為至少約2∶1的由長(zhǎng)度∶高度的比例限定的主縱橫比。所述本體也可包括至少約50％的直立取向機(jī)率。
【專利說明】具有復(fù)雜形狀的磨粒及其形成方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開通常涉及用于形成結(jié)構(gòu)化研磨制品的方法和系統(tǒng)。更特別地，本公開涉及成形研磨晶粒。

【背景技術(shù)】
[0002]研磨制品(如涂布磨料和粘結(jié)磨料)用于多種工業(yè)中，以諸如通過精研、碾磨或拋光而機(jī)械加工工件。使用研磨制品機(jī)械加工包括廣泛的工業(yè)范圍，從光學(xué)工業(yè)、汽車油漆修復(fù)工業(yè)至金屬制造工業(yè)。在這些例子中的每一個(gè)中，制造設(shè)施使用磨料以去除本體材料或影響產(chǎn)品的表面特性。
[0003]表面特性包括光亮、紋理和均勻度。例如，金屬部件的制造使用研磨制品以精密加工和拋光表面，并常常需要均勻平滑的表面。類似地，光學(xué)制造者需要產(chǎn)生無缺陷表面的研磨制品，以防止光衍射和散射。
[0004]制造者也需要對(duì)于某些應(yīng)用具有高切削速率的研磨制品。然而，去除速率和表面品質(zhì)之間通常存在權(quán)衡。更細(xì)的晶粒研磨制品通常產(chǎn)生更平滑的表面，但具有更低的切削速率。更低的切削速率導(dǎo)致更慢的生產(chǎn)和增加的成本。
[0005]特別地在涂布研磨制品的情況中，研磨制品的制造者已引入表面結(jié)構(gòu)以改進(jìn)切削速率，同時(shí)保持表面品質(zhì)。具有表面結(jié)構(gòu)或凸起的磨料層的圖案的涂布研磨制品通常稱為設(shè)計(jì)或結(jié)構(gòu)化磨料，并通常顯示出改進(jìn)的使用壽命。
[0006]然而，用于形成結(jié)構(gòu)化研磨制品的典型技術(shù)是不可靠的，并遭受性能局限性。一種用于形成結(jié)構(gòu)化研磨制品的典型方法包括用粘性粘結(jié)劑涂布背襯、用功能粉末涂布粘性粘結(jié)劑，并壓印或軋制圖案至粘性粘結(jié)劑中。功能粉末防止粘結(jié)劑粘著至圖案化工具。隨后固化粘結(jié)劑。
[0007]具有功能粉末的粘性粘結(jié)劑的不完美涂布導(dǎo)致粘著于圖案化工具上的粘結(jié)劑。粘結(jié)劑粘著產(chǎn)生較差的結(jié)構(gòu)，從而導(dǎo)致較差的產(chǎn)品性能和廢品。
[0008]適用于典型的結(jié)構(gòu)化磨料形成技術(shù)的粘結(jié)劑的選擇受限于方法。典型的粘結(jié)劑包含增加粘結(jié)劑的粘度的高載量的常規(guī)填料。這種常規(guī)填料影響粘結(jié)劑的機(jī)械特性。例如，高載量的常規(guī)填料可不利影響粘結(jié)劑的拉伸強(qiáng)度、拉伸模量和斷裂伸長(zhǎng)特性。粘結(jié)劑的較差的機(jī)械特性導(dǎo)致研磨晶粒的損失，從而導(dǎo)致表面上的刮擦和濁度，并降低研磨制品壽命。
[0009]晶粒的損失也劣化了研磨制品的性能，從而導(dǎo)致經(jīng)常替換。經(jīng)常的研磨制品替換對(duì)于制造者而言是高成本的。這樣，改進(jìn)的研磨制品和用于制造研磨制品的方法是所需的。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]公開了一種研磨晶粒，所述研磨晶?？砂ū倔w。所述本體可限定長(zhǎng)度(I)、高度(h)和寬度(W)。在一個(gè)特定方面，所述長(zhǎng)度大于或等于所述高度，且所述高度大于或等于所述寬度。此外，在一個(gè)特定方面，所述本體可包括至少約1:1的由長(zhǎng)度:高度的比例限定的主縱橫比。所述本體也可包括至少約50%的直立取向機(jī)率。
[0011]在另一方面，公開了一種研磨晶粒，所述研磨晶?？砂ň哂虚L(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體。所述長(zhǎng)度、寬度和高度可分別對(duì)應(yīng)于縱軸、橫軸和垂直軸，且所述縱軸、橫軸和垂直軸可限定三個(gè)垂直平面。在此方面，所述本體可包括相對(duì)于所述三個(gè)垂直平面中的任意者的不對(duì)稱幾何形狀。
[0012]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶?？砂ū倔w，所述本體具有在由縱軸、橫軸和垂直軸限定的三個(gè)垂直平面中包括3重對(duì)稱性的復(fù)雜三維幾何形狀。此外，本體可包括沿著縱軸、橫軸或垂直軸中的一者延伸通過本體的整個(gè)內(nèi)部的開口。
[0013]在另一方面，公開了一種研磨晶粒，所述研磨晶?？砂ň哂杏砷L(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)限定的復(fù)雜三維幾何形狀的本體。所述本體也可包括質(zhì)心和幾何中點(diǎn)。所述質(zhì)心可沿著限定所述高度的本體的垂直軸從所述幾何中點(diǎn)偏移至少約0.05(h)的距離(Dh)。
[0014]在另一方面，公開了一種研磨晶粒，所述研磨晶?？砂ㄏ薅ㄩL(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體。所述本體可包括底表面和上表面。此外，所述底表面包括與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
[0015]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶?？砂ū倔w，所述本體具有總體平坦的底部和從所述總體平坦的底部延伸的圓頂形頂部。
[0016]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶粒可包括本體，所述本體包括長(zhǎng)度(I)、寬度(《)和高度(h)。所述長(zhǎng)度、寬度和高度可分別對(duì)應(yīng)于縱軸、橫軸和垂直軸。此外，所述本體可包括沿著限定本體的長(zhǎng)度的縱軸的扭轉(zhuǎn)，使得底表面相對(duì)于上表面旋轉(zhuǎn)，以設(shè)立扭轉(zhuǎn)角。
[0017]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶粒可包括本體,所述本體具有第一端面和第二端面、在所述第一端面與第二端面之間延伸的至少三個(gè)相鄰的側(cè)面，以及在每一對(duì)相鄰側(cè)面之間設(shè)立的邊緣結(jié)構(gòu)。
[0018]在另一方面,公開了一種研磨晶粒,所述研磨晶?？砂ū倔w，所述本體具有中心部分和沿著所述中心部分的整個(gè)長(zhǎng)度從所述中心部分向外延伸的至少三個(gè)徑向臂。
[0019]在另一方面，一種研磨晶粒包括具有長(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體具有底表面端和上表面，且其中所述底表面包括與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
[0020]對(duì)于另一方面，一種研磨晶粒包括本體,所述本體具有中心部分和沿著所述中心部分的整個(gè)長(zhǎng)度從所述中心部分向外延伸的至少三個(gè)徑向臂，其中每個(gè)徑向臂包括箭頭形遠(yuǎn)端。
[0021]根據(jù)另一方面，一種成形磨粒包括具有長(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體包括底表面端部、上表面和在所述底表面與上表面之間延伸的側(cè)表面，其中所述底表面具有與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
[0022]在一個(gè)方面，一種成形磨粒包括具有長(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體具有三叉星，所述三叉星包括限定第一臂的第一臂、限定第二臂的第二臂和限定第二臂的第三臂，其中所述第一臂、第二臂和第三臂限定小于約180度的總角度，且其中所述本體具有不大于約10的翅曲因子(curling factor)。
[0023]對(duì)于另一方面，一種成形磨粒包括具有長(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體限定四叉星，所述四叉星具有從中心部分延伸的第一臂、第二臂、第三臂和第四臂，且其中所述本體具有不大于約10的翹曲因子。
[0024]根據(jù)另一方面，一種成形磨粒包括具有長(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)的本體，其中所述本體由底表面、上表面和在所述底表面與上表面之間延伸的側(cè)表面，其中所述底表面包括十字形二維形狀，且所述上表面包括圓四邊形二維形狀。
[0025]對(duì)于另一方面，一種成形磨粒包括具有第一層和第二層的本體，所述第一層具有第一長(zhǎng)度，所述第二層上覆所述第一層，其中所述第二層具有在所述第一層的長(zhǎng)度的約50 %至約90 %之間的范圍內(nèi)的長(zhǎng)度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0026]通過參照附圖，本公開可更好地得以理解，且本公開的許多特征和優(yōu)點(diǎn)對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是顯而易見的。
[0027]圖1為一個(gè)示例性過程的示意圖；
[0028]圖2為結(jié)構(gòu)化研磨制品的立體圖；
[0029]圖3為成形研磨晶粒的第一實(shí)施例的立體圖；
[0030]圖4為成形研磨晶粒的第一實(shí)施例的第二端部的平面圖；
[0031]圖5為成形研磨晶粒的第二實(shí)施例的立體圖；
[0032]圖6為成形研磨晶粒的第二實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0033]圖7為成形研磨晶粒的第三實(shí)施例的立體圖；
[0034]圖8為成形研磨晶粒的第一實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0035]圖9為成形研磨晶粒的第四實(shí)施例的立體圖；
[0036]圖10為成形研磨晶粒的第四實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0037]圖11為成形研磨晶粒的第五實(shí)施例的立體圖；
[0038]圖12為成形研磨晶粒的第五實(shí)施例的底部的平面圖；
[0039]圖13為成形研磨晶粒的第六實(shí)施例的立體圖；
[0040]圖14為成形研磨晶粒的第四實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0041]圖15為成形研磨晶粒的第七實(shí)施例的頂部的平面圖；
[0042]圖16為成形研磨晶粒的第七實(shí)施例的底部的平面圖；
[0043]圖17為成形研磨晶粒的第八實(shí)施例的頂部的平面圖；
[0044]圖18為成形研磨晶粒的第八實(shí)施例的底部的平面圖；
[0045]圖19為成形研磨晶粒的第九實(shí)施例的立體圖；
[0046]圖20為成形研磨晶粒的第九實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0047]圖21為成形研磨晶粒的第十實(shí)施例的立體圖；
[0048]圖22為成形研磨晶粒的第十實(shí)施例的第一端面的平面圖；
[0049]圖23為成形研磨晶粒的第十實(shí)施例的第二端表面的平面圖；
[0050]圖24為成形研磨晶粒的第i^一實(shí)施例的立體圖；
[0051]圖25為成形研磨晶粒的第i^一實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0052]圖26為成形研磨晶粒的第十二實(shí)施例的立體圖；
[0053]圖27為成形研磨晶粒的第十二實(shí)施例的第二端表面的平面圖；
[0054]圖28為成形研磨晶粒的第十三實(shí)施例的立體圖；
[0055]圖29為成形研磨晶粒的第十三實(shí)施例的第二端表面的平面圖；
[0056]圖30為成形研磨晶粒的第十四實(shí)施例的立體圖；
[0057]圖31為成形研磨晶粒的第十四實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0058]圖32為成形研磨晶粒的第十五實(shí)施例的立體圖；
[0059]圖33為成形研磨晶粒的第十五實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0060]圖34為成形研磨晶粒的第十六實(shí)施例的立體圖；
[0061]圖35為成形研磨晶粒的第十六實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0062]圖36為成形研磨晶粒的第十七實(shí)施例的立體圖；
[0063]圖37為成形研磨晶粒的第十七實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0064]圖38為成形研磨晶粒的第十八實(shí)施例的立體圖；
[0065]圖39為成形研磨晶粒的第十八實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0066]圖40為成形研磨晶粒的第十九實(shí)施例的立體圖；
[0067]圖41為成形研磨晶粒的第十九實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0068]圖42為成形研磨晶粒的第二十實(shí)施例的立體圖；
[0069]圖43為成形研磨晶粒的第二十實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0070]圖44為成形研磨晶粒的第二i^一實(shí)施例的立體圖；
[0071]圖45為成形研磨晶粒的第二i^一實(shí)施例的第一端面的平面圖；
[0072]圖46為成形研磨晶粒的第二i^一實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0073]圖47為成形研磨晶粒的第二十二實(shí)施例的立體圖；
[0074]圖48為成形研磨晶粒的第二十二實(shí)施例的第一端面的平面圖；
[0075]圖49為成形研磨晶粒的第二十二實(shí)施例的第二端表面的平面圖；
[0076]圖50為成形研磨晶粒的第二十三實(shí)施例的立體圖；
[0077]圖51為成形研磨晶粒的第二十三實(shí)施例的第一端面的平面圖；
[0078]圖52為成形研磨晶粒的第二十三實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0079]圖53為成形研磨晶粒的第二十四實(shí)施例的立體圖；
[0080]圖54為成形研磨晶粒的第二十四實(shí)施例的第一端表面的平面圖；
[0081]圖55為成形研磨晶粒的第二十四實(shí)施例的第二端表面的平面圖；
[0082]圖56為成形研磨晶粒的第二十五實(shí)施例的立體圖；
[0083]圖57為成形研磨晶粒的第二十五實(shí)施例的第一端面的平面圖；
[0084]圖58為成形研磨晶粒的第二十五實(shí)施例的第二端面的平面圖；
[0085]圖59為成形研磨晶粒的第二十六實(shí)施例的立體圖；
[0086]圖60為成形研磨晶粒的第二十六實(shí)施例的第一端面的平面圖；和
[0087]圖61為成形研磨晶粒的第二十六實(shí)施例的第二端面的平面圖。
[0088]圖62A和B包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的用于形成成形磨粒的系統(tǒng)的圖示。
[0089]圖63包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的用于形成成形磨粒的系統(tǒng)的圖示。
[0090]圖64A包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的用于形成成形磨粒的系統(tǒng)的一部分的圖示。
[0091]圖65A包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的成形磨粒的圖像。
[0092]圖65B包括圖65A的成形磨粒的側(cè)視圖的圖示。
[0093]圖65C包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的成形磨粒的圖像。
[0094]圖66A包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的成形磨粒的圖像。
[0095]圖66B包括圖66A的成形磨粒的側(cè)視圖的圖示。
[0096]不同圖中的相同附圖標(biāo)記的使用表示類似或相同的項(xiàng)目。

【具體實(shí)施方式】
[0097]如下也涉及形成成形磨粒的方法和這種成形磨粒的特征。成形磨粒可用于各種研磨制品中，包括例如粘結(jié)研磨制品、涂布研磨制品等?；蛘?，本文的實(shí)施例的成形磨粒可用于自由研磨技術(shù)，包括例如碾磨和/或拋光漿料。
[0098]首先參照?qǐng)D1，顯示了一個(gè)示例性過程，并將其通常指定為100。如所示，背襯102可從輥104提供。背襯102可用從涂布裝置108分配的粘結(jié)劑配方106涂布。示例性的涂布裝置包括降模涂布機(jī)(drop die coater)、刮刀涂布機(jī)、淋幕式涂布機(jī)、真空模涂布機(jī)或模涂布機(jī)。涂布方法可包括接觸方法或非接觸方法。這種方法包括雙輥涂布、三輥逆轉(zhuǎn)涂布、羅拉刮刀涂布、狹縫式模頭擠出涂布、凹版印刷涂布、擠出涂布或噴涂應(yīng)用。
[0099]在一個(gè)特定實(shí)施例中，粘結(jié)劑配方106可以以包含粘結(jié)劑配方和研磨晶粒的漿料提供。在一個(gè)可選擇的實(shí)施例中，粘結(jié)劑配方106可與研磨晶粒分開分配。然后，可在用粘結(jié)劑配方106涂布背襯102之后，在粘結(jié)劑配方106的部分固化之后，在粘結(jié)劑配方106的圖案化之后，或在完全固化粘結(jié)劑配方108之后提供研磨晶粒。研磨晶?？衫缤ㄟ^諸如靜電涂布、滴涂或機(jī)械發(fā)射的技術(shù)施用。在一個(gè)特定方面，研磨晶?？蔀楸疚拿枋龅某尚窝心ゾЯＶ械囊环N或多種的任意組合。
[0100]粘結(jié)劑配方106可在能源110下經(jīng)過之后固化。能源110的選擇可部分取決于粘結(jié)劑配方106的化學(xué)。例如，能源110可為熱能或光化輻射能量(如電子束、紫外光或可見光)的源。所用的能量的量可取決于前體聚合物組分中的反應(yīng)性基團(tuán)的化學(xué)性質(zhì)，以及粘結(jié)劑配方106的厚度和密度。對(duì)于熱能，約70°C至約150°C的烘箱溫度和約5分鐘至約60分鐘的持續(xù)時(shí)間可通常為足夠的。電子束輻射或電離輻射可以以約0.1MRad至約10MRad的能量水平，特別是約IMRad至約1MRad的能量水平使用。紫外輻射包括波長(zhǎng)在約200納米至約400納米的范圍內(nèi)，特別是在約250納米至400納米的范圍內(nèi)的輻射?？梢姽廨椛浒úㄩL(zhǎng)在約400納米至約800納米的范圍內(nèi)，特別是在約400納米至約550納米的范圍內(nèi)的輻射。固化參數(shù)(如暴露)通常取決于配方，并可經(jīng)由燈功率和帶速度進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0101]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，能源110可將光化輻射提供至涂布背襯，從而部分固化粘結(jié)劑配方106。在另一實(shí)施例中，粘結(jié)劑配方106為可熱固化的，且能源110可提供用于熱處理的熱量。在另一實(shí)施例中，粘結(jié)劑配方106可包含可光化輻射固化和可熱固化的組分。這樣，粘結(jié)劑配方可通過熱固化和光化輻射固化中的一者部分固化，并通過熱固化和光化輻射固化中的另一者固化至完全固化。例如，粘結(jié)劑配方的環(huán)氧樹脂組分可使用紫外電磁輻射部分固化，粘結(jié)劑配方的丙烯酸類組分可通過熱固化進(jìn)一步固化。
[0102]一旦粘結(jié)劑配方106固化，則形成結(jié)構(gòu)化研磨制品112。或者，可將復(fù)膠施用于圖案化研磨結(jié)構(gòu)上。在一個(gè)特定實(shí)施例中，可將結(jié)構(gòu)化研磨制品112軋制成輥114。在其他實(shí)施例中，可在軋制經(jīng)部分固化的研磨制品112之后進(jìn)行完全固化。
[0103]在一個(gè)或多個(gè)可選擇的實(shí)施例中，可將復(fù)膠施用至粘結(jié)劑配方106和研磨晶粒上。例如，可在部分固化粘結(jié)劑配方106之前，在部分固化粘結(jié)劑配方106之后，或在進(jìn)一步固化粘結(jié)劑配方106之后施用復(fù)膠?？衫缤ㄟ^輥涂或噴涂施用復(fù)膠。取決于復(fù)膠的組成，當(dāng)施用復(fù)膠時(shí)，復(fù)膠可結(jié)合粘結(jié)劑配方106 —起固化，或分開固化?？蓪ㄑ心ブ鷦┑某瑥?fù)膠施用至復(fù)膠上，并與粘結(jié)劑配方106 —起固化，與復(fù)膠一起固化，或分開固化。
[0104]參照?qǐng)D2，顯示了結(jié)構(gòu)化研磨制品，其通常指定為200。如所示，結(jié)構(gòu)化研磨制品200可包括背襯202和沉積于所述背襯202上的多個(gè)成形研磨晶粒204。在一個(gè)特定方面，結(jié)構(gòu)化研磨制品200可使用結(jié)合圖1描述的過程制造。
