細(xì)長(zhǎng)工件的加熱線圈、熱處理裝置和熱處理方法
【專利摘要】熱處理裝置的加熱線圈構(gòu)造成感應(yīng)加熱具有凹部側(cè)面的細(xì)長(zhǎng)工件。該加熱線圈包括基部導(dǎo)體和突出導(dǎo)體。突出導(dǎo)體的寬度比基部導(dǎo)體的寬度窄。突出導(dǎo)體布置成從基部導(dǎo)體的位置朝著凹部突出?；繉?dǎo)體和突出導(dǎo)體布置成在工件的縱向上延伸。加熱處理裝置包括冷卻部和加熱線圈。使用如上所述的加熱線圈的加熱方法。
【專利說(shuō)明】細(xì)長(zhǎng)工件的加熱線圈、熱處理裝置和熱處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于沿著工件的縱向加熱細(xì)長(zhǎng)工件的凹部側(cè)面的加熱線圈，并且還涉及用于熱處理該細(xì)長(zhǎng)工件的凹部側(cè)面的熱處理裝置和熱處理方法。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)的加熱線圈構(gòu)造成使得當(dāng)熱處理具有凹部側(cè)面的細(xì)長(zhǎng)工件時(shí)，在不加熱工件的其它側(cè)面的情況下加熱凹部側(cè)面。
[0003]例如，JP3924084B2公開(kāi)了一種加熱線圈，該加熱線圈具有:棒狀導(dǎo)體，該棒狀導(dǎo)體在與工件的縱向垂直的細(xì)長(zhǎng)工件的橫向上延伸；和突部，該突部形成在導(dǎo)體上，以插入到側(cè)面上的各個(gè)凹部?jī)?nèi)，從而在沿著縱向相對(duì)移動(dòng)工件的同時(shí)感應(yīng)加熱工件的整個(gè)凹部側(cè)面。加熱線圈構(gòu)造成防止工件的縱向端部處的不充分加熱。
[0004]JP 2004-204248A公開(kāi)了一種加熱線圈裝置，該加熱線圈裝置具有:線圈本體，該線圈本體相對(duì)于與工件的進(jìn)給方向垂直的橫向安置在細(xì)長(zhǎng)工件的各個(gè)側(cè)上；和突部，該突部形成在線圈本體上，以朝著工件的側(cè)面上的各個(gè)凹部突出。將每個(gè)突部都設(shè)計(jì)成具有能夠在縱向上均勻地感應(yīng)加熱相應(yīng)的側(cè)面的尺寸，從而提高加熱效率。
[0005]然而，加熱線圈的加熱細(xì)長(zhǎng)工件的整個(gè)側(cè)面的部分安置成在與側(cè)面的縱向垂直的方向上延伸。因此，限制了線圈的面對(duì)工件的部分的面積，這使得難以高速加熱工件。
[0006]為了加速熱處理，例如，可以使用較寬的部件形成加熱線圈，從而增加線圈的越過(guò)細(xì)長(zhǎng)工件的側(cè)面延伸并且面對(duì)細(xì)長(zhǎng)工件的側(cè)面的部分的面積。然而，在這種情況下，線圈的增加的截面面積要求更大的電力，這使得效率惡化。
[0007]可選擇地，可以增加線圈的越過(guò)工件的側(cè)面延伸的部分的數(shù)量，而不使用較寬的部件。然而，這導(dǎo)致加熱線圈的結(jié)構(gòu)復(fù)雜。因此，經(jīng)過(guò)線圈的電流路徑和冷卻液路徑也變得復(fù)雜，這增加了線圈的輸出損耗，并且使得難以維持冷卻液的特定水平的流量。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008]本發(fā)明的目的是提供能夠以低電力損耗加速對(duì)于細(xì)長(zhǎng)工件的側(cè)面的熱處理的加熱線圈、熱處理裝置和熱處理方法。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的方面，提供了一種加熱線圈。該加熱線圈構(gòu)造成感應(yīng)加熱具有沿著角部互相鄰接的第一側(cè)面和第二側(cè)面的細(xì)長(zhǎng)工件。所述第一側(cè)面在從所述角部隔開(kāi)的位置處具有凹部。所述第一側(cè)面、所述第二側(cè)面和所述凹部在所述工件的縱向上連續(xù)地延伸。所述加熱線圈包括:基部導(dǎo)體，該基部導(dǎo)體構(gòu)造成面對(duì)所述第一側(cè)面；和突出導(dǎo)體，該突出導(dǎo)體構(gòu)造成面對(duì)所述凹部。