掩模組件及使用掩模組件的薄膜沉積方法
【專利摘要】提供了一種掩模組件和一種使用該掩模組件的薄膜沉積方法。掩模組件包括掩?？蚣埽谀？蚣馨ǖ谝贿?、第二邊、第三邊和第四邊。第一邊、第二邊、第三邊和第四邊形成矩形。矩形的內(nèi)側(cè)限定窗口。掩模框架具有設置為從矩形的至少兩個角朝著窗口突出的多個基板安放部分。所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線方向彼此面對。掩模組件包括位于掩模組件的第一邊到第四邊彼此相交處的四個角。掩模包括用于沉積的多個開口。多個開口被布置為與窗口相對應。
【專利說明】掩模組件及使用掩模組件的薄膜沉積方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種掩模組件，更具體地說，涉及一種使用該掩模組件的薄膜沉積方 法。

【背景技術(shù)】
[0002] 在顯示裝置中，有機發(fā)光顯示裝置可以是自發(fā)光顯示裝置。有機發(fā)光顯示裝置可 以具有寬的視角、優(yōu)異的對比度和高的響應速度。
[0003] 有機發(fā)光顯示裝置可以包括中間層，中間層包括位于彼此面對的電極之間的至少 一層發(fā)光層。電極和中間層可以以各種方法形成，而這些方法中的一種就是沉積方法。
[0004] 在一種使用沉積方法來制造有機發(fā)光顯示裝置的方法中，具有期望圖案的薄膜可 以通過制造具有與將要形成在基板上的薄膜圖案相同的開口圖案的掩模而形成在基板上。 例如，精細金屬掩模（FMM)可以與基板緊密接觸，沉積材料可以通過FMM沉積在基板上。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 在將基板布置在掩模組件上的情況下，掩模框架的內(nèi)側(cè)和基板的外側(cè)彼此疊置預 定的寬度。通過將沉積材料沉積在基板上而使薄膜形成在基板上。掩模框架的內(nèi)側(cè)限定 用于支撐基板的窗口。產(chǎn)生了寬的疊置區(qū)域，并且在增加想要實際形成在基板上的單元格 (unit cell)的數(shù)量方面存在限制。
[0006] 本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例提供了一種在使掩?？蚣芎突逯g的疊置區(qū)域最 小化的同時能夠增加形成在基板上的單元格的數(shù)量的掩模組件。
[0007] 在本發(fā)明構(gòu)思的至少一個示例性實施例中，提供了一種在使掩模框架和基板之間 的疊置區(qū)域最小化的同時能夠增加形成在基板上的單元格的數(shù)量的使用掩模組件的薄膜 沉積方法。
[0008] 在本發(fā)明構(gòu)思的至少一個示例性實施例中，提供了一種掩模組件，該掩模組件包 括掩模框架，掩模框架包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊。第一邊、第二邊、第三邊和第 四邊形成矩形。矩形的內(nèi)側(cè)限定窗口。掩?？蚣芫哂卸鄠€基板安放部分?；灏卜挪糠挚?以從矩形的至少兩個角朝著窗口突出。所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線方向彼 此面對。掩模組件包括掩模，掩模包括多個開口。掩模固定到掩?？蚣堋Ｋ龆鄠€開口被 布置為與窗口相對應。
[0009] 在本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例中，提供了一種薄膜沉積方法，該薄膜沉積方法包 括準備包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊的掩?？蚣堋５谝贿叀⒌诙?、第三邊和第四邊 形成矩形。矩形的內(nèi)側(cè)限定窗口。掩模框架具有被設置為從矩形的至少兩個角朝窗口突出 的多個基板安放部分。所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線方向彼此面對。該方法 包括在掩?？蚣苌喜贾冒ǘ鄠€開口的掩模以及將掩模固定到掩?？蚣?。所述多個開口被 布置為與窗口相對應。該方法包括在掩模上安放基板，使得基板的外側(cè)被布置為與掩?？?架的第一邊、第二邊、第三邊和第四邊的內(nèi)側(cè)貼合。該方法包括通過窗口和用于沉積的所述 多個開口在基板上沉積沉積材料。
[0010] 本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例包括被設置為從至少兩個角朝窗口突出的多個基板 安放部分。所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線方向彼此面對?；搴脱谀？蚣苤?間的疊置區(qū)域能夠被最小化，基板能夠被穩(wěn)定地支撐。薄膜可以通過沉積沉積材料而形成 在基板上。