[0105]在一個(gè)特定方面，成形研磨晶粒204可為本文描述的成形研磨晶粒中的一種或多種。此外，成形研磨晶?？砂ū疚拿枋龅某尚窝心ゾЯＶ械囊环N或多種或任意組合。此夕卜，本文描述的成形研磨晶粒中的一種或多種可包括直立取向機(jī)率。直立取向可被認(rèn)為是對(duì)應(yīng)于每個(gè)成形研磨晶粒的有利的研磨/切割位置的取向，且機(jī)率為晶粒處于直立取向的簡(jiǎn)單數(shù)學(xué)機(jī)率。
[0106]在一個(gè)特定方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种迨?50% )。在另一方面,直立取向?yàn)橹辽侔俜种迨?55%)。在另一方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种?60%)。在另一方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种?65% )。在另一方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种呤?70% )。在另一方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种呤?75%)。在另一方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种耸?80%)。在另一方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种耸?85%)。在另一方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种攀?90%)。在另一方面，直立取向?yàn)橹辽侔俜种攀?95%)。在另一方面，直立取向?yàn)榘俜种话?100%)。
[0107]本文描述的成形研磨晶粒中的每一個(gè)的本體可包括多晶材料。多晶材料可包括研磨晶粒。研磨晶?？砂ǖ?、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、金剛石，和它們的組合。此外，研磨晶?？砂ㄑ趸?，所述氧化物選自如下氧化物的組:氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、氧化釔、氧化鉻、氧化銀、氧化娃，和它們的組合。
[0108]在另一方面，研磨晶粒可包括氧化鋁。在另一方面，研磨晶?；旧嫌裳趸X組成。此外，研磨晶粒可具有不大于約500微米的平均晶粒尺寸。或者，平均晶粒尺寸不大于約250微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大于約100微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大于約50微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大于約30微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大于約20微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大于約10微米。在另一方面，平均晶粒尺寸不大于約I微米。
[0109]在另一方面，平均晶粒尺寸為至少約0.01微米。在另一方面，平均晶粒尺寸為至少約0.05微米。在另一方面，平均晶粒尺寸為至少約0.08微米。在另一方面，平均晶粒尺寸為至少約0.1微米。
[0110]在另一方面，本文描述的成形研磨晶粒中的每一個(gè)的本體可為包含至少約2個(gè)不同類型的研磨晶粒的復(fù)合材料。
[0111]圖3和圖4示出了成形研磨晶粒300的第一實(shí)施例。如圖3所示，成形研磨晶粒300可包括本體301，所述本體301為具有第一端面302和第二端面304的總體棱柱狀。此夕卜，成形研磨晶粒300可包括在第一端面302與第二端面304之間延伸的第一側(cè)面310。第二側(cè)面312可與第一側(cè)面310相鄰，在第一端面302與第二端面304之間延伸。如所示，成形研磨晶粒300也可包括第三側(cè)面314，所述第三側(cè)面314與第二側(cè)面312和第一側(cè)面310相鄰，在第一端面302與第二端面304之間延伸。
[0112]如圖3和圖4所示，成形研磨晶粒300也可包括在第一側(cè)面310與第二側(cè)面312之間的第一邊緣320。成形研磨晶粒300也可包括在第二側(cè)面312與第三側(cè)面314之間的第二邊緣322。此外，成形研磨晶粒300可包括在第三側(cè)面314與第一側(cè)面312之間的第三邊緣324。
[0113]如所示，成形研磨晶粒300的每個(gè)端面302、304的形狀可為總體三角形。每個(gè)側(cè)面310、312、314的形狀可為總體矩形。此外，在平行于端面302、304的平面中的成形研磨晶粒300的橫截面可為總體三角形?？梢粤私猓尚窝心ゾЯ?00可包括超過三個(gè)側(cè)面310、312、314和三個(gè)邊緣320、322、324?？蛇M(jìn)一步了解，取決于側(cè)面310、312、314的數(shù)量，端面302、304和通過平行于端面302、304的平面的成形研磨晶粒300的橫截面可具有任意多邊形的形狀，例如四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形、九邊形、十邊形等。此外，多邊形可為凸?fàn)畹?、非凸?fàn)畹?、凹狀的，或非凹狀的?br> [0114]圖5和圖6示出了成形研磨晶粒500的第二實(shí)施例。如圖5所示，成形研磨晶粒500可包括本體501，所述本體501為具有第一端面504和第二端面304的總體棱柱狀。此夕卜，成形研磨晶粒500可包括在第一端面502與第二端面504之間延伸的第一側(cè)面510。第二側(cè)面512可與第一側(cè)面510相鄰，在第一端面502與第二端面504之間延伸。如所示，成形研磨晶粒500也可包括第三側(cè)面514，所述第三側(cè)面514與第二側(cè)面512和第一側(cè)面510相鄰，在第一端面502與第二端面504之間延伸。
[0115]如圖5和圖6所示，成形研磨晶粒500也可包括在第一側(cè)面510與第二側(cè)面512之間的第一邊緣面520。成形研磨晶粒500也可包括在第二側(cè)面512與第三側(cè)面514之間的第二邊緣面522。此外，成形研磨晶粒500可包括在第三側(cè)面514與第一側(cè)面512之間的第三邊緣524。
[0116]如所示，成形研磨晶粒500的每個(gè)端面502、504的形狀可為總體三角形。每個(gè)側(cè)面510、512、514的形狀可為總體矩形。此外，在平行于端面502、504的平面中的成形研磨晶粒500的橫截面可為總體三角形。
[0117]圖7和圖8示出了成形研磨晶粒700的第三實(shí)施例。如圖7所示，成形研磨晶粒700可包括本體701，所述本體701為具有第一端面702和第二端面704的總體棱柱狀。此夕卜，成形研磨晶粒700可包括在第一端面702與第二端面704之間延伸的第一側(cè)面710。第二側(cè)面712可與第一側(cè)面710相鄰，在第一端面702與第二端面704之間延伸。如所示，成形研磨晶粒700也可包括第三側(cè)面714，所述第三側(cè)面714與第二側(cè)面712和第一側(cè)面710相鄰，在第一端面702與第二端面704之間延伸。
[0118]如圖7和圖8所示，成形研磨晶粒700也可包括在第一側(cè)面710與第二側(cè)面712之間的第一凹狀邊緣通道720。成形研磨晶粒700也可包括在第二側(cè)面712與第三側(cè)面714之間的第二凹狀邊緣通道722。此外，成形研磨晶粒700可包括在第三側(cè)面714與第一側(cè)面712之間的第三凹狀邊緣通道724。
[0119]如所示，成形研磨晶粒700的每個(gè)端面702、704的形狀可為總體三角形。每個(gè)側(cè)面710、712、714的形狀可為總體矩形。此外，在平行于端面702、704的平面中的成形研磨晶粒700的橫截面可為總體三角形。
[0120]圖9和圖10示出了成形研磨晶粒900的第四實(shí)施例。如圖9所示，成形研磨晶粒900可包括本體901，所述本體901為具有第一端面902和第二端面904的總體棱柱狀。此夕卜，成形研磨晶粒900可包括在第一端面902與第二端面904之間延伸的第一側(cè)面910。第二側(cè)面912可與第一側(cè)面910相鄰，在第一端面902與第二端面904之間延伸。如所示，成形研磨晶粒900也可包括第三側(cè)面914，所述第三側(cè)面914與第二側(cè)面912和第一側(cè)面910相鄰，在第一端面902與第二端面904之間延伸。
[0121]如圖9和圖10所示，成形研磨晶粒900也可包括在第一側(cè)面910與第二側(cè)面912之間的第一 V形邊緣通道面920。成形研磨晶粒900也可包括在第二側(cè)面912與第三側(cè)面914之間的第二 V形邊緣通道面922。此外，成形研磨晶粒900可包括在第三側(cè)面914與第一側(cè)面912之間的第三V形邊緣通道面924。
[0122]如所示，成形研磨晶粒900的每個(gè)端面902、904的形狀可為總體三角形。每個(gè)側(cè)面910、912、914的形狀可為總體矩形。此外，在平行于端面902、904的平面中的成形研磨晶粒900的橫截面可為總體三角形。
[0123]在圖3至圖10中所示的示例性實(shí)施例中，可了解邊緣320、322、324 ;邊緣面520、522,524 ;凹狀邊緣通道720、722、724 ;和V形邊緣通道920、922、924可被認(rèn)為是邊緣結(jié)構(gòu)。此外，邊緣結(jié)構(gòu)確保當(dāng)將成形研磨晶粒300、500、700、900沉積于或設(shè)置于背襯上時(shí)，側(cè)面將設(shè)置于背襯上，邊緣結(jié)構(gòu)將從背襯面向上或面向外。此外，邊緣結(jié)構(gòu)提供銳邊，所述銳邊提供顯著增加的研磨性能。
[0124]另外，可了解在圖3至圖10中所示的示例性實(shí)施例中的每一個(gè)中，接觸背襯的成形研磨晶粒300、500、700、900的面(即基底)具有比指向外或指向上的成形研磨晶粒300、500、700、900的部分(例如邊緣結(jié)構(gòu))的面積顯著更大的面積。
[0125]特別地，基底可占粒子的總表面積的至少約百分之三十(30% )。在另一方面，基底可占粒子的總表面積的至少約百分之四十(40%)。在另一方面，基底可占粒子的總表面積的至少約百分之五十(50%)。在另一方面，基底可占粒子的總表面積的至少約百分之六十(60%)。在另一方面，基底可占粒子的總表面積的不大于百分之九十九(99%)。在另一方面，基底可占粒子的總表面積的不大于百分之九十五(95%)。在另一方面，基底可占粒子的總表面積的不大于百分之九十(90%)。在另一方面，基底可占粒子的總表面積的不大于百分之八十(80%)。在另一方面，基底可占粒子的總表面積的不大于百分之七十五(75% )。
[0126]參照?qǐng)D11和圖12，顯示了成形研磨晶粒的第五實(shí)施例，其通常指定為1100。如所示，成形研磨晶粒1100可包括本體1101,所述本體1101為具有總體三角形底面1102的總體角錐體形狀。此外，成形研磨晶粒1100可形成為在其中具有孔1104(即開口)。
[0127]在一個(gè)特定方面，孔1104可限定穿過孔1104的中心的中心軸1106。此外，成形研磨晶粒1100也可限定穿過成形研磨晶粒1100的中心的中心軸線1108?？闪私?孔1104可在成形研磨晶粒1100中形成，使得孔1104的中心軸線1106在成形研磨晶粒1100的中心軸線1108之上間隔距離1110。這樣，成形研磨晶粒1100的質(zhì)心可移動(dòng)至成形研磨晶粒1100的幾何中點(diǎn)以下。將質(zhì)心移動(dòng)至成形研磨晶粒的幾何中點(diǎn)以下可確保成形研磨晶粒1100在下降或者沉積于背襯上時(shí)落在相同的面(例如底面1102)上，使得成形研磨晶粒具有直立取向。
[0128]在一個(gè)特定實(shí)施例中，質(zhì)心沿著限定高度的本體1102的垂直軸偏離幾何中點(diǎn)等于0.05高度(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.1(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.15(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.18(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.2(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.22(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.25(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.27(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.3(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.32(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.35(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.38(h)的距離。
[0129]在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.5(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.49(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.48(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.45(h)的距離。在另一方面,質(zhì)心偏離不大于0.43(h)的距離。在另一方面,質(zhì)心偏離不大于0.40(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.39(h)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.38(h)的距離。
[0130]此外，質(zhì)心可偏離，從而當(dāng)成形研磨晶粒1100為如圖11所示的直立取向時(shí)，相比于本體1101的頂部，質(zhì)心更接近本體1101的基底，例如底面1102。
[0131]在另一實(shí)施例中，質(zhì)心可沿著限定寬度的本體1102的橫軸偏離幾何中點(diǎn)等于0.05寬度(W)的距離1110。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.1(W)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.15 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.18 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.2(w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.22(w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.25 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.27 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.3 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.32(w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.35 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.38 (w)的距離。
[0132]在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.5(w)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.49 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.48 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.45(w)的距離。在另一方面,質(zhì)心偏離不大于0.43(w)的距離。在另一方面,質(zhì)心偏離不大于0.40 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.39 (w)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.38 (w)的距離。
[0133]在另一實(shí)施例中，質(zhì)心可沿著限定長(zhǎng)度的本體1102的縱軸偏離幾何中點(diǎn)等于0.05長(zhǎng)度(I)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.1(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.15(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.18(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.2 (I)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.22(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.25(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.27(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.3(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.32(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.35(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心可偏離至少約0.38 (I)的距離。
[0134]在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.5(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于
0.49(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.48(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.45(1)的距離。在另一方面,質(zhì)心偏離不大于0.43(1)的距離。在另一方面,質(zhì)心偏離不大于0.40(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.39(1)的距離。在另一方面，質(zhì)心偏離不大于0.38 (I)的距離。
[0135]圖13和圖14示出了成形研磨晶粒的第六實(shí)施例，其通常指定為1300。如所示，成形研磨晶粒1300可包括本體1301，所述本體1301可包括沿著縱軸1304延伸的中心部分1302。第一徑向臂1306可沿著中心部分1302的長(zhǎng)度從中心部分1302向外延伸。第二徑向臂1308可沿著中心部分1302的長(zhǎng)度從中心部分1302向外延伸。第三徑向臂1310可沿著中心部分1302的長(zhǎng)度從中心部分1302向外延伸。此外，第四徑向臂1312可沿著中心部分1302的長(zhǎng)度從中心部分1302向外延伸。徑向臂1306、1308、1310、1312可圍繞成形研磨晶粒1300的中心部分1302相等間隔。
[0136]如圖13所示，第一徑向臂1306可包括總體箭形的遠(yuǎn)端1320。第二徑向臂1308可包括總體箭形的遠(yuǎn)端1322。第三徑向臂1310可包括總體箭形的遠(yuǎn)端1324。此外，第四徑向臂1312可包括總體箭形的遠(yuǎn)端1326。
[0137]圖13也表明，成形研磨晶粒1300可形成為具有在第一徑向臂1306與第二徑向臂1308之間的第一空隙1330。第二空隙1332可在第二徑向臂1308與第三徑向臂1310之間形成。第三空隙1334也可在第三徑向臂1310與第四徑向臂1312之間形成。另外，第四空隙1336可在第四徑向臂1312與第一徑向臂1306之間形成。
[0138]如圖13所示，成形研磨晶粒1300可包括長(zhǎng)度1340、高度1342和寬度1344。在一個(gè)特定方面，長(zhǎng)度1340大于高度1342，且高度1342大于寬度1344。在一個(gè)特定方面，成形研磨晶粒1300可限定主縱橫比，所述主縱橫比為長(zhǎng)度1340與高度1342的比例(長(zhǎng)度:高度)。此外，成形研磨晶粒1300可限定次縱橫比，所述次縱橫比為高度1342與寬度1344的比例(高度:寬度)。最后，成形研磨晶粒1300可限定第三縱橫比，所述第三縱橫比為長(zhǎng)度1340與寬度1342的比例(長(zhǎng)度:寬度)。