所述突出導(dǎo)體的寬度比所述基部導(dǎo)體的寬度窄。所述突出導(dǎo)體布置成從所述基部導(dǎo)體的位置朝著所述凹部突出。所述基部導(dǎo)體和所述突出導(dǎo)體布置成在所述縱向上延伸。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種熱處理裝置。該熱處理裝置包括:所述加熱線圈和構(gòu)造成冷卻所述工件的冷卻部。所述加熱線圈布置成感應(yīng)加熱在所述縱向上相對(duì)移動(dòng)的所述工件。所述冷卻部在所述縱向上布置在所述加熱線圈的下游。所述突出導(dǎo)體的至少一部分在所述縱向上布置在所述基部導(dǎo)體的上游側(cè)。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種熱處理方法。該熱處理方法包括:通過(guò)使所述工件在所述縱向上相對(duì)于所述加熱線圈移動(dòng)來(lái)感應(yīng)加熱所述工件；和在所述縱向上的所述加熱線圈的下游位置處冷卻所述工件。所述突出導(dǎo)體在所述縱向上在所述基部導(dǎo)體的上游位置處感應(yīng)加熱所述工件。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的熱處理裝置的透視圖；
[0013]圖2是熱處理裝置的加熱線圈的前視圖；
[0014]圖3是加熱線圈的左側(cè)視圖；
[0015]圖4是加熱線圈的平面圖；
[0016]圖5是圖示出加熱線圈的電流路徑的圖；
[0017]圖6A至6D是圖示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的熱處理方法的圖；以及
[0018]圖7是根據(jù)參考實(shí)例的加熱線圈的透視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]在下文中，將參考附圖具體描述本發(fā)明的實(shí)施例。
[0020]工件
[0021]如圖1所示，本發(fā)明的實(shí)施例中的要被熱處理的工件10是具有沿著與工件10的縱向垂直的平面截取的大致恒定截面的細(xì)長(zhǎng)工件。下面描述的工件10的軸線是直線，但是可以具有弧狀或環(huán)狀。
[0022]工件10具有大致矩形截面。在圖1中，工件10的位于工件10的左右側(cè)上的第一側(cè)面具有不規(guī)則形狀，并且工件10的位于工件10的上下側(cè)上的第二側(cè)面是平面。第一側(cè)面11和第二側(cè)面12沿著角部13互相鄰接。
[0023]在角部13處，第一側(cè)面11與第二側(cè)面12互相連接，使得第一側(cè)面11與第二側(cè)面12形成角。角部13的不受限實(shí)例包括角尖、圓表面、傾斜面和收縮面。在角部13處的熱傳導(dǎo)率比在第一側(cè)面11和第二側(cè)面12處的熱傳導(dǎo)率高。
[0024]每個(gè)第一側(cè)面11都在從角部13隔開(kāi)的位置處形成有凹部14，在該實(shí)施例中是中央位置處。凹部14形成為沿著工件10的縱向連續(xù)地延伸。只要凹部14相對(duì)于其鄰接側(cè)凹入，則凹部14的輪廓不受限制。在該實(shí)施例中，凹部14形成在設(shè)置于第二側(cè)面12的各個(gè)側(cè)上的每個(gè)第一側(cè)面11中。
[0025]工件10的包括凹部14的第一側(cè)面11和第二側(cè)面12在工件10的縱向上以大致恒定形式在工件10的整個(gè)長(zhǎng)度上連續(xù)地延伸。
[0026]熱處理裝置
[0027]熱處理裝置20構(gòu)造成對(duì)工件10進(jìn)行諸如淬火這樣的熱處理。更具體地，熱處理裝置20構(gòu)造成對(duì)每個(gè)第一側(cè)面11的表面層進(jìn)行淬火。如圖1所示，熱處理裝置20包括:加熱線圈21，該加熱線圈21構(gòu)造成感應(yīng)加熱第一側(cè)面11 ;和冷卻部22，該冷卻部22安置在加熱線圈21的下游，從而通過(guò)將冷卻液噴射到工件10上來(lái)冷卻工件10。熱處理裝置具有進(jìn)給機(jī)構(gòu)，該進(jìn)給機(jī)構(gòu)構(gòu)造成使工件10沿著縱向朝著一側(cè)以給定速度移動(dòng)。