[0139]在一個(gè)特定方面，主縱橫比為至少1:1。在另一方面，主縱橫比為至少2: I。在另一方面，主縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少3: I。在另一方面，主縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少4: I。在另一方面，主縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少5: I。在另一方面，主縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少6: I。在另一方面，主縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少7: I。在另一方面，主縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少8: I。在另一方面，主縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少9: I。在另一方面，主縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少10: I。
[0140]在一個(gè)特定方面，次縱橫比為至少1:1。在另一方面，次縱橫比為至少1.5: I。在另一方面，次縱橫比為2: I。在另一方面，次縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少3: I。在另一方面，次縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少
4: I。在另一方面，次縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少5: I。在另一方面，次縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少6: I。在另一方面，次縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少7: I。在另一方面，次縱橫比為至少
7.5: 10在另一方面，次縱橫比為至少8: I。在另一方面，次縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少9: I。在另一方面，次縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少10: I。
[0141]在一個(gè)特定方面，第三縱橫比為至少1:1。在另一方面，第三縱橫比為至少1.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少2: I。在另一方面，第三縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少3: I。在另一方面，第三縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少4: I。在另一方面，第三縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少6: I。在另一方面，第三縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少7: I。在另一方面，第三縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少8: I。在另一方面，第三縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少9: I。在另一方面，第三縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少10: I。
[0142]在一個(gè)特定方面，成形研磨晶粒1300相對(duì)于主縱橫比的形狀為總體矩形，例如平坦或彎曲的。此外，成形研磨晶粒1300相對(duì)于次縱橫比的形狀可為任意多邊形形狀，例如三角形、方形、矩形、五邊形等。成形研磨晶粒1300相對(duì)于次縱橫比的形狀也可為具有任意字母數(shù)字字符(例如1、2、3等，A、B、C等)的形狀。此外，成形研磨晶粒1300相對(duì)于次縱橫比的形狀可為選自希臘字母、現(xiàn)代拉丁字母、古拉丁字母、俄語字母、任何其他字母或它們的任意組合的字符。此外，成形研磨晶粒1300相對(duì)于次縱橫比的形狀可為日本漢字字符。
[0143]在成形研磨晶粒1300的另一方面中，寬度1344大于高度1342，且高度1342大于長(zhǎng)度1340。在所述方面，成形研磨晶粒1300可限定主縱橫比，所述主縱橫比為寬度1344與高度1342的比例(寬度:高度)。此外，成形研磨晶粒1300可限定次縱橫比，所述次縱橫比為高度1342與長(zhǎng)度1340的比例(高度:長(zhǎng)度)。最后，成形研磨晶粒1300可限定第三縱橫比，所述第三縱橫比為寬度1342與長(zhǎng)度1340的比例(寬度:長(zhǎng)度)。
[0144]在一個(gè)特定方面，主縱橫比為至少2: I。在另一方面，主縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少3: I。在另一方面，主縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少4: I。在另一方面，主縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少5: I。在另一方面，主縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少6: I。在另一方面，主縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少7: I。在另一方面，主縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少8: I。在另一方面，主縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少9: I。在另一方面，主縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，主縱橫比為至少10: I。
[0145]在一個(gè)特定方面，次縱橫比為至少1.5: I。在另一方面，次縱橫比為2: I。在另一方面，次縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少3: I。在另一方面，次縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少4: I。在另一方面，次縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少5: I。在另一方面，次縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少6: I。在另一方面，次縱橫比為至少6.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少7: I。在另一方面，次縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少8: I。在另一方面，次縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少9: I。在另一方面，次縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，次縱橫比為至少10: I。
[0146]在一個(gè)特定方面，第三縱橫比為至少1.5: I。在另一方面，第三縱橫比為2: I。在另一方面，第三縱橫比為至少2.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少3: I。在另一方面，第三縱橫比為至少3.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少4: I。在另一方面，第三縱橫比為至少4.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少5.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少6: I。在另一方面，第三縱橫比為至少
6.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少7: I。在另一方面，第三縱橫比為至少7.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少8: I。在另一方面，第三縱橫比為至少8.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少9: I。在另一方面，第三縱橫比為至少9.5: I。在另一方面，第三縱橫比為至少10: I。
[0147]在一個(gè)特定方面，成形研磨晶粒1300相對(duì)于次縱橫比的形狀為總體矩形，例如平坦或彎曲的。此外，成形研磨晶粒1300相對(duì)于主縱橫比的形狀可為任意多邊形形狀，例如三角形、方形、矩形、五邊形等。成形研磨晶粒1300相對(duì)于主縱橫比的形狀也可為具有任意字母數(shù)字字符(例如1、2、3等，A、B、C等)的形狀。此外，成形研磨晶粒1300相對(duì)于主縱橫比的形狀可為選自希臘字母、現(xiàn)代拉丁字母、古拉丁字母、俄語字母、任何其他字母或它們的任意組合的字符。此外，成形研磨晶粒1300相對(duì)于主縱橫比的形狀可為日本漢字字符。
[0148]參照?qǐng)D15和圖16，顯示了成形研磨晶粒的第七實(shí)施例，其通常指定為1500。如所示，成形研磨晶粒1500可包括本體1501,所述本體1501包括平坦底部1502和總體圓頂形的頂部1504。圓頂形頂部1504可形成為具有第一邊緣1506、第二邊緣1508、第三邊緣1510、第四邊緣1512和第五邊緣1514。可了解，成形研磨晶粒1500可包括多于或少于五個(gè)邊緣 1506、1508、1510、1512、1514。此外，邊緣 1506、1508、1510、1512、1514可圍繞圓頂形頂部1504的中心徑向相等間隔。
[0149]在一個(gè)特定方面，圓頂形頂部1504的邊緣1506、1508、1510、1512、1514可通過將包含成形研磨晶粒1500的材料注射通過總體星形的噴嘴而形成?？闪私?，成形研磨晶粒1500的形狀可有利于成形研磨晶粒1500在下降或者沉積于背襯上時(shí)的取向。具體地，圓頂形頂部1504允許成形研磨晶粒1500滾動(dòng)至平坦底部1502上，從而確保邊緣從背襯面向外或面向上。
[0150]圖17和圖18示出了指定為1700的成形研磨晶粒的第八實(shí)施例。如所示，成形研磨晶粒1700可包括本體1701，所述本體1701包括平坦底部1702和總體圓頂形的頂部1704。圓頂形頂部1704可形成為具有峰1706。在一個(gè)特定方面，圓頂形頂部1704的峰1706可通過將包含成形研磨晶粒1700的材料注射通過總體圓形總體小的噴嘴而形成。可了解，成形研磨晶粒1700的形狀可有利于成形研磨晶粒1700在下降或者沉積于背襯上時(shí)的取向。具體地，圓頂形頂部1704和峰1706允許成形研磨晶粒1700滾動(dòng)至平坦底部1702上，從而確保峰1706和圓頂形頂部1704從背襯面向外或面向上。
[0151]參照?qǐng)D19和圖20，顯示了成形研磨晶粒的第九實(shí)施例，其通常指定為1900。如所示，成形研磨晶粒1900可包括本體1901，所述本體1901為具有六個(gè)外面1902和十二個(gè)1904邊緣的總體盒狀。此外,成形研磨晶粒1900可形成為具有平行于縱軸1908的通過成形研磨晶粒1900的總體X形的孔1906(即開口)，所述縱軸1908穿過成形研磨晶粒的中心1910。此外，X形孔1906的中心1912可與縱軸1908間隔距離1914。這樣，成形研磨晶粒1900的質(zhì)心1916可移動(dòng)至成形研磨晶粒1900的幾何中點(diǎn)1910之下。將質(zhì)心移動(dòng)至成形研磨晶粒的幾何中點(diǎn)以下可確保成形研磨晶粒1900在下降或者沉積于背襯時(shí)落在相同的面上。
[0152]可了解，X形孔1906可沿著通過成形研磨晶粒1900的幾何中點(diǎn)1910的縱軸1908形成。此外，可了解，X形孔1906可旋轉(zhuǎn)四十五度(45° )，在這種情況中，孔1906顯示為總體+形?？闪私?，在成形研磨晶粒1900中形成的孔1906可具有任意形狀:多邊形或其他。
[0153]圖21至圖23顯示了成形研磨晶粒的第十實(shí)施例，其通常指定為2100。如所示，成形研磨晶粒2100可包括本體2101，所述本體2101可具有第一端面2102和第二端面2104。在一個(gè)特定方面,取決于取向，第一端面2102可為底表面,第二端面2104可為上表面。此外，成形研磨晶粒2100可包括在第一端面2102與第二端面2104之間延伸的第一側(cè)面2106。第二側(cè)面2108可在第一端面2102與第二端面2104之間延伸。此外，第三側(cè)面2110可在第一端面2102與第二端面2104之間延伸。第四側(cè)面2112也可在第一端面2102與第二端面2104之間延伸。
[0154]如所示，第一端面2102和第二端面2104彼此平行。然而，在一個(gè)特定方面，第一端面2102相對(duì)于第二端面2104旋轉(zhuǎn)，以建立扭轉(zhuǎn)角2114。在一個(gè)特定方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約I度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約2度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約5度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約8度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約10度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約12度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約15度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約18度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約20度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約25度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約30度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約40度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約50度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約60度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約70度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約80度。在另一方面，扭轉(zhuǎn)角2114為至少約90度。
[0155]可了解，成形研磨晶粒的扭轉(zhuǎn)角2100可為水平扭轉(zhuǎn)角，即沿著限定長(zhǎng)度的本體2101的縱軸。在另一方面，成形研磨晶粒的扭轉(zhuǎn)角2100可為垂直扭轉(zhuǎn)角，即沿著限定本體2101的高度的垂直軸。
[0156]參照?qǐng)D24和圖25，顯示了成形研磨晶粒的第i^一實(shí)施例，其通常指定為2400。如所示，成形研磨晶粒2400可包括本體2401,所述本體2401可包括沿著縱軸2404延伸的中心部分2402。第一徑向臂2406可沿著中心部分2402的長(zhǎng)度從中心部分2402向外延伸。第二徑向臂2408可沿著中心部分2402的長(zhǎng)度從中心部分2402向外延伸。第三徑向臂2410可沿著中心部分2402的長(zhǎng)度從中心部分2402向外延伸。此外，第四徑向臂2412可沿著中心部分2402的長(zhǎng)度從中心部分2402向外延伸。徑向臂2406、2408、2410、2412可圍繞成形研磨晶粒2400的中心部分2402相等間隔。
[0157]如圖24所示，第一徑向臂2406可包括總體盒狀的遠(yuǎn)端2420。第二徑向臂2408可包括總體盒狀的遠(yuǎn)端2422。第三徑向臂2410可包括總體盒狀的遠(yuǎn)端2424。此外，第四徑向臂2412可包括總體盒狀的遠(yuǎn)端2426。
[0158]圖24和圖25進(jìn)一步顯示了成形研磨晶粒2400可形成為具有沿著縱軸2404的通過成形研磨晶粒2400的孔2428。如所示，孔2428的形狀可為總體三角形?？闪私?，在其他方面，在成形研磨晶粒2400中形成的孔2428可具有任意形狀:多邊形或其他。
[0159]圖26和圖27示出了成形研磨晶粒的第十二實(shí)施例，其通常指定為2600。如所示，成形研磨晶粒2600可包括本體2601，所述本體2601可包括沿著縱軸2604延伸的中心部分2602。第一徑向臂2606可沿著中心部分2602的長(zhǎng)度從中心部分2602向外延伸。第二徑向臂2608可沿著中心部分2602的長(zhǎng)度從中心部分2602向外延伸。第三徑向臂2610可沿著中心部分2602的長(zhǎng)度從中心部分2602向外延伸。此外，第四徑向臂2612可沿著中心部分2602的長(zhǎng)度從中心部分2602向外延伸。徑向臂2606、2608、2610、2612可圍繞成形研磨晶粒2600的中心部分2602相等間隔。
[0160]如圖26和圖27所示，第一徑向臂2606可包括形成為具有V形通道2622的總體盒狀的遠(yuǎn)端2620。第二徑向臂2608可包括形成為具有V形通道2626的總體盒狀的遠(yuǎn)端2624。第三徑向臂2610也可包括形成為具有V形通道2630的總體盒狀的遠(yuǎn)端2628。此夕卜，第四徑向臂2612可包括也形成為具有V形通道2634的總體盒狀的遠(yuǎn)端2632。
[0161]圖28和圖29示出了成形研磨晶粒的第十三實(shí)施例，其通常指定為2800。如所示，成形研磨晶粒2800可包括本體2801，所述本體2801可包括沿著縱軸2804延伸的中心部分2802。第一徑向臂2806可沿著中心部分2802的長(zhǎng)度從中心部分2802向外延伸。第二徑向臂2808可沿著中心部分2802的長(zhǎng)度從中心部分2802向外延伸。第三徑向臂2810可沿著中心部分2802的長(zhǎng)度從中心部分2802向外延伸。此外，第四徑向臂2812可沿著中心部分2802的長(zhǎng)度從中心部分2802向外延伸。徑向臂2806、2808、2810、2812可圍繞成形研磨晶粒2800的中心部分2802相等間隔。
[0162]如圖28和圖29所示，第一徑向臂2806可包括形成為具有凹狀通道2822的總體盒狀的遠(yuǎn)端2820。第二徑向臂2808可包括形成為具有凹狀通道2826的總體盒狀的遠(yuǎn)端2824。第三徑向臂2810也可包括形成為具有凹狀通道2830的總體盒狀的遠(yuǎn)端2828。此夕卜，第四徑向臂2812可包括也形成為具有凹狀通道2834的總體盒狀的遠(yuǎn)端2832。
[0163]圖30和圖31示出了成形研磨晶粒的第十四實(shí)施例，其通常指定為3000。如所示，成形研磨晶粒3000可包括本體3001，所述本體3001具有沿著縱軸3004延伸的中心部分3002。第一徑向臂3006可沿著中心部分3002的長(zhǎng)度從中心部分3002向外延伸。第二徑向臂3008可沿著中心部分3002的長(zhǎng)度從中心部分3002向外延伸。第三徑向臂3010可沿著中心部分3002的長(zhǎng)度從中心部分3002向外延伸。此外，第四徑向臂3012可沿著中心部分3002的長(zhǎng)度從中心部分3002向外延伸。徑向臂3006、3008、3010、3012可圍繞成形研磨晶粒3000的中心部分3002相等間隔。
[0164]如圖30所示，第一徑向臂3006可包括總體T形的遠(yuǎn)端3020。第二徑向臂3008可包括總體T形的遠(yuǎn)端3022。第三徑向臂3010可包括總體T形的遠(yuǎn)端3024。此外，第四徑向臂3012可包括總體T形的遠(yuǎn)端3026。
[0165]圖30也表明，成形研磨晶粒3000可形成為具有在第一徑向臂3006與第二徑向臂3008之間的第一空隙3030。第二空隙3032可在第二徑向臂3008與第三徑向臂3010之間形成。第三空隙3034也可在第三徑向臂3010與第四徑向臂3012之間形成。另外，第四空隙3036可在第四徑向臂3012與第一徑向臂3006之間形成。
[0166]圖32和圖33示出了成形研磨晶粒的第十五實(shí)施例，其通常指定為3200。如所示，成形研磨晶粒3200可包括本體3201，所述本體3201可包括沿著縱軸3204延伸的中心部分3202。第一徑向臂3206可沿著中心部分3202的長(zhǎng)度從中心部分3202向外延伸。第二徑向臂3208可沿著中心部分3202的長(zhǎng)度從中心部分3202向外延伸。第三徑向臂3210可沿著中心部分3202的長(zhǎng)度從中心部分3202向外延伸。此外，第四徑向臂3212可沿著中心部分3202的長(zhǎng)度從中心部分3202向外延伸。徑向臂3206、3208、3210、3212可圍繞成形研磨晶粒3200的中心部分3202相等間隔。
[0167]如圖32所示，第一徑向臂3206可包括總體圓T形的遠(yuǎn)端3220。第二徑向臂3208可包括總體圓T形的遠(yuǎn)端3222。第三徑向臂3210可包括總體圓T形的遠(yuǎn)端3224。此外，第四徑向臂3212可包括總體圓T形的遠(yuǎn)端3226。
[0168]圖32也表明，成形研磨晶粒3200可形成為具有在第一徑向臂3206與第二徑向臂3208之間的第一空隙3230。第二空隙3232可在第二徑向臂3208與第三徑向臂3210之間形成。第三空隙3234也可在第三徑向臂3210與第四徑向臂3212之間形成。另外，第四空隙3236可在第四徑向臂3212與第一徑向臂3206之間形成。
[0169]圖34和圖35示出了成形研磨晶粒的第十六實(shí)施例，其通常指定為3400。如所示，成形研磨晶粒3400可包括本體3401，所述本體3401具有沿著縱軸3404延伸的中心部分3402。中心部分3402可形成為具有沿著成形研磨晶粒3400的中心部分3402的整個(gè)長(zhǎng)度沿著縱軸3404的孔3406。
[0170]總體三角形的第一徑向臂3410可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸?？傮w三角形的第二徑向臂3412可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸?？傮w三角形的第三徑向臂3414可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸?？傮w三角形的第四徑向臂3416可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。此外，總體三角形的第五徑向臂3418可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。
[0171]如圖34和圖35進(jìn)一步顯示，總體三角形的第六徑向臂3420可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。總體三角形的第七徑向臂3422可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸?？傮w三角形的第八徑向臂3424可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸?？傮w三角形的第九徑向臂3426可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。此外，總體三角形的第十徑向臂3428可沿著中心部分3402的長(zhǎng)度從成形研磨晶粒3400的中心部分3402向外延伸。
[0172]在一個(gè)特定方面，徑向臂3410、3412、3414、3416、3418、3420、3422、3424、3426、3428可圍繞成形研磨晶粒的中心部分3402相等間隔以形成總體星形的第一端面3430、總體星形的第二端面3432和平行于端面3430、3432獲取的總體星形的橫截面。
[0173]參照?qǐng)D36和圖37，顯示了成形研磨晶粒的第十七實(shí)施例，其通常指定為3600。如所示，成形研磨晶粒3600可包括本體3601，所述本體3601具有第一端面3602和第二端面3604。在一個(gè)特定方面,取決于取向，第一端面3602可為底表面,第二端面3604可為上表面。此外，成形研磨晶粒3600可形成為沿著縱軸3608具有孔3606。如所示，孔3606可為總體盒狀。
[0174]圖36和圖37顯示成形研磨晶粒3600可包括在第一端面3602與第二端面3604之間延伸的總體K形的第一側(cè)面3610。成形研磨晶粒3600也可包括與總體K形的第一側(cè)面3610相對(duì)的在第一端面3602與第二端面3604之間延伸的總體K形的第二側(cè)面3612。
[0175]如所示，成形研磨晶粒3600可包括在第一 K形側(cè)面3610與第二 K形側(cè)面3612之間和在第一端面3602與第二端面3604之間延伸的總體平坦的第三側(cè)面3614。成形研磨晶粒3600也可包括與總體平坦的第三側(cè)面3614相對(duì)的在第一 K形側(cè)面3610與第二 K形側(cè)面3612之間延伸的總體平坦的第四側(cè)面3616。
[0176]圖38和圖39顯示了成形研磨晶粒的第十八實(shí)施例，其通常指定為3800。如所示，成形研磨晶粒3800可包括本體3801，所述本體3801具有第一端面3802和第二端面3804。在一個(gè)特定方面，取決于取向，第一端面3802可為底表面,第二端面3804可為上表面。成形研磨晶粒3800可包括在第一端面3802與第二端面3804之間延伸的總體K形的第一側(cè)面3806。此外，成形研磨晶粒3800可包括與總體K形第一側(cè)面3806相對(duì)、并在第一端面3802與第二端面3804之間延伸的總體平坦的第二側(cè)面3808。
[0177]如所示，成形研磨晶粒3800也可包括第三側(cè)面3810，所述第三側(cè)面3810在第一端面3802與第二端面3804之間和第一側(cè)面3806與第二側(cè)面3808之間延伸。此外，成形研磨晶粒3800可包括與第三側(cè)面3810相對(duì)的在第一端面3802與第二端面3804之間延伸的第四側(cè)面3812。
[0178]圖40和圖41顯示了成形研磨晶粒4000的第十九實(shí)施例。如圖40和圖41所示，成形研磨晶粒4000可包括本體4001，所述本體4001為具有第一端面4002和第二端面4004的總體棱柱狀。在一個(gè)特定方面，取決于取向，第一端面4002可為底表面,第二端面4004可為上表面。此外，成形研磨晶粒4000可包括在第一端面4002與第二端面4004之間延伸的第一側(cè)面4010。第二側(cè)面4012可與第一側(cè)面4010相鄰，在第一端面4002與第二端面4004之間延伸。如所示，成形研磨晶粒4000也可包括第三側(cè)面4014，所述第三側(cè)面4014與第二側(cè)面4012相鄰，在第一端面4002與第二端面4004之間延伸。此外，成形研磨晶粒4000可包括第四側(cè)面4016，所述第四側(cè)面4016與第三側(cè)面4014和第一側(cè)面4010相鄰，在第一端面4002與第二端面4004之間延伸。
[0179]如圖40和圖41所示，成形研磨晶粒4000也可包括在第一側(cè)面4010與第二側(cè)面4012之間的第一邊緣4020。成形研磨晶粒4000也可包括在第二側(cè)面4012與第三側(cè)面4014之間的第二邊緣4022。成形研磨晶粒4000可包括在第三側(cè)面4014與第四側(cè)面4016之間的第三邊緣4024。此外，成形研磨晶粒4000可包括在第四側(cè)面4016與第一側(cè)面4010之間的第四邊緣4026。
[0180]如所示，成形研磨晶粒4000的每個(gè)端面4002、4004可為總體菱形。每個(gè)側(cè)面4010、4012、4014、4016的形狀可為總體矩形。此外，在平行于端面4002、4004的平面中的成形研磨晶粒4000的橫截面為總體菱形。如所示，成形研磨晶粒4000也可包括沿著中心縱軸4032形成的孔4030?？?030可經(jīng)過成形研磨晶粒4000的中心。或者，孔4030可在任何方向上從成形研磨晶粒4000的中心偏移。
[0181]圖42和圖43示出了成形研磨晶粒的第二十實(shí)施例，其通常指定為4200。如所示，成形研磨晶粒4200可包括本體4201，所述本體4201包括總體圓形的第一端面4202和總體圓形的第二端面4204。在一個(gè)特定方面,取決于取向，第一端面4202可為底表面,第二端面4204可為上表面。在一個(gè)特定方面，第二端面4204的直徑可大于第一端面4202的直徑。
[0182]如所示，成形研磨晶粒4200可包括在第一端面4202與第二端面4204之間的連續(xù)側(cè)面4206。因此，成形研磨晶粒4200為總體截頭錐形。圖42和圖43進(jìn)一步表明，成形研磨晶粒4200可包括沿著中心縱軸4210形成的總體圓柱形孔4208。
[0183]現(xiàn)在參照?qǐng)D44至圖46，顯示了成形研磨晶粒的第二十一實(shí)施例，其通常指定為4400。成形研磨晶粒4400可包括本體4401，所述本體4401可包括總體三角形的第一端面4402和總體圓形的第二端面4404。在一個(gè)特定方面,取決于取向，第一端面4402可為上表面，第二端面4404可為底表面。
[0184]此外，成形研磨晶粒4400可包括在第一端面4402與第二端面4404之間延伸的第一側(cè)面4410。第二側(cè)面4412可與第一側(cè)面4410相鄰，在第一端面4402與第二端面4404之間延伸。如所示，成形研磨晶粒4400也可包括第三側(cè)面4414，所述第三側(cè)面4414與第二側(cè)面4412和第一側(cè)面4410相鄰，在第一端面4402與第二端面4404之間延伸。
[0185]如圖44和圖45所示，成形研磨晶粒4400也可包括在第一側(cè)面4410與第二側(cè)面4412之間的第一邊緣4420。成形研磨晶粒4400也可包括在第二側(cè)面4412與第三側(cè)面4414之間的第二邊緣4422。此外，成形研磨晶粒4400可包括在第三側(cè)面4414與第一側(cè)面4412之間的第三邊緣4424。
[0186]現(xiàn)在參照?qǐng)D47至圖49，顯示了成形研磨晶粒的第二十二實(shí)施例，其通常指定為4700。成形研磨晶粒4700可包括本體4701，所述本體4701具有總體方形的第一端面4702和總體圓形的第二端面4704。在一個(gè)特定方面,取決于取向，第一端面4702可為上表面,第二端面4704可為底表面。
[0187]此外，成形研磨晶粒4700可包括在第一端面4702與第二端面4704之間延伸的第一側(cè)面4710。第二側(cè)面4712可與第一側(cè)面4710相鄰，在第一端面4702與第二端面4704之間延伸。如所示，成形研磨晶粒4700也可包括第三側(cè)面4714，所述第三側(cè)面4714與第二側(cè)面4712相鄰，在第一端面4702與第二端面4704之間延伸。成形研磨晶粒4700也可包括與第三側(cè)面4714和第一側(cè)面4710相鄰的第四側(cè)面4716。
[0188]如圖47和圖48所示，成形研磨晶粒4700也可包括在第一側(cè)面4710與第二側(cè)面4712之間的第一邊緣4720。成形研磨晶粒4700也可包括在第二側(cè)面4712與第三側(cè)面4714之間的第二邊緣4722。此外，成形研磨晶粒4700可包括在第三側(cè)面4714與第四側(cè)面4716之間的第三邊緣4724。而且，成形研磨晶粒4700可包括在第四側(cè)面4716與第一側(cè)面4710之間的第四邊緣4726。
[0189]圖50至圖52顯示了成形研磨晶粒的第二十三實(shí)施例，其通常指定為5000。成形研磨晶粒5000可包括本體5001，所述本體5001具有總體加號(hào)(+)形的第一端面5002和總體圓形的第二端面5004。在一個(gè)特定方面，取決于取向，第一端面5002可為上表面，第二端面5004可為底表面。
[0190]此外，成形研磨晶粒5000可包括在第一端面5002與第二端面5004之間延伸的第一側(cè)面5010。第二側(cè)面5012可與第一側(cè)面5010相鄰，在第一端面5002與第二端面5004之間延伸。如所示，成形研磨晶粒5000也可包括第三側(cè)面5014，所述第三側(cè)面5014與第二側(cè)面5012相鄰，在第一端面5002與第二端面5004之間延伸。成形研磨晶粒5000也可包括與第三側(cè)面5014和第一側(cè)面5010相鄰的第四側(cè)面5016。
[0191]如圖50和圖51所示，成形研磨晶粒5000也可包括在第一側(cè)面5010與第二側(cè)面5012之間的第一空隙5020。成形研磨晶粒5000也可包括在第二側(cè)面5012與第三側(cè)面5014之間的第二空隙5022。此外，成形研磨晶粒5000可包括在第三側(cè)面5014與第四側(cè)面5016之間的第三空隙5024。而且，成形研磨晶粒5000可包括在第四側(cè)面5016與第一側(cè)面5010之間的第四空隙5026。
[0192]圖53至圖55顯示了成形研磨晶粒的第二十四實(shí)施例，其通常指定為5300。成形研磨晶粒5300可包括本體5301，所述本體5301具有總體加號(hào)(+)形的第一端面5302和總體圓加號(hào)(+)形的第二端面5304。在一個(gè)特定方面,取決于取向，第一端面5302可為上表面，第二端面5304可為底表面。
[0193]如所示，成形研磨晶粒5300可包括在第一端面5302與第二端面5304之間延伸的第一側(cè)面5310。第二側(cè)面5312可與第一側(cè)面5310相鄰,在第一端面5302與第二端面5304之間延伸。如所示，成形研磨晶粒5300也可包括第三側(cè)面5314，所述第三側(cè)面5314與第二側(cè)面5312相鄰，在第一端面5302與第二端面5304之間延伸。成形研磨晶粒5300也可包括與第三側(cè)面5314和第一側(cè)面5310相鄰的第四側(cè)面5316。
[0194]如圖53至圖55所示，成形研磨晶粒5300也可包括在第一側(cè)面5310與第二側(cè)面5312之間的第一空隙5320。成形研磨晶粒5300也可包括在第二側(cè)面5312與第三側(cè)面5314之間的第二空隙5322。此外，成形研磨晶粒5300可包括在第三側(cè)面5314與第四側(cè)面5316之間的第三空隙5324。而且，成形研磨晶粒5300可包括在第四側(cè)面5316與第一側(cè)面5310之間的第四空隙5326。
[0195]現(xiàn)在參照?qǐng)D56至圖58，顯示了成形研磨晶粒的第二十五實(shí)施例，其通常指定為5600。成形研磨晶粒5600可包括本體5601，所述本體5601具有總體圓形的第一端面5602和總體三角形的第二端面5604。第二端面5604比第一端面5602相對(duì)更大。在一個(gè)特定方面，取決于取向，第一端面5602可為上表面,第二端面5604可為底表面。
[0196]如所示，成形研磨晶粒5600可包括在第一端面5602與第二端面5604之間延伸的第一側(cè)面5610。第二側(cè)面5612可與第一側(cè)面5610相鄰，在第一端面5602與第二端面5604之間延伸。如所示，成形研磨晶粒5600也可包括第三側(cè)面5614，所述第三側(cè)面5614與第二側(cè)面5612和第一側(cè)面5610相鄰,在第一端面5602與第二端面5604之間延伸。
[0197]如圖56至圖58所示，成形研磨晶粒5600也可包括在第一側(cè)面5610與第二側(cè)面5612之間的第一邊緣5620。成形研磨晶粒5600也可包括在第二側(cè)面5612與第三側(cè)面5614之間的第二邊緣5622。此外，成形研磨晶粒5600可包括在第三側(cè)面5614與第一側(cè)面5612之間的第三邊緣5624。
[0198]參照?qǐng)D59至圖61，顯示了成形研磨晶粒的第二十六實(shí)施例，其通常指定為5900。成形研磨晶粒5900可包括本體5901，所述本體5901具有總體圓形的第一端面5902和總體方形的第二端面5904。在一個(gè)特定方面,第二端面5904比第一端面5902相對(duì)更大。在一個(gè)特定方面，取決于取向，第一端面5902可為上表面，第二端面5904可為底表面。
[0199]此外，成形研磨晶粒5900可包括在第一端面5902與第二端面5904之間延伸的第一側(cè)面5910。第二側(cè)面5912可與第一側(cè)面5910相鄰，在第一端面5902與第二端面5904之間延伸。如所示，成形研磨晶粒5900也可包括第三側(cè)面5914，所述第三側(cè)面5914與第二側(cè)面5912相鄰，在第一端面5902與第二端面5904之間延伸。成形研磨晶粒5900也可包括與第三側(cè)面5914和第一側(cè)面5910相鄰的第四側(cè)面5916。
[0200]如圖59至圖61所示，成形研磨晶粒5900也可包括在第一側(cè)面5910與第二側(cè)面5912之間的第一邊緣5920。成形研磨晶粒5900也可包括在第二側(cè)面5912與第三側(cè)面5914之間的第二邊緣5922。此外，成形研磨晶粒5900可包括在第三側(cè)面5914與第四側(cè)面5916之間的第三邊緣5924。而且，成形研磨晶粒5900可包括在第四側(cè)面5916與第一側(cè)面5910之間的第四邊緣5926。
[0201]本文描述的成形研磨晶粒中的一種或多種構(gòu)造為當(dāng)沉積于背襯上時(shí)以直立取向設(shè)置。此外，本文描述的實(shí)施例中的一種或多種可提供與特定的長(zhǎng)度:高度比、高度:寬度t匕、長(zhǎng)度:寬度比、寬度:高度比、高度:長(zhǎng)度比、寬度:長(zhǎng)度比或它們的組合相關(guān)的相對(duì)較高的縱橫比。高的縱橫比能夠制造具有開放涂層的涂布研磨結(jié)構(gòu)，即可增加相鄰成形研磨晶粒之間的距離。此外，開放涂層提供用于碎片間隙的更大空間，并可通過產(chǎn)生更好的切割或碾磨而降低功率消耗。
[0202]此外，在粘結(jié)磨料和薄輪應(yīng)用中，具有銳邊的具有高縱橫比的成形研磨晶粒允許制造具有更大孔隙率的磨輪。更大的孔隙率提供用于切屑和碎片間隙的更大空間，并可使更多的冷卻劑能夠流動(dòng)通過磨輪以提供更大的效率。
[0203]圖62A和B包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的用于形成成形磨粒的系統(tǒng)的圖示。形成成形磨粒的過程可通過形成包含陶瓷材料和液體的混合物6201而開始。特別地，混合物6201可為由陶瓷粉末材料和液體形成的凝膠，其中所述凝膠可特征在于為即使在未處理(即未燒制)狀態(tài)下也具有保持給定形狀的能力的形狀穩(wěn)定材料。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凝膠可包含粉末材料，所述粉末材料為分立粒子的整體網(wǎng)絡(luò)。
[0204]混合物6201可形成為具有特定含量的固體材料(如陶瓷粉末材料)。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，混合物6201可具有以混合物6201的總重量計(jì)至少約25wt %，如至少約35wt %，至少約38wt%，或甚至至少約42wt%的固體含量。而且，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，混合物6201的固體含量可不大于約75wt%,如不大于約70wt%,不大于約65wt%,或甚至不大于約55wt%。應(yīng)了解，混合物6201中的固體材料的含量可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0205]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，陶瓷粉末材料可包括氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物以及它們的組合。在特定情況中，陶瓷材料可包括氧化鋁。更具體地，陶瓷材料可包括勃姆石材料，所述勃姆石材料可為α氧化鋁的前體。術(shù)語“勃姆石”通常在本文用于表示氧化鋁水合物，包括礦物勃姆石(通常為Α1203.Η20,并具有大約15%的水含量)，以及擬薄水鋁石(具有高于15%的水含量，如20-38重量％)。應(yīng)注意，勃姆石(包括擬薄水鋁石)具有特定且可辨認(rèn)的晶體結(jié)構(gòu)，并因此具有獨(dú)特的X射線衍射圖案，且同樣可區(qū)別于其他鋁土材料，所述其他鋁土材料包括其他水合氧化鋁，如ATH (氫氧化鋁)(用于制造勃姆石顆粒材料的本文所用的常見前體材料)。
[0206]此外，混合物6201可形成為具有特定含量的液體材料。一些合適的液體可包括有機(jī)材料，如水。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，混合物6201可形成為具有小于混合物6201的固體含量的液體含量。在更特定的情況中，混合物6201可具有以混合物6201的總重量計(jì)至少約25wt%的液體含量。在其他情況中，混合物6201內(nèi)的液體量可更大，如至少約35wt%，至少約45wt%,至少約50wt%,或甚至至少約58wt%。而且,在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，混合物的液體含量可不大于約75wt%,如不大于約70wt%,不大于約65wt%,不大于約60wt%，或甚至不大于約55wt%。應(yīng)了解，混合物6201中的液體含量可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0207]此外，為了有利于加工和形成根據(jù)本文的實(shí)施例的成形磨粒，混合物6201可具有特定的儲(chǔ)能模量。例如，混合物6201可具有至少約IxlO4Pa,如至少約4xl04Pa，或甚至至少約5xl04Pa的儲(chǔ)能模量。然而，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，混合物6201可具有不大于約IxlO7Pa,如不大于約IxlO6Pa的儲(chǔ)能模量。應(yīng)了解，混合物6201的儲(chǔ)能模量可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)?？墒褂镁哂蠵eltier板溫度控制系統(tǒng)的ARES或AR-G2旋轉(zhuǎn)流變儀，經(jīng)由平行板系統(tǒng)測(cè)量?jī)?chǔ)能模量。對(duì)于測(cè)試，混合物6201可在兩個(gè)板之間的間隙內(nèi)擠出，所述兩個(gè)板設(shè)定為彼此分離大約8_。在將混合物擠出至間隙中之后，將限定間隙的兩個(gè)板之間的距離降低至2mm，直至混合物6201完全填充板之間的間隙。在擦去過量的混合物之后，間隙減小0.1mm,開始測(cè)試。測(cè)試為使用25-mm平行板且每十進(jìn)位記錄10個(gè)點(diǎn)，在6.28rad/s (IHz)下使用0.1%至100%之間的應(yīng)變范圍的儀器設(shè)置進(jìn)行的振動(dòng)應(yīng)變掃描測(cè)試。在測(cè)試完成之后I小時(shí)內(nèi)，再次減小間隙0.1mm并重復(fù)測(cè)試。測(cè)試可重復(fù)至少6次。第一測(cè)試可不同于第二和第三測(cè)試。僅應(yīng)該記錄每個(gè)試樣的來自第二和第三測(cè)試的結(jié)果。