[0028]加熱線圈
[0029]如圖1至4所示，加熱線圈21具有布置成面對(duì)第一側(cè)面11的多個(gè)突出導(dǎo)體23和基部導(dǎo)體24，該第一側(cè)面11在工件10的第二側(cè)面的各個(gè)側(cè)處包括各個(gè)凹部14。突出導(dǎo)體23與基部導(dǎo)體24接合在一起，以形成單件結(jié)構(gòu)。每個(gè)基部導(dǎo)體24都在與工件10的縱向垂直的第一方向上具有與第一側(cè)面11的寬度相對(duì)應(yīng)的寬度，并且基部導(dǎo)體24布置成在其與相應(yīng)的第一側(cè)面11之間帶有間隙地面對(duì)相應(yīng)的第一側(cè)面11。每個(gè)突出導(dǎo)體23都在第一方向上具有比每個(gè)基部導(dǎo)體24的寬度窄的寬度，并且突出導(dǎo)體23布置成在其與相應(yīng)的凹部14之間帶有間隙地面對(duì)相應(yīng)的凹部14。
[0030]每個(gè)基部導(dǎo)體24都具有棱柱狀或塊狀，并且基部導(dǎo)體24的面對(duì)第一側(cè)面11的一側(cè)具有大致平面形狀。每個(gè)基部導(dǎo)體24的面對(duì)第一側(cè)面11的表面都具有能夠加熱整個(gè)第一側(cè)面11的寬度。每個(gè)突出導(dǎo)體23都具有橢圓形，并且突出導(dǎo)體23的面對(duì)凹部14的一側(cè)從基部導(dǎo)體24突出，并且具有與凹部14的形狀相對(duì)應(yīng)的曲面。即，突出導(dǎo)體23布置成在與縱向和第一方向都垂直的第二方向上從基部導(dǎo)體24的位置朝著凹部14突出。突出導(dǎo)體23的突出部具有能夠進(jìn)入工件10的凹部14的尺寸。
[0031]基部導(dǎo)體24和突出導(dǎo)體23布置成沿著工件10的縱軸延伸。優(yōu)選地，突出導(dǎo)體23在縱向上比基部導(dǎo)體24長(zhǎng)。此外，優(yōu)選地，基部導(dǎo)體24布置成至少局部地重疊突出導(dǎo)體23，最好整體重疊。
[0032]基部導(dǎo)體24的一端和對(duì)應(yīng)的突出導(dǎo)體23的一段布置在縱向上的相同位置處。突出導(dǎo)體23的一部分布置成在縱向上從相應(yīng)的基部導(dǎo)體24朝著一側(cè)，即，朝著基部導(dǎo)體24的上游突出。
[0033]磁通量集中部件25可以設(shè)置在突出導(dǎo)體23的不面對(duì)工件10的部分處，并且磁通量集中部件26可以設(shè)置在基部導(dǎo)體24的不面對(duì)工件10的部分處，使得磁通量更集中在第一側(cè)面11和凹部14上。
[0034]端部導(dǎo)體27接合到每個(gè)突出導(dǎo)體23的一端。連接到電源的導(dǎo)線28設(shè)置在每個(gè)端部導(dǎo)體27上?；繉?dǎo)體24的端部接合到C狀結(jié)合導(dǎo)體29，從而使基部導(dǎo)體24互相結(jié)合。如圖5所示，電流從一個(gè)導(dǎo)線28供給，并且在一側(cè)上以端部導(dǎo)體27、突出導(dǎo)體23和基部導(dǎo)體24的順序流經(jīng)加熱線圈21，并且在另一側(cè)上經(jīng)由結(jié)合導(dǎo)體29、基部導(dǎo)體24、突出導(dǎo)體23、端部導(dǎo)體27和導(dǎo)線28流動(dòng)。
[0035]冷卻液入口部31設(shè)置在結(jié)合部件29上，并且冷卻液出口部32設(shè)置在每個(gè)導(dǎo)線28的接觸部28a上。導(dǎo)體23、24、27、29中的每個(gè)導(dǎo)體都由諸如鋼管這樣的中空部件形成。這些導(dǎo)體23、24、27、29，冷卻液入口部31和冷卻液出口部32彼此互相連通，從而形成冷卻液流通路徑。根據(jù)該實(shí)施例，堵塞結(jié)合導(dǎo)體29的中間部，使得在第一側(cè)面11的各個(gè)側(cè)上設(shè)置冷卻液流通路徑的獨(dú)立管線。