[0208]此外，為了有利于加工和形成根據(jù)本文的實(shí)施例的成形磨粒，混合物6201可具有特定的粘度。例如，混合物6201可具有至少約4xl03Pa s,至少約5xl03Pa s,至少約6xl03Pas,至少約8xl03Pa s,至少約1xlO3Pa s,至少約20xl03Pa s,至少約30xl03Pa s,至少約40xl03Pa s,至少約50xl03Pa s,至少約60xl03Pa s,或甚至至少約65xl03Pa s的粘度。在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，混合物6201可具有不大于約IxlO6Pa s,不大于約5xl05Pa s,不大于約3xl05Pa s，或甚至不大于約2xl05Pa s的粘度。應(yīng)了解，混合物6201的粘度可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)?？赏ㄟ^儲(chǔ)能模量值除以6.28s-l而計(jì)算粘度。
[0209]此外，混合物6201可形成為具有特定含量的有機(jī)材料，以有利于加工和形成根據(jù)本文的實(shí)施例的成形磨粒，所述有機(jī)材料包括例如可不同于液體的有機(jī)添加劑。一些合適的有機(jī)添加劑可包括穩(wěn)定劑、粘結(jié)劑，如果糖、蔗糖、乳糖、葡萄糖、UV可固化樹脂等。
[0210]特別地，本文的實(shí)施例可使用不同于在常規(guī)流延成型操作中所用的漿料的混合物6201。例如，相比于混合物6201內(nèi)的其他組分，混合物6201內(nèi)的有機(jī)材料的含量，特別是上述有機(jī)添加劑中的任意者的含量可為較小量。在至少一個(gè)實(shí)施例中，混合物6201可形成為具有以混合物6201的總重量計(jì)不大于約30wt%的有機(jī)材料。在其他情況中，有機(jī)材料的量可更少，如不大于約15wt%,不大于約1wt或甚至不大于約5wt%。而且,在至少一個(gè)非限制性實(shí)施例中，混合物6201內(nèi)的有機(jī)材料的量以混合物6201的總重量計(jì)可為至少約
0.lwt%，如至少約0.5wt%。應(yīng)了解，混合物6201中的有機(jī)材料的量可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0211]此外，混合物6201可形成為具有特定含量的不同于液體的酸或堿，以有利于加工和形成根據(jù)本文的實(shí)施例的成形磨粒。一些合適的酸或堿可包括硝酸、硫酸、檸檬酸、氯酸、酒石酸、磷酸、硝酸銨、檸檬酸銨。根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例，通過使用檸檬酸添加劑，混合物6201可具有小于約5，更特別地在約2至約4之間的范圍內(nèi)的pH。
[0212]參見圖62，系統(tǒng)6200可包括沖模6203。如所示，混合物6201可在沖模6203的內(nèi)部?jī)?nèi)提供，并配置為被擠出通過設(shè)置于沖模6203的一端的?？?6205。如進(jìn)一步所示，成型可包括在混合物6201上施加力6280(其可轉(zhuǎn)化為壓力)，以有利于將混合物6201移動(dòng)通過?？?6205。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，在擠出過程中可使用特定的壓力。例如，壓力可為至少約1kPa,如至少約500kPa。而且，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，在擠出過程中所用的壓力可不大于約4MPa。應(yīng)了解,用于擠出混合物6201的壓力可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0213]在某些系統(tǒng)中，沖模6203可包括具有特定形狀的?？?6205。應(yīng)了解，?？?6205可成形為在擠出過程中賦予混合物6201特定的形狀。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，?？?6205可具有矩形形狀。此外，擠出通過?？?6205的混合物6201可具有與模口 6205基本上相同的橫截面形狀。如進(jìn)一步所示，混合物6201可以以片材6211的形式擠出至沖模6203下方的帶6209上。在具體情況中，混合物6201可以以片材6211的形式直接擠出至帶6209上，這可有利于連續(xù)加工。
[0214]根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例，帶可成型為具有覆蓋基材的膜，其中所述膜可為構(gòu)造為促進(jìn)成形磨粒的加工和形成的材料的分立的分別的層。過程可包括將混合物6201直接提供于帶的膜上，以形成片材6211。在某些情況中，膜可包括聚合物材料，如聚酯。在至少一個(gè)特定實(shí)施例中，膜可基本上由聚酯組成。
[0215]在一些實(shí)施例中，帶6209可在將混合物6201移動(dòng)通過模口 6205的同時(shí)平移。如系統(tǒng)6200中所示，混合物6201可在方向6291上擠出。帶6209的平移方向6210可相對(duì)于混合物的擠出方向6291成角度。盡管平移方向6210與擠出方向6291之間的角度顯示為在系統(tǒng)6200中基本上正交，但也預(yù)期其他角度，包括例如銳角或鈍角。帶6209可以以特定速率平移，以有利于加工。例如，帶6209可以以至少約3cm/s,如至少約4cm/s,至少約6cm/s,至少約8cm/s,或甚至至少約10cm/s的速率平移。而且，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，帶6209可以以不大于約5m/s,如不大于約lm/s,或甚至不大于約0.5m/s的速率在方向6210上平移。應(yīng)了解，帶6209可以以在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)的速率平移。
[0216]對(duì)于根據(jù)本文的實(shí)施例的某些過程，相比于在方向6291上的混合物6201的擠出速率，可控制帶6209的平移速率，以有利于適當(dāng)?shù)募庸?。例如，?209的平移速率可與擠出速率基本上相同，以確保合適的片材6211的形成。
[0217]在混合物6201擠出通過?？?6205之后，可在附接至沖模6203的表面的刀口 6207的下方沿著帶6209平移混合物6201。刀口 6207可有利于形成片材6211。更特別地，刀口6207的表面與帶6209之間限定的開口可限定經(jīng)擠出的混合物6201的特定尺寸。對(duì)于某些實(shí)施例，混合物6201可以以片材6211的形式擠出，當(dāng)在由片材6211的高度和寬度限定的平面中觀察時(shí)，所述片材6211具有總體矩形的橫截面形狀。盡管擠出物顯示為片材，但可擠出其他形狀，包括例如圓柱體形狀等。
[0218]由混合物6201形成片材6211的過程可包括控制特定特征和過程參數(shù)，以有利于適當(dāng)形成具有如本文的實(shí)施例中提供的一個(gè)或多個(gè)特征的成形磨粒。例如，在某些情況中，由混合物6201形成片材6211的過程可包括形成具有特定高度6281的片材6211，所述特定高度6281部分通過刀口 6207與帶6209的表面之間的距離進(jìn)行控制。此外，應(yīng)注意片材6211的高度6281可通過變化刀口 6207與帶6209的表面之間的距離而進(jìn)行控制。另外，將混合物6201成型為片材6211可包括部分基于混合物6201的粘度而控制片材6211的尺寸。特別地，形成片材6211可包括基于混合物6201的粘度而調(diào)節(jié)片材6211的高度6281。
[0219]片材6211可具有特定尺寸，包括例如長(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，片材6211可具有在平移帶6209的方向上延伸的長(zhǎng)度，所述長(zhǎng)度可大于寬度，其中片材6211的寬度為在垂直于帶6209的長(zhǎng)度且垂直于片材的長(zhǎng)度的方向上延伸的尺寸。片材6211可具有高度6281，其中長(zhǎng)度和寬度大于片材6211的高度6281。
[0220]特別地，片材6211的高度6281可為從帶6209的表面豎直延伸的尺寸。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，片材6211可形成為具有高度6281的特定尺寸，其中所述高度可為來自多次測(cè)量的片材6211的平均高度。例如，片材6211的高度6281可為至少約0.1mm，如至少約0.5mm。在其他情況中，片材6211的高度6281可更大,如至少約0.8mm,至少約Imm,至少約1.2mm,至少約1.6mm，或甚至至少約2mm。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，片材6211的高度6281可不大于約1mm,不大于約5mm,或甚至不大于約2mm。應(yīng)了解,片材6211可具有在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)的平均高度。
[0221]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，片材6211可具有長(zhǎng)度(I)、寬度(W)和高度(h)，其中長(zhǎng)度彡寬度彡高度。此外，片材6211可具有至少約10，如至少約100，至少約1000或甚至至少約1000的長(zhǎng)度:高度的次縱橫比。
[0222]在從沖模6203擠出混合物6201之后，片材6211可沿著帶6209的表面在方向6212上平移。片材6211沿著帶6209的平移可有利于進(jìn)一步加工，以形成前體成形磨粒。例如，片材6211可在成形區(qū)6213內(nèi)經(jīng)歷成形過程，這可。在特定情況中，成形過程可包括將片材6211的表面(包括例如片材6211的上主表面6217)成形，這可使用成形制品6215完成。在其他實(shí)施例中，片材的其他主表面可經(jīng)歷成形，包括例如底表面或側(cè)表面。對(duì)于某些過程，成形可包括通過一個(gè)或多個(gè)過程而改變片材的輪廓，所述一個(gè)或多個(gè)過程例如壓花、輥軋、切割、雕刻、圖案化、拉伸、扭轉(zhuǎn)和它們的組合。
[0223]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，形成成形磨粒的過程還可包括沿著帶6209平移片材通過成型區(qū)6221。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，形成成形磨粒的過程還可包括將片材6211切片，以形成前體成形磨粒6223。例如，在某些情況中，成型可包括將片材6211的一部分穿孔。在其他情況中，成型過程可包括將片材6211圖案化以形成圖案化片材，并從所述圖案化片材上提取形狀。
[0224]特定的成型過程可包括切割、壓制、沖壓、粉碎、輥軋、扭轉(zhuǎn)、彎曲、干燥和它們的組合。在一個(gè)實(shí)施例中，成型過程可包括片材6211的切片。片材6211的切片可包括使用可為氣體、液體或固體材料的形式的至少一種機(jī)械物體。切片過程可包括切割、壓制、沖壓、粉碎、輥軋、扭轉(zhuǎn)、彎曲和干燥中的至少一者或它們的組合。此外，應(yīng)了解切片可包括通過片材6211的一部分穿孔或產(chǎn)生部分開口，其可不延伸通過片材6211的整個(gè)高度。在另一實(shí)施例中，片材6211的切片可包括使用機(jī)械物體，所述機(jī)械物體包括一個(gè)或多個(gè)刀片、線材、盤和它們的組合。
[0225]切片過程可在單個(gè)切片過程中產(chǎn)生不同類型的成形磨粒。不同類型的成形磨粒可由本文的實(shí)施例的相同過程形成。不同類型的成形磨粒包括具有第一二維形狀的第一類型的成形磨粒和具有相比于所述第一二維形狀不同的二維形狀的第二類型的成形磨粒。此夕卜，不同類型的成形磨粒的尺寸可彼此不同。例如，不同類型的成形磨粒相比于彼此可具有不同的體積。能夠形成不同類型的成形磨粒的單個(gè)過程可特別適用于制備某些類型的磨粒。
[0226]切片可包括將機(jī)械物體移動(dòng)通過片材6211的一部分，并在片材6211內(nèi)產(chǎn)生開口。特別地，片材可形成為具有開口，所述開口延伸至片材的體積中，并由某些表面限定。開口可限定延伸通過片材的整個(gè)高度的至少一部分的切口。應(yīng)了解，開口不必延伸通過片材的全部高度。在某些情況中，切片的方法可包括保持片材中的開口。在通過機(jī)械物體將片材切片之后保持開口可有利于適當(dāng)形成成形磨粒和成形磨粒的特征和成形磨粒的批料的特征。保持開口可包括至少部分干燥限定開口的片材的至少一個(gè)表面。至少部分干燥的過程可包括在開口處引導(dǎo)干燥材料。干燥材料可包括液體、固體或甚至氣體。根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例，干燥材料可包括空氣。受控干燥可有利于形成根據(jù)本文的實(shí)施例的成形磨粒。
[0227]在某些情況中，可在充分干燥片材之前進(jìn)行切片過程。例如，可在從片材上蒸發(fā)不大于約20%的液體(相比于在片材的最初形成過程中片材的初始液體含量)之前進(jìn)行切片。在其他實(shí)施例中，在切片之前或在切片過程中允許發(fā)生的蒸發(fā)的量可更小，例如不大于片材的初始液體含量的約15%，不大于片材的初始液體含量的約12%，不大于片材的初始液體含量的約10%，不大于片材的初始液體含量的約8%，或甚至不大于片材的初始液體含量的約4%。
[0228]再次參照?qǐng)D62A和62B，在形成前體成形磨粒6223之后，可使粒子平移通過后成型區(qū)6225。各種過程可在后成型區(qū)6225中進(jìn)行，包括例如加熱、固化、振動(dòng)、浸潰、摻雜和它們的組合。
[0229]在一個(gè)實(shí)施例中，后成型區(qū)6225包括加熱過程，其中可干燥前體成形磨粒6223。干燥可包括去除特定含量的材料(包括揮發(fā)物，如水)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，干燥過程可在不大于300°C，如不大于280°C或甚至不大于約250°C的干燥溫度下進(jìn)行。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，干燥過程可在至少50°C的干燥溫度下進(jìn)行。應(yīng)了解，干燥溫度可在上述最小溫度和最大溫度中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0230]此外，前體成形磨粒6223可以以特定速率(如至少約0.2英尺/min且不大于約8英尺/min)平移通過后成型區(qū)。此外，干燥過程可進(jìn)行特定持續(xù)時(shí)間。例如，干燥過程可不大于約6小時(shí)。
[0231]在前體成形磨粒6223平移通過后成型區(qū)6225之后，可從帶6209上移出粒子。前體成形磨粒6223可在料箱6227中收集以用于進(jìn)一步加工。
[0232]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，形成成形磨粒的過程還可包括燒結(jié)過程?？稍趶膸?209上收集前體成形磨粒6223之后進(jìn)行燒結(jié)過程。前體成形磨粒6223的燒結(jié)可用于將通常為未處理狀態(tài)的粒子致密化。在一個(gè)特定情況中，燒結(jié)過程可有利于形成陶瓷材料的高溫相。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，可燒結(jié)前體成形磨粒6223，從而形成氧化鋁的高溫相，如α氧化鋁。在一個(gè)情況中，成形磨粒以粒子總重量計(jì)可包含至少約9(^丨％的α氧化鋁。在其他情況中，α氧化鋁的含量可更大，使得成形磨?？苫旧嫌搔裂趸X組成。
[0233]圖63包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的用于形成成形磨粒的系統(tǒng)的圖示。特別地，系統(tǒng)6300可通常包括形成成形磨粒的絲網(wǎng)印刷過程。然而，如本文所述，可改變系統(tǒng)的某些部分以進(jìn)行模制過程。如所示，系統(tǒng)6300可包括構(gòu)造為在輥6370與6371之間平移的絲網(wǎng)6351。應(yīng)了解，如果需要，絲網(wǎng)6351可在多個(gè)輥或其他裝置上平移。如所示，系統(tǒng)6300可包括構(gòu)造為在輥6372和6373上在方向6316上平移的帶6309。應(yīng)了解，如果需要，帶6309可在多個(gè)輥或其他裝置上平移。
[0234]如所示，系統(tǒng)6300還可包括沖模6303，所述沖模6303構(gòu)造為進(jìn)行包含于沖模6303的貯存器6302內(nèi)的混合物6301的擠出。形成成形磨粒的過程可通過形成包含如本文所述的陶瓷材料和液體的混合物6301而開始。
[0235]混合物6301可在沖模6303的內(nèi)部?jī)?nèi)提供，并配置為被擠出通過設(shè)置于沖模6303的一端的?？?6305。如進(jìn)一步所示，擠出可包括在混合物6301上施加力(或壓力)，以有利于將混合物6301擠出通過?？?6305。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，可在擠出過程中使用特定壓力。例如,壓力可為至少約1kPa,如至少約500kPa。而且，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，在擠出過程中所用的壓力可不大于約4MPa。應(yīng)了解，用于擠出混合物6301的壓力可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0236]在特定情況中，混合物6301可在接近絲網(wǎng)6351的沖模6303的端部處擠出通過?？?6305。絲網(wǎng)6351可以以特定速率在方向6353上平移，以有利于合適的加工。特別地，絲網(wǎng)6351可平移通過包括模口 6305的施用區(qū)6383，以有利于形成前體成形磨粒。絲網(wǎng)6351可以以至少約3cm/s,如至少約4cm/s,至少約6cm/s,至少約8cm/s,或甚至至少約10cm/s的速率平移通過施用區(qū)。而且，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，絲網(wǎng)6351可以以不大于約5m/s,如不大于約lm/s,或甚至不大于約0.5m/s的速率在方向6353上平移。應(yīng)了解,絲網(wǎng)6351可以以在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)的速率平移。
[0237]另外，帶6309可以以特定速率在方向6316上平移，以有利于合適的加工。例如，帶6309可以以至少約3cm/s,如至少約4cm/s,至少約6cm/s,至少約8cm/s,或甚至至少約10cm/s的速率平移。而且，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，帶6309可以以不大于約5m/s，如不大于約lm/s，或甚至不大于約0.5m/s的速率在方向6316上平移。應(yīng)了解，帶6309可以以在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)的速率平移。
[0238]根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例，絲網(wǎng)6351可以以與帶6309的平移速率相比特定的速率平移。例如，在施用區(qū)6383內(nèi)，絲網(wǎng)6351可以以與帶6309的平移基本上相同的速率平移。即，絲網(wǎng)與帶之間平移速率的差異以絲網(wǎng)6351的平移速率計(jì)可不大于約5%，如不大于約3%，或甚至不大于約1%。
[0239]如所示，系統(tǒng)6300可包括施用區(qū)6383，所述施用區(qū)6383包括?？?6305。在施用區(qū)6383內(nèi)，混合物6301可從沖模6303擠出并直接至絲網(wǎng)6351上。更特別地，混合物6301的一部分可從?？?6305擠出，并進(jìn)一步擠出通過絲網(wǎng)6351中的一個(gè)或多個(gè)開口至下方的帶6309上。
[0240]簡(jiǎn)略參照?qǐng)D64，示出了絲網(wǎng)6451的一部分。如所示，絲網(wǎng)6451可包括開口 6452，更特別地包括多個(gè)開口 6452。開口可延伸通過絲網(wǎng)6451的體積，以有利于混合物6301通過開口至帶6309上。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，當(dāng)在由絲網(wǎng)的長(zhǎng)度(I)和寬度(w)限定的平面中觀察時(shí)，開口 6452可具有二維形狀。盡管開口 6452顯示為具有三叉星二維形狀，但可預(yù)期其他形狀。例如，開口 6452可具有二維形狀，如多邊形、橢圓形、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的復(fù)雜形狀，以及它們的組合。在特定情況中，開口 6452可具有二維多邊形形狀，如三角形、矩形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形、九邊形、十邊形，和它們的組合。此外，絲網(wǎng)6451可形成為包括具有多種不同二維形狀的開口 6452的組合。
[0241]發(fā)現(xiàn)加工的某些方面有利于形成根據(jù)本文的實(shí)施例的成形磨粒。特別地，發(fā)現(xiàn)開口相對(duì)于模頭的取向?qū)Τ尚文チ５男螤罹哂杏绊?。特別地，應(yīng)注意當(dāng)開口如圖64所示排列時(shí)(其中開口的點(diǎn)6455首先被混合物6301填充)，具有本文描述的特征的成形磨粒適當(dāng)?shù)匦纬?。在其他取向中，其中例如與開口 6452的點(diǎn)(例如6455)相反，開口的側(cè)面6456首先被填充，應(yīng)注意成形磨粒具有某些較不合適的特征。
[0242]再次參照?qǐng)D63，在迫使混合物6301通過模口 6305，并迫使混合物6301的一部分通過絲網(wǎng)6351中的開口 6352之后，前體成形磨粒6353可在設(shè)置于絲網(wǎng)6351下方的帶6309上印刷。根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例，前體成形磨粒6353可具有基本上復(fù)制開口 6352的形狀的形狀。
[0243]在將混合物6301擠出至絲網(wǎng)6351的開口 6352中之后，帶6309和絲網(wǎng)6351可平移至排放區(qū)6385，其中帶6309和絲網(wǎng)6351可分離以有利于形成前體成形磨粒。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，絲網(wǎng)6351和帶6309可以以特定的排放角度6355在排放區(qū)6385內(nèi)彼此分離。根據(jù)具體實(shí)施例，排放角度6355可為絲網(wǎng)6351的下表面6354與帶6309的上表面6356之間的角度的量度。
[0244]特別地，可以以快速方式迫使混合物6301通過絲網(wǎng)6351，使得混合物6301在開口 152內(nèi)的平均停留時(shí)間可小于約2分鐘，小于約I分鐘，小于約40秒，或甚至小于約20秒。在特定的非限制性實(shí)施例中，混合物6301可在行進(jìn)通過絲網(wǎng)開口 6352時(shí)的印刷過程中基本上不改變，因此不經(jīng)歷組分的量的改變，并可不經(jīng)歷絲網(wǎng)6351的開口 6352中的顯著干燥。
[0245]在一個(gè)可選擇的實(shí)施例中，成型過程可包括模制過程。模制過程可使用系統(tǒng)6300的相同部件中的一些，然而，絲網(wǎng)可被模制坯料代替，所述模制坯料在用于模制混合物6301的基材材料內(nèi)具有開口。特別地，不同于絲網(wǎng)，模制坯料可具有部分延伸通過坯料的整個(gè)厚度的開口，使得開口不是從一個(gè)主表面延伸至坯料的相對(duì)主表面的孔穴。相反，模具開口可在內(nèi)部體積內(nèi)具有底表面，所述底表面旨在形成在其中形成的前體成形磨粒的主表面。此夕卜，模制系統(tǒng)不必使用在模制坯料下方的帶。
[0246]成型過程也可使用特定的干燥過程，以有利于形成具有本文的實(shí)施例的特征的成形磨粒。特別地，干燥過程可包括在包括適用于限制成形磨粒的變形的濕度、溫度和大氣壓和組成的條件下干燥。
[0247]據(jù)發(fā)現(xiàn)，不同于形成具有典型多邊形形狀的成形磨粒，形成復(fù)雜形狀的過程(特別是使用復(fù)制過程)需要控制一個(gè)或多個(gè)過程參數(shù)，包括干燥條件、潤(rùn)滑劑的量和類型、在擠出過程中施加至混合物的壓力、坯料或帶的材料等。在特定情況中，據(jù)發(fā)現(xiàn)可使用不銹鋼或聚碳酸酯聚合物的帶或坯料。此外，據(jù)發(fā)現(xiàn)使用天然油材料(例如菜籽油)作為坯料或帶的開口上的潤(rùn)滑劑可有利于改進(jìn)地形成成形磨粒。
[0248]成形磨粒的主體可包括可為單質(zhì)或化合物(例如氧化物)的形式的添加劑，如摻雜劑。某些合適的添加劑可包括堿金屬元素、堿土金屬元素、稀土元素、鉿(Hf)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉭(Ta)、鑰(Mo)和它們的組合。在特定情況中，添加劑可包括諸如如下的元素:鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)、鎂(Mg)、鈣(Ca)、鍶(Sr)、鋇(Ba)、鈧(Sc)、釔(Y)、鑭(La)、銫(Ce)、鐠(Pr)、鈮(Nb)、鉿(Hf)、鋯(Zr)、鉭(Ta)、鑰(Mo)、釩(V)、鉻(Cr)、鈷(Co)、鐵(Fe)、鍺(Ge)、錳(Mn)、鎳(Ni)、鈦(Ti)、鋅(Zn)和它們的組合。
[0249]成形研磨制品的主體可包含特定含量的添加劑(例如摻雜劑)。例如,成形磨粒的主體以主體的總重量計(jì)可包含不大于約12wt%的添加劑。在其他實(shí)施例中，添加劑的量可更小，如不大于約llwt%,不大于約10wt%,不大于約9wt%,不大于約8wt%,不大于約7wt %，不大于約6wt %，或甚至不大于約5wt %。而且，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，添加劑的量可為至少約0.5wt%,如至少約Iwt %,至少約1.3wt %,至少約1.8wt%,至少約2wt%，至少約2.3wt%，至少約2.8wt%，或甚至至少約3wt%。應(yīng)了解，成形磨粒的主體內(nèi)的添加劑的量可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0250]圖65A包括根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例形成的成形磨粒的俯視圖圖像。如所示，當(dāng)以二維觀察時(shí)，成形磨粒6500可限定星形本體。特別地，成形磨粒6500可包括本體6501，所述本體6501具有中心部分6502和從中心部分6502延伸的第一臂6503、第二臂6504和第三臂6505。本體6501可具有作為沿著粒子的側(cè)面的最長(zhǎng)尺寸測(cè)得的長(zhǎng)度(I)、作為從側(cè)面的中點(diǎn)6553通過本體6501的中點(diǎn)6590至第一臂6503的第一頂端6506之間的粒子的最長(zhǎng)尺寸測(cè)得的寬度(W)。寬度可在垂直于長(zhǎng)度的維度的方向上延伸。本體6501可具有高度(h),所述高度(h)在垂直于本體6501的上表面6510的方向上延伸，從而限定上表面與底表面6511之間的第三側(cè)表面6556，如圖65B所示，圖65B為圖65A的粒子的圖像的側(cè)視圖圖示。
[0251]成形磨粒6500可具有由從中心部分6502延伸的第一臂6503、第二臂6504和第三臂6505限定的三叉星的形式的主體6501。根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例，所述臂中的至少一者(包括例如第一臂6503)可具有小于中心部分寬度6512的中點(diǎn)寬度6513。中心部分6502可限定為分別在第一側(cè)表面6554、第二側(cè)表面6555和第三側(cè)表面6556的中點(diǎn)6551、6552和6553之間的區(qū)域。第一臂6503的中心部分寬度6512可為中點(diǎn)6551與6552之間的尺寸的寬度。中點(diǎn)寬度6513可為沿著第一軸線6560在中心部分寬度6510的線與第一臂6503的頂端6506之間的中點(diǎn)處的線的寬度。在某些情況中，中點(diǎn)寬度6513可不大于中心部分寬度6512的約90 %，如不大于約80 %，不大于約70 %，不大于約65 %，或甚至不大于約60 %。而且，中點(diǎn)寬度6513可為中心部分寬度6510的至少約10%，如至少約20%，至少約30%，或甚至至少約40%。應(yīng)了解，中點(diǎn)寬度6513可具有在如上最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)的相對(duì)于中心部分寬度6512的寬度。
[0252]此外，本體6501可具有至少一個(gè)臂，如第一臂6503，所述至少一個(gè)臂具有小于中點(diǎn)寬度6513的在第一臂6503的頂端6506處的頂端寬度6514。在其中頂端6506尖銳形成的這種情況中，頂端寬度6514可被認(rèn)為是O。在其中頂端6506具有曲率半徑的情況中，頂端寬度6514可被認(rèn)為是由曲率半徑限定的圓的直徑。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，頂端寬度6514可不大于中點(diǎn)寬度6513的約90%，如不大于中點(diǎn)寬度6513的約80%，不大于中點(diǎn)寬度6513的約70%，不大于中點(diǎn)寬度6513的約60%，不大于中點(diǎn)寬度6513的約50%，不大于中點(diǎn)寬度6513的約40%，不大于中點(diǎn)寬度6513的約30%，不大于中點(diǎn)寬度6513的約20%，或甚至不大于中點(diǎn)寬度6513的約10%。而且，在某些非限制性的實(shí)施例中，頂端寬度6514可為中點(diǎn)寬度6513的至少約1%，如至少約2%，至少約3%，至少約5%，或甚至至少約10%。應(yīng)了解，頂端寬度6514可具有在如上最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)的相對(duì)于中點(diǎn)寬度6513的寬度。
[0253]如進(jìn)一步所不,本體6501可具有包括第一頂端6506的第一臂6503,所述第一頂端6506限定第一側(cè)表面6554與第二側(cè)表面6555之間的第一頂端角6521。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第一頂端角可小于約60度，如不大于約55度，不大于約50度，不大于約45度，或甚至不大于約40度。而且，第一頂端角可為至少約5度，如至少約8度，至少約10度，至少約15度，至少約20度，至少約25度，或甚至至少約30度。第一頂端角可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0254]本體6501可包括具有第二頂端6507的第二臂6504，所述第二頂端6507限定第二側(cè)表面6555與第三側(cè)表面6556之間的第二頂端角6522。第二頂端角可與第一頂端角基本上相同，如在角度數(shù)值的5%內(nèi)?；蛘撸诙敹私强上鄬?duì)于第一頂端角顯著不同。
[0255]本體6501可包括具有第三頂端6508的第三臂6505，所述第三頂端6508限定第一側(cè)表面6554與第三側(cè)表面6556之間的第三頂端角6523。第三頂端角可與第一頂端角或第二頂端角基本上相同，如在角度數(shù)值的5%內(nèi)?；蛘?，第三頂端角可相對(duì)于第一頂端角或第二頂端角顯著不同。
[0256]本體6501可具有可小于約180度的總角度，所述總角度為第一頂端角、第二頂端角和第三頂端角的值的和。在其他實(shí)施例中，總角度可不大于約175度，如不大于約170度，不大于約165度，不大于約150度，如不大于約140度，不大于約130度，不大于約125度，或甚至不大于約120度。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，本體6501可具有至少約60度，如至少約70度，至少約80度，至少約90度，如至少約95度，至少約100度，或甚至至少約105度的總角度。應(yīng)了解,總和角度可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0257]如本文所述，本體6501可具有在第一臂6506與第三臂6508之間延伸的第一側(cè)表面6554。在某些情況中，第一側(cè)表面6554可具有弓形輪廓。例如，簡(jiǎn)略轉(zhuǎn)向圖65C，提供了根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的成形磨粒的俯視圖圖像。特別地，圖65C的成形磨?？砂ㄈ嫘?，所述三叉星具有本體6581和在兩個(gè)點(diǎn)之間延伸的弓形側(cè)表面6582。在特定情況中，側(cè)表面6582可具有凹狀輪廓，所述凹狀輪廓限定朝向本體6581的中心部分6583向內(nèi)延伸的彎曲部分。
[0258]再次參照?qǐng)D65A，本體6501可具有第一側(cè)表面6554，所述第一側(cè)表面6554具有第一側(cè)部段6558和第二側(cè)部段6559。第一側(cè)部段6558可在第一頂端6506與中點(diǎn)6551之間延伸，第二側(cè)部段6559可在第三頂端6508與中點(diǎn)6551之間延伸。第一側(cè)部段6558和第二側(cè)部段6559可限定內(nèi)角6562，所述內(nèi)角6562可為鈍角。例如，內(nèi)角6562可大于約90度，如大于約95度，大于約100度，大于約110度，或甚至大于約120度。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，內(nèi)角6562可不大于約320度，如不大于約300度，或甚至不大于約270度。應(yīng)了解，內(nèi)角可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0259]第一側(cè)部段6558可延伸達(dá)到第一側(cè)表面6554的長(zhǎng)度的顯著部分。例如，第一側(cè)部段6558可延伸第一側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的至少約20 %，如至少約25 %，至少約30%，至少約35%，或甚至至少約40%。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，第一側(cè)部段6558可具有不大于側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的約80%，如不大于側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的約75%，不大于側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的約70%，或甚至不大于側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的約65%的中點(diǎn)6551與第一頂端6506之間的長(zhǎng)度(Isl)。應(yīng)了解,第一側(cè)部段6558的長(zhǎng)度可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0260]第二側(cè)部段6559可延伸達(dá)到第一側(cè)表面6554的長(zhǎng)度的顯著部分。例如，第二側(cè)部段6559可延伸第一側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的至少約20 %，如至少約25 %，至少約30%，至少約35%，或甚至至少約40%。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，第二側(cè)部段6559可具有不大于側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的約80%，如不大于側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的約75%，不大于側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的約70%，或甚至不大于側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度的約65%的中點(diǎn)6551與第三頂端6508之間的長(zhǎng)度(ls2),所述側(cè)表面6554的總長(zhǎng)度為第一頂端6506與第三頂端6508之間的直線。應(yīng)了解，第二側(cè)部段6559的長(zhǎng)度可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0261]本體6501還可在一個(gè)側(cè)表面的至少一部分上包括斷裂區(qū)域6570。例如，本體6501可在中點(diǎn)6551與第三頂端6508之間在側(cè)表面6554的一部分上具有斷裂區(qū)域6570。斷裂區(qū)域6570可與限定底表面6511的邊緣的至少一部分相交?？蛇x擇地或另外地，斷裂區(qū)域6570可與限定上表面6510的邊緣的至少一部分相交。斷裂區(qū)域可特征在于具有比本體6501的至少上表面6510或底表面6511的表面粗糙度更大的表面粗糙度。斷裂區(qū)域6570可限定從底表面6511延伸的本體的一部分。在某些情況中，斷裂區(qū)域6570可特征在于沿著第一側(cè)表面6554從底表面6511延伸的不規(guī)則形狀的突出部和凹槽。在某些情況中，斷裂區(qū)域6570可顯示為鋸齒狀邊緣并限定鋸齒狀邊緣。斷裂區(qū)域6583也在圖65C的成形磨粒的側(cè)表面6582上顯示。
[0262]在某些情況中，斷裂區(qū)域6570可優(yōu)先設(shè)置于本體的臂的頂端處或接近本體的臂的頂端設(shè)置。斷裂區(qū)域6570可從底表面1703延伸，并豎直延伸達(dá)到側(cè)表面的整個(gè)高度的一部分或甚至達(dá)到側(cè)表面的整個(gè)高度。
[0263]盡管三叉星的前述本體6501已顯示為具有上表面6510，且當(dāng)在本體的長(zhǎng)度和寬度的平面中觀察時(shí)所述上表面6510具有與本體6501的底表面6511的二維形狀基本上相同的二維形狀，但可預(yù)期其他形狀。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，底表面處的本體的橫截面形狀可限定底表面形狀，所述底表面形狀選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的復(fù)雜形狀，以及它們的組合。此外，上表面處的本體的橫截面形狀可限定上表面形狀，所述上表面形狀可與底表面形狀不同，并選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的復(fù)雜形狀，以及它們的組合。
[0264]在特定情況中，上表面形狀可具有底表面形狀的弓形形式。例如，上表面形狀可限定弓形三叉二維形狀，其中弓形三叉二維形狀限定具有圓形端部的臂。特別地，相比于在上表面處的對(duì)應(yīng)的頂端的曲率半徑，在底表面處限定的臂可在頂端具有更小的曲率半徑。
[0265]如在本文的其他實(shí)施例中所述，應(yīng)了解本體6501的臂中的至少一者可形成為具有扭轉(zhuǎn)，使得臂圍繞中心軸線扭轉(zhuǎn)。例如，第一臂6503可圍繞軸線6560扭轉(zhuǎn)。此外，本體6501可形成為使得至少一個(gè)臂從中心區(qū)域在弓形路徑上延伸。
[0266]圖66A包括根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例形成的成形磨粒的俯視圖圖像。如所示，當(dāng)在由長(zhǎng)度和寬度的二維所限定的平面中觀察時(shí)，成形磨粒6600可限定星形本體。特別地，成形磨粒6600可包括本體6601，所述本體6601具有中心部分6602和從中心部分6602延伸的第一臂6603、第二臂6604、第三臂6605和第四臂6606。本體6601可具有作為沿著粒子的側(cè)面的最長(zhǎng)尺寸測(cè)得的長(zhǎng)度(I)，和作為相對(duì)的臂的兩個(gè)點(diǎn)之間并通過本體6601的中點(diǎn)6609的粒子的最長(zhǎng)尺寸測(cè)得的寬度(W)。寬度可在垂直于長(zhǎng)度的維度的方向上延伸。本體6601可具有高度(h),所述高度(h)在垂直于本體6601的上表面6610的方向上延伸，從而限定上表面與底表面6611之間的第三側(cè)表面6656，如圖66B所示。特別地，本體6601可具有超過一個(gè)高度，如在本文更詳細(xì)地描述。
[0267]成形磨粒6600可具有由從中心部分6602延伸的第一臂6603、第二臂6604、第三臂6605和第四臂6606限定的四叉星的形式的主體6601。本體6601可具有本文實(shí)施例中描述的特征中的任意者。例如，根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例，臂中的至少一者(包括例如第一臂6603)可具有小于中心部分寬度的中點(diǎn)寬度，如根據(jù)圖65A的實(shí)施例所述。此外，本體6601可具有至少一個(gè)臂，如第一臂6603，所述至少一個(gè)臂具有小于中點(diǎn)寬度的在第一臂的頂端處的頂端寬度，如根據(jù)圖65A的實(shí)施例所述。