[0036]熱處理方法
[0037]如圖1所示，為了使用具有加熱線圈21的熱處理裝置20對(duì)工件10進(jìn)行熱處理，使工件10沿著縱向以給定速度朝著一側(cè)相對(duì)移動(dòng)，使得工件10貫穿加熱線圈21和冷卻部22，高頻電力供給到該加熱線圈21并且冷卻液供給到給冷卻部22。
[0038]圖6A所示的工件10首先經(jīng)過(guò)突出導(dǎo)體23，感應(yīng)加熱第一側(cè)面11的凹部14和凹部14附近的部分，如圖6B所示。隨后，工件10經(jīng)過(guò)基部24，從而感應(yīng)加熱整個(gè)第一表面11，如圖6C所示。
[0039]在這種狀態(tài)下，在剛好經(jīng)過(guò)加熱線圈21的結(jié)合導(dǎo)體29之后的位置處，冷卻部22將冷卻液噴射到工件10上，以快速冷卻工件10，從而沿著第一側(cè)面11的形狀對(duì)每個(gè)第一表面11的表面層進(jìn)行淬火，并且熱處理結(jié)束。在熱處理之后，可以從未經(jīng)淬火的第二表面12切割工件10，諸如攻螺紋孔，如圖6D所示。
[0040]根據(jù)上述加熱線圈21，面對(duì)第一側(cè)面11的基部導(dǎo)體24和面對(duì)凹部14的突出導(dǎo)體23布置成沿著工件10的縱向延伸，使得電流在縱向上流經(jīng)基部導(dǎo)體和突出導(dǎo)體。因此，能夠延長(zhǎng)加熱線圈21面對(duì)工件10的長(zhǎng)度，使得能夠在不增加電力的情況下加熱第一側(cè)面11。
[0041]此外，因?yàn)榛繉?dǎo)體24和突出導(dǎo)體23布置成沿著工件10的縱向延伸，所以能夠利用簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)使加熱線圈21的形狀與工件10的形狀一致。因此能使電流流動(dòng)距離短，以抑制損耗，并且能夠使冷卻液流動(dòng)路徑簡(jiǎn)單并且容易冷卻。
[0042]結(jié)果，能夠利用小的電力加速工件10的第一側(cè)面11的熱處理。
[0043]當(dāng)將基部導(dǎo)體24布置成重疊突出導(dǎo)體23時(shí)，有益之處在于:能夠縮短加熱線圈21面對(duì)工件10的長(zhǎng)度，從而能夠使加熱線圈21緊湊。
[0044]通過(guò)使突出導(dǎo)體23在縱向上比基部導(dǎo)體24長(zhǎng)，當(dāng)加熱第一側(cè)面11時(shí)，凹部14和第一表面11的靠近凹部14的部分由突出導(dǎo)體23充分地加熱，并且基部導(dǎo)體24能夠以小的熱量加熱整個(gè)第一表面11。因此，能夠充分地加熱第一側(cè)面11，同時(shí)防止可能由熱傳遞引起的第二側(cè)面12的過(guò)度加熱。
[0045]即，在角部13處產(chǎn)生快速熱傳遞，使得第二側(cè)面12傾向于由來(lái)自第一側(cè)面11的熱廣泛地加熱。鑒于此，基部導(dǎo)體24以小的熱量加熱整個(gè)第一側(cè)面11，從而使第二側(cè)面12的加熱最小化。
[0046]加熱線圈21加熱從突出導(dǎo)體23朝著基部導(dǎo)體24相對(duì)移動(dòng)的工件10。即，突出導(dǎo)體23首先加熱凹部14和凹部14附近的部分，并且基部導(dǎo)體24隨后加熱整個(gè)第一側(cè)面
11。因此，能夠使由于加熱結(jié)束時(shí)的熱傳遞而過(guò)度加熱第二側(cè)面12的風(fēng)險(xiǎn)最小化。
[0047]當(dāng)突出導(dǎo)體23和基部導(dǎo)體24形成為單件結(jié)構(gòu)時(shí)，能夠容易地執(zhí)行加熱線圈的裝接和定位。此外，能夠使電流流動(dòng)距離和冷卻液流動(dòng)路徑短并且簡(jiǎn)單，從而能夠進(jìn)一步加速工件10的熱處理。
[0048]當(dāng)加熱線圈21具有多組突出導(dǎo)體23和基部導(dǎo)體24、并且該多組在每組的突出導(dǎo)體23或基部導(dǎo)體24處互相結(jié)合時(shí)，能夠以較小的電力加速工件10的多個(gè)第一表面11和第一表面11的凹部14的熱處理。特別地，通過(guò)在加熱結(jié)束時(shí)抑制第二側(cè)面12的過(guò)度加熱，防止第一側(cè)面11之間的第二側(cè)面13的組分改變，從而確保第二側(cè)面12的加工性能。