[0268]在一方面，本體6601可具有包括第一頂端6607的第一臂6603，所述第一頂端6607限定第一側(cè)表面6654與第二側(cè)表面6655之間的第一頂端角6621。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第一頂端角可小于約60度，如不大于約55度，不大于約50度，不大于約45度，或甚至不大于約40度。而且，第一頂端角6621可為至少約5度，如至少約8度，至少約10度，至少約15度，或甚至至少約20度。第一頂端角6621可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。同樣，其他頂端中的任意者，包括第二臂6604的第二頂端6608、第三臂6605的第三頂端6609，或第四臂6606的第四頂端6610可具有頂端角，所述頂端角具有根據(jù)如上第一頂端角6621描述的相同特征。
[0269]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第二頂端6608可限定與第一頂端角6621基本上相同的第二頂端角，如角度數(shù)值的5%之內(nèi)?；蛘?，第二頂端角可相對(duì)于第一頂端角6621顯著不同。第三頂端6609可限定與第一頂端角6621基本上相同的第三頂端角，如角度數(shù)值的5%之內(nèi)?；蛘撸谌敹私强上鄬?duì)于第一頂端角6621顯著不同。第四頂端6610可限定與第一頂端角6621基本上相同的第四頂端角，如角度數(shù)值的5%之內(nèi)?；蛘撸谒捻敹私强上鄬?duì)于第一頂端角6621顯著不同。
[0270]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，本體6601可包括相對(duì)于彼此基本上均勻間隔的第一臂6603、第二臂6604、第三臂6605和第四臂6606。如所示，臂6603-6606可圍繞中心部分6602基本上均勻間隔。在一個(gè)特定實(shí)施例中，臂6603-6606可相對(duì)于彼此以基本上正交的角度彼此間隔。在其他實(shí)施例中，第一臂6603和第二臂6604可基于間隔角6631彼此間隔，所述間隔角6631由在相對(duì)的頂端6609和6607之間延伸并通過中點(diǎn)6609的軸線6690與在頂端6608和6610之間延伸并通過中點(diǎn)6609的軸線6691之間的角度限定。第一臂6603和第二臂6604可如間隔角6631所限定而彼此間隔至少約45度，如至少約60度，或甚至至少約70度。而且,在其他實(shí)施例中，間隔角6631可不大于約120度,如不大于約110度,或甚至大約90度。間隔角6631可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0271]在某些情況中，本體6601可形成為使得至少一個(gè)側(cè)表面(如第一側(cè)表面6654)可具有弓形輪廓。在更特定的實(shí)施例中，至少一個(gè)側(cè)表面對(duì)于整個(gè)側(cè)表面的長(zhǎng)度的至少一部分可具有凹曲度。
[0272]在另一實(shí)施例中，本體6601的至少一個(gè)側(cè)表面(如第一側(cè)表面6654)可具有第一部段6625和第二部段6626，所述第一部段6625和第二部段6626可在第一側(cè)表面中點(diǎn)6627處接合在一起，并限定第一內(nèi)角6628。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例,第一內(nèi)角可大于約90度,如大于約95度，大于約100度，大于約130度，大于約160度，大于約180度，或甚至大于約210度。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，第一內(nèi)角可不大于約320度，不大于約300度，或甚至不大于約270度。第一內(nèi)角可在上述最小值和最大值中的任意者之間的范圍內(nèi)。此外，本體可在第二側(cè)表面6655處包括第二內(nèi)角6629,在第三側(cè)表面6656處包括第三內(nèi)角6632,在第四側(cè)表面6657處包括第四內(nèi)角6633。內(nèi)角中的每一個(gè)可具有相對(duì)于第一內(nèi)角6628描述的特征。此外，第二側(cè)表面6655、第三側(cè)表面6656和第四側(cè)表面6657中的每一個(gè)和任意者可具有第一側(cè)表面6654的特征中的任意者。
[0273]本體6601可具有相對(duì)于彼此從本體6601的中心部分6602在相對(duì)方向上延伸的第一臂6603和第三臂6605。此外，第二臂6604和第四臂6606可相對(duì)于彼此在相對(duì)方向上延伸。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第二臂6604可具有可與第四臂6606的長(zhǎng)度基本上相同的長(zhǎng)度，所述長(zhǎng)度如沿著軸線6691在從中心部分6602的邊界至頂端6608之間測(cè)得。在另一情況中，第二臂6604可具有與第一臂6603或第三臂6605的長(zhǎng)度顯著不同(例如小于或大于)的長(zhǎng)度。
[0274]盡管四叉星的前述本體6601已顯示為具有上表面6640，且當(dāng)在本體的長(zhǎng)度和寬度的平面中觀察時(shí)所述上表面6640具有與本體6501的底表面6641的二維形狀基本上相同的二維形狀，但可預(yù)期其他形狀。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，底表面處的本體的橫截面形狀可限定底表面形狀，所述底表面形狀選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的復(fù)雜形狀，以及它們的組合。此外，上表面處的本體的橫截面形狀可限定上表面形狀，所述上表面形狀可與底表面形狀不同，并選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的復(fù)雜形狀，以及它們的組合。
[0275]在特定情況中，上表面形狀可具有底表面形狀的弓形形式。例如，上表面形狀可限定弓形四叉二維形狀，其中弓形四叉二維形狀限定具有圓形端部的臂。特別地，相比于在上表面處的對(duì)應(yīng)的頂端的曲率半徑，在底表面處限定的臂可在頂端具有更小的曲率半徑。
[0276]根據(jù)一個(gè)特定方面，本體可形成為具有本體的有限變形或翹曲。例如，本體可具有不大于約10的翹曲因子(ht/hi)，其中所述翹曲因子限定為在臂的一個(gè)頂端處的本體的最大高度(ht)相比于在內(nèi)部(例如在中心部分6602內(nèi))的本體的高度的最小尺寸(hi)之間的比例。例如，轉(zhuǎn)向圖66B的成形磨粒的側(cè)視圖圖示，本體6601可具有內(nèi)部高度，所述內(nèi)部高度表示從側(cè)面觀察時(shí)粒子的最小高度。本體的最大高度(ht)由從側(cè)面觀察時(shí)底表面(或底表面的平面)與本體6601的最高點(diǎn)(其可為卷曲臂的頂端)之間的距離表示。本文的實(shí)施例的成形磨粒顯示有限的翹曲，具有不大于約5，不大于約3，不大于約2，不大于約1.8，不大于約1.7，不大于約1.6，不大于約1.5，不大于約1.3，不大于約1.2，不大于約
1.14，或甚至不大于約1.10的翹曲因子?？墒褂煤线m的計(jì)算機(jī)程序(如ImageJ軟件)進(jìn)行根據(jù)成形磨粒的圖像的準(zhǔn)確分析，以測(cè)量翹曲因子。
[0277]圖67包括根據(jù)一個(gè)特定實(shí)施例的成形磨粒的俯視圖圖像。如所示，當(dāng)在由長(zhǎng)度和寬度的二維所限定的平面中觀察時(shí)，成形磨粒6700可限定十字形本體。特別地，成形磨粒6700可包括本體6701，所述本體6701具有中心部分6702和從中心部分6702延伸的第一臂6703、第二臂6704、第三臂6705和第四臂6706。本體6701可具有作為沿著粒子的側(cè)面的最長(zhǎng)尺寸測(cè)得的長(zhǎng)度(I)，和作為相對(duì)的臂的兩個(gè)點(diǎn)之間并通過本體6701的中點(diǎn)6709的粒子的最長(zhǎng)尺寸測(cè)得的寬度(W)。寬度可在垂直于長(zhǎng)度的維度的方向上延伸。本體6701可具有高度(h)，所述高度(h)在垂直于本體6701的上表面6710的方向上延伸，從而限定上表面6710與底表面6711之間的側(cè)表面。本體6701可具有在本文的實(shí)施例中的任意者中描述的特征的任意者或組合。
[0278]本體6701可具有至少一個(gè)臂，如第一臂6703，所述至少一個(gè)臂具有與第一臂6703的中心部分寬度6712基本上相同的中點(diǎn)寬度6714。此外，限定本體6701的寬度的軸線6790上的點(diǎn)6715與6716之間的臂的長(zhǎng)度可小于第一臂6703的寬度。在特定情況中，長(zhǎng)度可不大于寬度的約90%，如不大于寬度的約80%，不大于寬度的約70%，不大于寬度的約60%。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，第一臂6703的長(zhǎng)度可為第一臂6703的寬度的至少約10%，如至少約20%。長(zhǎng)度可具有在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)的相對(duì)于寬度的尺寸。對(duì)第一臂6703的寬度的指代可為對(duì)中心部分寬度6712或中點(diǎn)寬度6714的指代。本體6701的臂中的任意者可具有第一臂6703的相同特征。
[0279]圖68包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的成形磨粒的俯視圖圖像。如所示，當(dāng)在由長(zhǎng)度和寬度的二維所限定的平面中觀察時(shí)，成形磨粒6800可限定總體十字形本體。特別地，成形磨粒6800可包括本體6801，所述本體6801具有中心部分6802和從中心部分6802延伸的第一臂6803、第二臂6804、第三臂6805和第四臂6806。本體6801可具有作為沿著粒子的側(cè)面的最長(zhǎng)尺寸測(cè)得的長(zhǎng)度(I)，和作為相對(duì)的臂的兩個(gè)點(diǎn)之間并通過本體6801的中點(diǎn)6809的粒子的最長(zhǎng)尺寸測(cè)得的寬度(W)。寬度可在垂直于長(zhǎng)度的維度的方向上延伸。本體6801可具有高度(h)，所述高度(h)在垂直于本體6801的上表面6810的方向上延伸，從而限定上表面6810與底表面6811之間的側(cè)表面。本體6801可具有在本文的實(shí)施例中的任意者中描述的特征的任意者或組合。
[0280]在圖68的特定實(shí)施例中，本體可具有底表面6811和上表面6810的二維形狀的特定組合。例如，本體可具有在限定底表面形狀的底表面處的本體的二維形狀(即橫截面形狀)，和在限定上表面形狀的上表面處的本體的二維形狀，特別地，底表面形狀可為總體十字形，上表面形狀可為圓四邊形形狀。圓四邊形形狀可由具有由圓角接合的四個(gè)側(cè)面的上表面6810(邊緣由虛線顯示)限定，其中拐角通常對(duì)應(yīng)于由底表面限定的十字形的臂。特別地，上表面可不限定由具有相對(duì)于彼此成角度的至少兩個(gè)側(cè)表面部段的側(cè)表面分隔的臂部分，所述臂部分由底表面形狀的十字形輪廓顯示。
[0281]圖69A包括根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的成形磨粒的側(cè)視圖的圖示。如所示，成形磨粒6900可包括本體6901，所述本體6901包括第一層6902和上覆第一層6902的第二層6903。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，本體6901可具有相對(duì)于彼此以階梯構(gòu)造設(shè)置的層6902和6903。階梯構(gòu)造可特征在于在第一層6902的側(cè)表面6904與第二層6903的側(cè)表面6905之間在第一層6902的上表面6910上的至少一個(gè)平坦區(qū)域6920。平坦區(qū)域6920的尺寸和形狀可由一個(gè)或多個(gè)加工參數(shù)控制或預(yù)定，并可有利于磨粒進(jìn)入研磨制品中的改進(jìn)配置和研磨制品的性能。
[0282]在一個(gè)實(shí)施例中，平坦區(qū)域6902可具有橫向距離6921，所述橫向距離可限定為第一層6902的上表面6910與第一層的側(cè)表面6904之間的邊緣6907至第二層的側(cè)表面6905之間的最大距離。橫向距離6921的分析可通過本體6901的俯視圖圖像而促進(jìn)，如圖69B所示。如所示，橫向距離6921可為平坦區(qū)域6902的最大距離。在一個(gè)實(shí)施例中，橫向距離6921可具有比第一層6902(即更大的層)的長(zhǎng)度6910更小的長(zhǎng)度。特別地，橫向距離6921可不大于本體6901的第一層6902的長(zhǎng)度6910的約90%，如不大于所述長(zhǎng)度6910的約80 %，不大于所述長(zhǎng)度6910的約70 %，不大于所述長(zhǎng)度6910的約60 %，不大于所述長(zhǎng)度6910的約50%，不大于所述長(zhǎng)度6910的約40%，不大于所述長(zhǎng)度6910的約30%，或甚至不大于所述長(zhǎng)度6910的約20%。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，橫向距離6921可具有本體6901的第一層6902的長(zhǎng)度的至少約2%，至少約5%，至少約8%，至少約10%，至少約20%，至少約25%，至少約30%，或甚至至少約50%的長(zhǎng)度。應(yīng)了解,橫向距離6921可具有在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)的長(zhǎng)度。
[0283]第二層6903可具有特定長(zhǎng)度6909，所述長(zhǎng)度6909為相對(duì)于第一層6902的長(zhǎng)度6910的側(cè)面的最長(zhǎng)尺寸(如圖69B所示)，其可有利于磨粒進(jìn)入研磨制品中的改進(jìn)配置和/或研磨制品的性能。例如，第二層6903的長(zhǎng)度6909可不大于本體6901的第一層6902的長(zhǎng)度6910的約90%，如不大于所述長(zhǎng)度6910的約80%，不大于所述長(zhǎng)度6910的約70%，不大于所述長(zhǎng)度6910的約60%，不大于所述長(zhǎng)度6910的約50%，不大于所述長(zhǎng)度6910的約40 %，不大于所述長(zhǎng)度6910的約30 %，或甚至不大于所述長(zhǎng)度6910的約20 %。而且，在一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，第二層6903可具有可為本體6901的第一層6902的長(zhǎng)度6910的至少約2%，至少約10%，至少約20%，至少約30%，至少約40%，至少約50%，至少約60%，或甚至至少約70%的長(zhǎng)度6909。應(yīng)了解，相對(duì)于第一層6902的長(zhǎng)度6910的第二層6903的長(zhǎng)度6909可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)。
[0284]圖69A和69B的前述成形磨?？墒褂枚鄠€(gè)材料片材、多個(gè)絲網(wǎng)和/或多個(gè)模制坯料而形成。例如，一個(gè)過程可包括使用由第一混合物完全或部分填充的第一絲網(wǎng)，提供可相對(duì)于所述第一絲網(wǎng)尺寸、形狀或取向不同的第二絲網(wǎng)，并提供在所述第二絲網(wǎng)的開口內(nèi)的第二混合物。第二絲網(wǎng)可置于第一絲網(wǎng)之上或置于從第一絲網(wǎng)形成的前體成形磨粒之上。第二混合物可在第一混合物的前體成形磨粒上提供，以形成具有階梯狀和層狀構(gòu)造的前體成形磨粒。特別地，第二絲網(wǎng)的開口可小于第一絲網(wǎng)的開口。應(yīng)了解，第一絲網(wǎng)和第二絲網(wǎng)可具有但不必使用不同尺寸的開口、不同的開口二維形狀，以及它們的組合。
[0285]此外，在某些情況中，第一絲網(wǎng)和第二絲網(wǎng)可同時(shí)用作復(fù)合絲網(wǎng)以將混合物成形。在這種情況中，第一絲網(wǎng)和第二絲網(wǎng)可彼此附著，以有利于第一絲網(wǎng)和第二絲網(wǎng)的開口之間的適當(dāng)和連續(xù)排列。第二絲網(wǎng)可在第一絲網(wǎng)上取向，以有利于第一絲網(wǎng)中的開口與第二絲網(wǎng)中的開口之間的排列，從而有利于混合物適當(dāng)遞送至第一絲網(wǎng)和第二絲網(wǎng)的開口中。
[0286]而且，第一絲網(wǎng)和第二絲網(wǎng)可在分別的過程中使用。例如，其中第一混合物在第一時(shí)間在第一絲網(wǎng)中提供，第二混合物在第二時(shí)間在第二絲網(wǎng)中提供。更特別地，第一混合物可在第一絲網(wǎng)的開口中提供，并在第一混合物已在第一絲網(wǎng)的開口中成型之后，可在第一混合物上提供第二混合物。在第一混合物包含于第一絲網(wǎng)的第一開口中的同時(shí)，可進(jìn)行這種過程。在另一情況中，可從第一絲網(wǎng)的開口中取出第一混合物，以產(chǎn)生第一混合物的前體成形磨粒。之后，第一混合物的前體成形磨?？上鄬?duì)于第二絲網(wǎng)的開口取向，并可將第二混合物置于第二絲網(wǎng)的開口中和第一混合物的前體成形磨粒上，以有利于形成包含第一混合物和第二混合物的復(fù)合前體成形磨粒?？墒褂靡粋€(gè)模具和一個(gè)絲網(wǎng)，從而使用相同過程。此夕卜，可使用第一和第二模具分別形成第一和第二層，從而完成相同過程。
[0287]應(yīng)了解，本文的實(shí)施例的特性中的任意者可歸因于成形磨粒的批料。成形磨粒的批料可包括但不必須包括通過相同的成型過程制得的一組成形磨粒。在另一情況中，成形磨粒的批料可為研磨制品(如固定研磨制品，更特別地涂布研磨制品)的一組成形磨粒，所述一組成形磨?？瑟?dú)立于特定的成型方法，但具有存在于粒子的特定群中的一種或多種限定特征。例如，粒子批料可包括一定量的適用于形成商業(yè)級(jí)研磨產(chǎn)品的成形磨粒，如至少約201bs.的粒子。
[0288]此外，本文的實(shí)施例的特征中的任意者(例如縱橫比、多個(gè)部分、臂的數(shù)量、中點(diǎn)寬度相比于中心部分寬度，二維形狀、翹曲因子等)可為單個(gè)粒子的特性、來自批料的粒子的取樣的中值，或衍生自來自批料的粒子的取樣的分析的平均值。除非明確指出，否則本文對(duì)特性的指代可被認(rèn)為是對(duì)中值的指代，所述中值基于衍生自批料的合適數(shù)量的粒子的無規(guī)取樣的統(tǒng)計(jì)有效值。特別地，對(duì)于本文的某些實(shí)施例，樣品尺寸可包括至少10個(gè)，更通常地至少40個(gè)從粒子批料中無規(guī)選擇的粒子。
[0289]本文的實(shí)施例中描述的特征中的任意者可代表成形磨粒的批料的至少一部分中存在的特征。所述部分可為批料中的粒子總數(shù)的較少部分(例如小于50%，和1%至49%之間的任意整數(shù))、批料的粒子總數(shù)的較大部分(例如50%或更大，和50%至99%之間的任意整數(shù))，或甚至批料的基本上全部粒子(例如99%至100%之間)。提供批料的任意成形磨粒的一個(gè)或多個(gè)特征可有利于粒子在研磨制品中的可選擇的或改進(jìn)的配置，并可進(jìn)一步有利于研磨制品的改進(jìn)性能或使用。
[0290]顆粒材料的批料可包括第一部分和第二部分，所述第一部分包括第一類型的成形磨粒，所述第二部分包括第二類型的成形磨粒。批料內(nèi)的第一部分和第二部分的含量可至少部分基于某些加工參數(shù)而進(jìn)行控制。提供具有第一部分和第二部分的批料可有利于粒子在研磨制品中的可選擇的或改進(jìn)的配置，并可進(jìn)一步有利于研磨制品的改進(jìn)性能或使用。
[0291]第一部分可包括多個(gè)成形磨粒，其中第一部分的粒子中的每一個(gè)可具有基本上相同的特征，包括例如但不限于相同的主表面的二維形狀。批料可包括多種含量的第一部分。例如，第一部分可以以較小量或較大量存在。在特定情況中，以批料內(nèi)的部分的總含量計(jì)，第一部分可以以至少約1%，如至少約5%，至少約10%，至少約20%，至少約30%，至少約40%，至少約50%，至少約60%，或甚至至少約70%的量存在。而且，在另一實(shí)施例中，批料可包括批料內(nèi)的全部部分的不大于約99 %，如不大于約90 %，不大于約80 %，不大于約70 %，不大于約60 %，不大于約50 %，不大于約40 %，不大于約30 %，不大于約20 %，不大于約10%，不大于約8%，不大于約6%或甚至不大于約4%。批料可包括在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)的第一部分的含量。