[0049]根據(jù)使用加熱線圈21的熱處理裝置20和熱處理方法，能夠以小的電力加速工件10的第一側(cè)面11的熱處理。突出導(dǎo)體23在基部導(dǎo)體24的上游位置處加熱凹部14，并且在加熱整個(gè)側(cè)面11之后立即對(duì)工件10進(jìn)行淬火。因此，能夠在抑制熱處理第二側(cè)面12的同時(shí)熱處理第一側(cè)面11。
[0050] 雖然已經(jīng)參考特定實(shí)施例描述了本發(fā)明，但是能夠在本發(fā)明的范圍內(nèi)對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種變化和修改。
[0051 ] 例如，在以上實(shí)施例中，基部導(dǎo)體24的至少一部分布置成重疊突出導(dǎo)體23。然而，基部導(dǎo)體24和突出導(dǎo)體23可以在工件10的縱向上布置在不同的位置處。并且在這種情況下，優(yōu)選地，突出導(dǎo)體23布置在基部導(dǎo)體24的上游，使得在利用突出導(dǎo)體23加熱凹部14之后，利用基部導(dǎo)體24加熱第一表面11，并且防止凹部14的溫度在到達(dá)冷卻部22之前過(guò)度下降。
[0052]實(shí)例
[0053]第一實(shí)例
[0054]除了使用圖1所示的加熱線圈21并且供給1kHz的頻率的電力之外，以與第一參考實(shí)例相同的方式執(zhí)行感應(yīng)加熱和冷卻。結(jié)果，以適當(dāng)?shù)姆绞綄?duì)第一側(cè)面11和凹部14淬火。加熱線圈21的冷卻液從入口側(cè)到出口側(cè)的溫度增加是8°C。
[0055]第二實(shí)例
[0056]除了使用圖1所示的加熱線圈21并且將工件10的進(jìn)給速度增加30%之外，以與第二參考實(shí)例相同的方式執(zhí)行感應(yīng)加熱和冷卻。結(jié)果，以適當(dāng)?shù)姆绞綄?duì)第一側(cè)面11和凹部14進(jìn)行淬火。加熱線圈21的冷卻液從入口側(cè)到出口側(cè)的溫度增加是12.5°C。
[0057]第一參考實(shí)例
[0058]制備帶有設(shè)置在一對(duì)側(cè)面11上的凹部14的具有大致矩形截面的工件10，制備角線圈并且將該角線圈安置在加熱區(qū)域，如圖7所示，并且通過(guò)將電力以25kHz供給到加熱線圈來(lái)執(zhí)行感應(yīng)加熱和冷卻 。結(jié)果，以適當(dāng)?shù)姆绞綄?duì)第一側(cè)面11和凹部14進(jìn)行淬火。加熱線圈的冷卻液從入口側(cè)到出口側(cè)的溫度增加是21°C。
[0059]第二參考實(shí)例
[0060]除了電力升高20%并且以1kHz的頻率供給電力之外，以與第一參考實(shí)例相同的方式執(zhí)行感應(yīng)加熱和冷卻。未能以適當(dāng)?shù)姆绞綄?duì)第一側(cè)面11和凹部14進(jìn)行淬火，并且未提供充分的硬度。
[0061]實(shí)例的結(jié)果示出:第一和第二實(shí)例的加熱線圈21能夠在加速熱處理的同時(shí)以較小的電力適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行淬火。關(guān)于圖7所示的加熱線圈，與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過(guò)在抑制電氣的互相作用的同時(shí)確保加熱線圈面對(duì)工件10的充分面積而提高了熱處理速度。然而，當(dāng)與第一和第二實(shí)例的加熱線圈21比較時(shí)，利用圖7所示的加熱線圈的熱處理速度較低。此外，圖7所示的加熱線圈引起冷卻液溫度的巨大增加和比由實(shí)例的加熱線圈21引起的損耗更大的損耗。從而，發(fā)現(xiàn)圖7所示的加熱線圈的熱處理效率比實(shí)例的加熱線圈21的效率低。
[0062]工業(yè)實(shí)用性