[0292]批料的第二部分可包括多個(gè)成形磨粒，其中第二部分的成形磨粒中的每一個(gè)可具有基本上相同的特征，包括例如但不限于相同的主表面的二維形狀。第二部分可具有本文的實(shí)施例的一個(gè)或多個(gè)特征，其相比于第一部分的多個(gè)成形磨?？蔀椴煌?。在某些情況中，批料可包括相對(duì)于第一部分更少含量的第二部分，更特別地，批料可包括相對(duì)于批料中的粒子的總含量較小含量的第二部分。例如，批料可含有特定含量的第二部分，包括例如不大于約40%，如不大于約30%，不大于約20%，不大于約10%，不大于約8%，不大于約6%，或甚至不大于約4%。而且，在至少一個(gè)非限制性的實(shí)施例中，批料以批料內(nèi)的部分的總含量計(jì)可含有至少約0.5%，如至少約1%，至少約2%，至少約3%，至少約4%，至少約10%，至少約15%，或甚至至少約20%的第二部分。應(yīng)了解，批料可含有含量在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)的第二部分。
[0293]而且，在可選擇的實(shí)施例中，批料可包括相對(duì)于第一部分更大含量的第二部分，更特別地，批料可包括相對(duì)于批料中的粒子的總含量較大含量的第二部分。例如，在至少一個(gè)實(shí)施例中，批料以批料的全部部分計(jì)可含有至少約55%，如至少約60%的第二部分。
[0294]應(yīng)了解，批料可包括其他部分，包括例如第三部分，所述第三部分包括具有第三特征的多個(gè)成形磨粒，所述第三特征可不同于第一和第二部分的粒子的特征。批料可包括相對(duì)于第二部分和第一部分的多種含量的第三部分。第三部分可以以較小量或較大量存在。在特定情況中，第三部分可以以批料內(nèi)的全部部分的不大于約40 %，不大于約30 %，不大于約20%,不大于約10%,不大于約8%,不大于約6%,或甚至不大于約4%的量存在。而且，在其他實(shí)施例中，批料可包括最小含量的第三部分，如至少約I %，如至少約5 %，至少約10 %，至少約20 %，至少約30 %，至少約40 %，或甚至至少約50 %。批料可包括含量在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之間的范圍內(nèi)的第三部分。此外，批料可包括一定含量的稀釋無規(guī)成形磨粒，所述稀釋無規(guī)成形磨?？梢砸耘c本文的實(shí)施例的部分中的任意者相同的量存在。
[0295]實(shí)例
[0296]實(shí)例I
[0297]獲得凝膠形式的混合物，所述混合物具有大約42%固體載荷的可作為Catapal B購(gòu)自沙索公司(Sasol Corp.)的勃姆石以及含有較少含量的硝酸和有機(jī)添加劑的58wt%的水。凝膠具有大約3X103至4X104Pa.s的粘度和3X104至2X105Pa的儲(chǔ)能模量。
[0298]使用至多SOpsi (552kPa)的壓力將凝膠從沖模擠出至聚碳酸酯的模具坯料上并擠出至多個(gè)開口中，其中所述開口中的每一個(gè)為三叉星的形狀。模具坯料內(nèi)的開口的表面已用菜籽油涂布。開口限定長(zhǎng)度為大約5-7mm,寬度為3_5mm且深度為大約0.8mm的三叉星二維形狀。開口具有大約35度的頂端角和大約225度的三個(gè)臂之間的內(nèi)角。
[0299]將凝膠擠出至開口中，然后在模具內(nèi)在大氣條件下在空氣中干燥凝膠大約24-48小時(shí)，以形成前體成形磨粒。前體成形磨粒在大約600°C下在箱式爐中煅燒I小時(shí)，然后前體成形磨粒在至多1320°C下在管式爐中燒結(jié)3至20分鐘。圖65A為實(shí)例I形成的代表性粒子的圖像。本體具有小于5的翹曲因子。
[0300]實(shí)例2
[0301]使用實(shí)例I的過程，不同的是模具坯料使用限定長(zhǎng)度為大約7-9mm，寬度為7_9mm且深度為大約0.8mm的四叉星二維形狀的開口。開口具有大約25度的頂端角和大約250度的三個(gè)臂之間的內(nèi)角。圖66A為實(shí)例2形成的代表性粒子的圖像。本體具有小于5的翹曲因子。
[0302]實(shí)例3
[0303]使用實(shí)例I的過程，不同的是模具坯料使用限定長(zhǎng)度為大約5-6_，寬度為5-6_且深度為大約0.8mm的十字形二維形狀的開口。臂具有大約2mm的寬度和大約Imm的長(zhǎng)度。圖67為實(shí)例3形成的代表性粒子的圖像。本體具有小于5的翹曲因子。
[0304]本申請(qǐng)表示了對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的偏離。盡管工業(yè)已認(rèn)識(shí)到成形磨粒可通過諸如模制和絲網(wǎng)印刷的過程而形成，本文的實(shí)施例的過程不同于這種過程。此外，所得成形磨粒具有不同于根據(jù)常規(guī)方法形成的粒子的特征中的一者或組合。本文的實(shí)施例的成形磨粒可具有不同于其他常規(guī)粒子的特征的特定組合，包括但不限于縱橫比、組成、添加劑、二維形狀、三維形狀、階梯狀構(gòu)造、翹曲因子、頂端角、內(nèi)角等。特別地，本文的實(shí)施例包括有利于形成具有特定特征的成形磨粒的批料的特征的組合。實(shí)際上，一個(gè)或多個(gè)這種特征有利于粒子在研磨制品中的可選擇的配置，并進(jìn)一步可在固定磨料(如粘結(jié)磨料或涂布磨料)的情況中有利于改進(jìn)性能。
[0305]如上公開的主題被認(rèn)為是說明性的而非限制性的，所附權(quán)利要求書旨在涵蓋落入本發(fā)明的真實(shí)范圍內(nèi)的所有這種修改、增強(qiáng)和其他實(shí)施例。因此，在法律允許的最大程度內(nèi)，本發(fā)明的范圍將由如下權(quán)利要求和它們的等同形式的最廣允許解釋確定，不應(yīng)由如上【具體實(shí)施方式】限制或限定。
[0306]提供說明書摘要以符合專利法，在了解說明書摘要不用于解釋或限定權(quán)利要求的范圍或含義的情況下提交說明書摘要。另外，在如上【具體實(shí)施方式】中，為了簡(jiǎn)化本公開，各個(gè)特征可在單個(gè)實(shí)施例中組合在一起或進(jìn)行描述。本公開不解釋為反映如下意圖:所要求保護(hù)的實(shí)施例需要除了在每個(gè)權(quán)利要求中明確記載之外的更多的特征。相反，如如下權(quán)利要求所反映，本發(fā)明的主題可涉及比所公開的實(shí)施例中的任意者的全部特征更少的特征。因此，如下權(quán)利要求引入【具體實(shí)施方式】，每個(gè)權(quán)利要求本身分別限定所要求保護(hù)的主題。
【權(quán)利要求】
1.一種研磨晶粒，其包括: 包括長(zhǎng)度(I)、高度(h)和寬度(W)的本體，其中IShS W，且其中所述本體包括為至少約1:1的由長(zhǎng)度:高度的比例限定的主縱橫比；且其中所述本體包括為至少約50%的直立取向機(jī)率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒，其中所述主縱橫比為至少約2: I。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括為至少約1:1的由高度:寬度的比例限定的次縱橫比。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括為至少約1:1的由長(zhǎng)度:寬度的比例限定的第三縱橫比。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括多晶材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨晶粒，其中所述多晶材料包括研磨晶粒。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨晶粒，其中所述研磨晶粒選自由氮化物、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、金剛石和它們的組合所組成的材料組。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體為包含至少約2個(gè)不同類型的研磨晶粒的復(fù)合材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括底表面，所述研磨晶粒以直立狀態(tài)設(shè)置于所述底表面上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括沿著限定本體長(zhǎng)度的縱軸的扭轉(zhuǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒，其中所述本體包括沿著限定本體寬度的橫軸的扭轉(zhuǎn)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨晶粒,其中所述本體包括沿著限定本體高度的垂直軸的扭轉(zhuǎn)。
13.—種研磨晶粒,其包括: 具有長(zhǎng)度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括底表面端和上表面，其中所述底表面包括與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的研磨晶粒，其中所述上表面為三角形、圓形、矩形和方形中的至少一者。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的研磨晶粒，其中所述底表面為三角形、圓形、加號(hào)形、矩形和方形中的至少一者。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的研磨晶粒，其中所述上表面相對(duì)于下表面旋轉(zhuǎn)，從而限定扭轉(zhuǎn)角。
17.—種研磨晶粒,其包括: 本體，所述本體具有中心部分；和 至少三個(gè)徑向臂，所述至少三個(gè)徑向臂沿著所述中心部分的整個(gè)長(zhǎng)度從所述中心部分向外延伸，其中每個(gè)徑向臂包括箭頭形遠(yuǎn)端。
18.—種成形磨粒,其包括: 具有長(zhǎng)度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括底表面端部、上表面和在所述底表面與上表面之間延伸的側(cè)表面，其中所述底表面包括與所述上表面的橫截面形狀不同的橫截面形狀。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的成形磨粒，其中在所述底表面處的本體的橫截面形狀為底表面形狀，其中在所述上表面處的本體的橫截面形狀為上表面形狀，且其中所述底表面形狀包括選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的復(fù)雜形狀，以及它們的組合的形狀。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的成形磨粒，其中所述上表面形狀選自三叉星、四叉星、十字形、多邊形、橢圓形、數(shù)字、希臘字母字符、拉丁字母字符、俄語字母字符、具有多邊形形狀的組合的復(fù)雜形狀，以及它們的組合。
21.根據(jù)權(quán)利要求18所述的成形磨粒，其中所述本體包括三叉星，所述三叉星具有從所述本體的中心部分延伸的三個(gè)臂，其中所述臂中的至少一者包括小于中心部分寬度的中點(diǎn)寬度。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中所述中點(diǎn)寬度不大于中心寬度的約90%。
23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中所述本體包括頂端寬度，且其中所述頂端寬度不大于中點(diǎn)寬度的約90%。
24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中所述底表面限定三叉星二維形狀，且其中所述上表面包括弓形三叉二維形狀。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的成形磨粒，其中相比于上表面處的曲率半徑，從中心本體延伸的臂在底表面處具有更小的曲率半徑。
26.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中所述三叉星包括第一臂、第二臂和第三臂，其中所述第一臂限定小于約60度的第一臂角度。
27.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中所述第一臂、第二臂和第三臂限定小于約175度的總角度。
28.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中所述三叉星包括第一臂、第二臂和第三臂，其中所述本體還包括在所述第一臂與第二臂之間和在所述底表面與上表面之間延伸的第一側(cè)表面，且其中所述第一側(cè)表面包括弓形輪廓。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的成形磨粒，其中所述第一側(cè)表面包括凹形輪廓。
30.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中所述第一側(cè)表面包括以內(nèi)角結(jié)合在一起的第一部段和第二部段，其中所述內(nèi)角限定大于約90度的角度。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的成形磨粒，其中所述內(nèi)角不大于約320度。
32.根據(jù)權(quán)利要求30所述的成形磨粒，其中所述第一部段延伸達(dá)到所述第一側(cè)表面的總長(zhǎng)度的至少約20%。
33.根據(jù)權(quán)利要求30所述的成形磨粒，其中所述第二部段延伸達(dá)到所述第一側(cè)表面的總長(zhǎng)度的至少約20%。
34.根據(jù)權(quán)利要求18所述的成形磨粒，其中所述側(cè)表面包括與限定所述底表面的邊緣的至少一部分相交的斷裂區(qū)域。
35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的成形磨粒，其中所述斷裂區(qū)域具有大于所述本體的上表面的表面粗糙度的表面粗糙度。
36.根據(jù)權(quán)利要求34所述的成形磨粒，其中所述斷裂區(qū)域限定從所述底表面延伸的本體的一部分，且其中所述斷裂區(qū)域限定鋸齒狀邊緣。
37.根據(jù)權(quán)利要求34所述的成形磨粒，其中所述斷裂區(qū)域限定從所述底表面延伸的不規(guī)則形狀的突出部和凹槽。
38.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中至少一個(gè)臂包括扭轉(zhuǎn)。
39.根據(jù)權(quán)利要求21所述的成形磨粒，其中所述本體包括不大于約10的翹曲因子，其中所述翹曲因子限定為在臂的一個(gè)頂端處的本體的最大高度(ht)相比于在內(nèi)部的本體的高度的最小尺寸(hi)之間的比例。
40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的成形磨粒，其中所述翹曲因子不大于約2。
41.根據(jù)權(quán)利要求18所述的成形磨粒，其中所述本體包括四叉星，所述四叉星包括從所述本體的中心部分延伸的四個(gè)臂，其中所述臂中的至少一者包括小于中心部分寬度的中點(diǎn)寬度。
42.根據(jù)權(quán)利要求41所述的成形磨粒，其中所述中點(diǎn)寬度不大于中心寬度的約90%。
43.根據(jù)權(quán)利要求41所述的成形磨粒，其中所述底表面限定四叉星二維形狀，且其中所述上表面包括弓形四叉二維形狀。
44.根據(jù)權(quán)利要求41所述的成形磨粒，其中所述四叉星包括第一臂、第二臂、第三臂和第四臂，其中所述第一臂限定小于約60度的第一臂角度。
45.根據(jù)權(quán)利要求44所述的成形磨粒，其中所述第一臂、第二臂、第三臂和第四臂基本上均勻間隔開。
46.根據(jù)權(quán)利要求44所述的成形磨粒，其中所述本體還包括在所述第一臂與第二臂之間和在所述底表面與上表面之間延伸的第一側(cè)表面，且其中所述第一側(cè)表面包括弓形輪廓。
47.根據(jù)權(quán)利要求46所述的成形磨粒，其中所述第一側(cè)表面包括以第一內(nèi)角結(jié)合在一起的第一部段和第二部段，其中所述第一內(nèi)角限定大于約90度的角度。
48.根據(jù)權(quán)利要求47所述的成形磨粒，其中所述內(nèi)角不大于約320度。
49.根據(jù)權(quán)利要求44所述的成形磨粒，其中所述四叉星包括第一臂、第二臂、第三臂和第四臂，其中所述第一臂和第三臂從所述本體的中心部分在相對(duì)的方向上延伸，其中所述第二臂和第四臂相對(duì)于彼此在相對(duì)的方向上延伸，其中所述第二臂具有與所述第四臂基本上相同的長(zhǎng)度，且其中所述第二臂包括顯著小于所述第一臂的長(zhǎng)度的長(zhǎng)度。
50.根據(jù)權(quán)利要求18所述的成形磨粒，所述本體包括十字形二維形狀，所述十字形二維形狀具有從所述本體的中心部分延伸的第一臂、第二臂、第三臂和第四臂，且其中所述第一臂包括與所述第一臂的中心部分寬度基本上相同的中點(diǎn)寬度。
51.根據(jù)權(quán)利要求50所述的成形磨粒，其中所述第一臂包括與所述第一臂的中點(diǎn)寬度基本上相同的頂端寬度。
52.根據(jù)權(quán)利要求50所述的成形磨粒，其中所述第一臂包括不大于所述第一臂的寬度的長(zhǎng)度。
53.根據(jù)權(quán)利要求52所述的成形磨粒，其中所述第一臂的長(zhǎng)度小于所述第一臂的寬度。
54.根據(jù)權(quán)利要求52所述的成形磨粒，其中所述長(zhǎng)度不大于所述第一臂的寬度的約90%。
55.根據(jù)權(quán)利要求50所述的成形磨粒，其中所述第一臂包括圓形端部。
56.一種成形磨粒，其包括: 具有長(zhǎng)度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括三叉星，所述三叉星具有限定第一臂的第一臂、限定第二臂的第二臂和限定第二臂的第三臂，且其中所述第一臂、第二臂和第三臂限定小于約180度的總角度；且 其中所述本體包括不大于約10的翹曲因子，其中所述翹曲因子限定為在臂的一個(gè)頂端處的本體的最大高度(ht)相比于在內(nèi)部的本體的高度的最小尺寸(hi)之間的比例。
57.—種成形磨粒,其包括: 具有長(zhǎng)度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括四叉星，所述四叉星具有從中心部分延伸的第一臂、第二臂、第三臂和第四臂；且 其中所述本體包括不大于約10的翹曲因子，其中所述翹曲因子限定為在臂的一個(gè)頂端處的本體的最大高度(ht)相比于在內(nèi)部的本體的高度的最小尺寸(hi)之間的比例。
58.根據(jù)權(quán)利要求56和57中任一項(xiàng)所述的成形磨粒，其中所述臂中的至少一者包括小于中心部分寬度的中點(diǎn)寬度。
59.根據(jù)權(quán)利要求58所述的成形磨粒，其中所述中點(diǎn)寬度不大于中心寬度的約90%。
60.根據(jù)權(quán)利要求58所述的成形磨粒，其中所述本體包括頂端寬度，且其中所述頂端寬度不大于中點(diǎn)寬度的約90%。
61.根據(jù)權(quán)利要求56和57中任一項(xiàng)所述的成形磨粒，其中相比于上表面處的曲率半徑，從中心本體延伸的臂在底表面處具有更小的曲率半徑。
62.根據(jù)權(quán)利要求56和57中任一項(xiàng)所述的成形磨粒，其中所述第一臂限定小于約60度的第一臂角度。
63.根據(jù)權(quán)利要求56和57中任一項(xiàng)所述的成形磨粒，其中所述臂限定小于約175度的總角度。
64.根據(jù)權(quán)利要求56和57中任一項(xiàng)所述的成形磨粒，其中所述本體還包括在所述第一臂與第二臂之間和在所述底表面與上表面之間延伸的第一側(cè)表面，且其中所述第一側(cè)表面包括弓形輪廓。
65.根據(jù)權(quán)利要求64所述的成形磨粒，其中所述第一側(cè)表面包括以內(nèi)角結(jié)合在一起的第一部段和第二部段，其中所述內(nèi)角限定大于約90度的角度。
66.根據(jù)權(quán)利要求56和57中任一項(xiàng)所述的成形磨粒，其中所述本體包括側(cè)表面，所述側(cè)表面具有與限定所述底表面的邊緣的至少一部分相交的斷裂區(qū)域。
67.一種成形磨粒，其包括: 具有長(zhǎng)度(I)、寬度(w)和高度(h)的本體，其中所述本體包括底表面端部、上表面和在所述底表面與上表面之間延伸的側(cè)表面，其中所述底表面包括十字形二維形狀，且所述上表面包括圓四邊形二維形狀。
68.一種成形磨粒，其包括: 本體，所述本體包括: 具有第一長(zhǎng)度的第一層；和 上覆所述第一層的第二層，其中所述第二層具有在所述第一層的長(zhǎng)度的約50%至約90%之間的范圍內(nèi)的長(zhǎng)度。
69.根據(jù)權(quán)利要求68所述的成形磨粒，其中所述第一層包括三角形二維形狀。
70.根據(jù)權(quán)利要求68所述的成形磨粒，其中所述第二層包括三角形二維形狀。
【文檔編號(hào)】B24D3/02GK104136172SQ201380011078
【公開日】2014年11月5日 申請(qǐng)日期:2013年1月10日 優(yōu)先權(quán)日:2012年1月10日
【發(fā)明者】D·O·耶內(nèi)爾, J·H·澤雷賓斯奇, S·艾揚(yáng)格, M·D·卡瓦諾, A·J·布蘭德斯, C·阿科納, R·鮑爾, Y·波桑特-洛克斯, T·H·潘薩瑞拉 申請(qǐng)人:圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司