[0063]本發(fā)明的一個(gè)以上的實(shí)施例提供了能夠以小的電力消耗加速對(duì)于細(xì)長(zhǎng)工件的側(cè)面進(jìn)行的熱處理的加熱線圈、熱處理裝置和熱處理方法。
[0064]本申請(qǐng)基于2012年3月2日提交的日本專利申請(qǐng)N0.2012-047435，該專利申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用并入此處。
【權(quán)利要求】
1.一種加熱線圈，該加熱線圈構(gòu)造成感應(yīng)加熱細(xì)長(zhǎng)工件，所述工件具有沿著角部互相鄰接的第一側(cè)面和第二側(cè)面，其中，所述第一側(cè)面在從所述角部隔開(kāi)的位置處具有凹部，并且所述第一側(cè)面、所述第二側(cè)面和所述凹部在所述工件的縱向上連續(xù)地延伸，該加熱線圈包括: 基部導(dǎo)體，該基部導(dǎo)體構(gòu)造成面對(duì)所述第一側(cè)面；和 突出導(dǎo)體,該突出導(dǎo)體構(gòu)造成面對(duì)所述凹部， 其中，所述突出導(dǎo)體的寬度比所述基部導(dǎo)體的寬度窄； 所述突出導(dǎo)體布置成從所述基部導(dǎo)體的位置朝著所述凹部突出，并且 所述基部導(dǎo)體和所述突出導(dǎo)體布置成在所述縱向上延伸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱線圈，其中，所述基部導(dǎo)體布置成重疊所述突出導(dǎo)體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的加熱線圈，其中，所述突出導(dǎo)體在所述縱向上比所述基部導(dǎo)體長(zhǎng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3的任意一項(xiàng)所述的加熱線圈，其中，所述突出導(dǎo)體的至少一部分布置成在所述縱向上從所述基部導(dǎo)體突出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4的任意一項(xiàng)所述的加熱線圈，其中，所述基部導(dǎo)體和所述突出導(dǎo)體形成為單件結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5的任意一項(xiàng)所述的加熱線圈，其中，多組所述基部導(dǎo)體和所述突出導(dǎo)體設(shè)置成與設(shè)置在所述第二側(cè)面的每個(gè)側(cè)上的所述第一側(cè)面相對(duì)應(yīng)，并且所述多組所述基部導(dǎo)體和所述突出導(dǎo)體在每組的所述突出導(dǎo)體或所述基部導(dǎo)體處互相結(jié)合。
7.一種熱處理裝置，包括: 如在權(quán)利要求1至6的任意一項(xiàng)所述的加熱線圈；和 冷卻部，該冷卻部構(gòu)造成冷卻所述工件， 其中，所述加熱線圈布置成感應(yīng)加熱在所述縱向上相對(duì)移動(dòng)的所述工件， 所述冷卻部在所述縱向上布置在所述加熱線圈的下游，并且 所述突出導(dǎo)體的至少一部分在所述縱向上布置在所述基部導(dǎo)體的上游。
8.一種使用如在權(quán)利要求1至6中的任意一項(xiàng)所述的加熱線圈的熱處理方法，該方法包括: 通過(guò)使所述工件在所述縱向上相對(duì)于所述加熱線圈移動(dòng)來(lái)感應(yīng)加熱所述工件；和 在所述縱向上的所述加熱線圈的下游位置處冷卻所述工件， 其中，所述突出導(dǎo)體在所述縱向上在所述基部導(dǎo)體的上游位置處感應(yīng)加熱所述工件。
【文檔編號(hào)】C21D1/667GK104169443SQ201380012198
【公開(kāi)日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2013年2月27日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月2日
【發(fā)明者】田中嘉昌, 杉山豐 申請(qǐng)人:高周波熱錬株式會(huì)社