[0011] 根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩模組件可以增加將要形成在基板上的單元 格的數(shù)量。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012] 通過參照下面結(jié)合附圖考慮時進行的詳細描述，本公開的更完整的理解和本公開 的許多附加方面將容易獲得并變得更加容易理解，其中：
[0013] 圖1是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩模組件的透視圖；
[0014] 圖2是示出了根據(jù)圖1中示出的本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩模的平面圖；
[0015] 圖3是根據(jù)圖1中示出的本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩?？蚣艿钠矫鎴D；
[0016] 圖4是示出了從圖1中的掩模組件省略了掩模的狀態(tài)下基板和掩模框架之間的布 置關(guān)系的平面圖；
[0017] 圖5是沿圖4中的A-A線截取的截面圖；
[0018] 圖6到圖10是示出了圖1中的掩模框架的各種示例性實施例的平面圖；
[0019] 圖11是示出了使用圖1中的掩模組件的薄膜沉積方法的流程圖；
[0020] 圖12到圖16是說明使用圖11中的掩?？蚣艿谋∧こ练e方法的視圖。

【具體實施方式】
[0021] 通過參照下面對優(yōu)選實施例和附圖的詳細描述，可以更加容易地理解本發(fā)明構(gòu)思 的示例性實施例及其實現(xiàn)方法。然而，本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例可以以多種不同的形式 來實施，并且不應該被解釋為局限于在此闡述的實施例。相反，提供這些實施例使本公開將 是徹底的和完全的，這些實施例將把本發(fā)明構(gòu)思的原理充分地傳達給本領(lǐng)域技術(shù)人員。
[0022] 還將理解的是，當層被稱作"在"另一層或基板"上"時，該層可以直接在所述另一 層或基板上，或者也可以存在中間層。在整個說明書中，相同的標號指示相同的元件。
[0023] 在這里可使用術(shù)語第一、第二、第三等來描述不同的元件、組件、區(qū)域、層和/或部 分，然而，這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應該受這些術(shù)語限制。這些術(shù)語僅是用來 將一個元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一個元件、組件、區(qū)域、層或部分區(qū)分開來。因此，在 不脫離本發(fā)明構(gòu)思的教導的情況下，下面討論的第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可被命名 為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。
[0024] 將參照附圖詳細描述本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例。
[0025] 圖1是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩模組件的透視圖，圖2是示出了在圖 1中示出的掩模的示例性實施例的平面圖。
[0026] 參照圖1，掩模組件100可以包括掩模框架110、掩模120和焊接部分130。
[0027] 可以使用掩模組件100通過將沉積材料沉積在基板的期望位置上來形成薄膜圖 案?；蹇梢允怯糜陲@示裝置的基板。例如，基板可以是用于諸如有機發(fā)光顯示裝置、液晶 顯示裝置和等離子體顯示裝置的顯示裝置的基板?；蹇梢允锹慊寤蛘呔植啃纬捎兄T如 薄膜和布線的結(jié)構(gòu)的基板?；蹇梢允前ㄍㄟ^以格為單元進行切割而形成的多個單元格 (unit cell)的母板，多個單元格可以聚集為顯示基板。
[0028] 掩?？蚣?10可以支撐掩模120,并且可以由具有高剛度的金屬材料(例如，諸如 不銹鋼的金屬）形成。掩?？蚣?10可以通過焊接結(jié)合到掩模120。掩?？蚣?10可以形 成為在通過掩模120在基板上沉積沉積材料時不干擾沉積的結(jié)構(gòu)。例如，掩模框架110可 以具有限定窗口W的帶的形狀。
[0029] 掩模120可以包括多個開口 0P。開口 0P可以用于沉積。掩模120可以固定到掩 模框架110。多個開口 〇p可以用于沉積。多個開口可以被布置為與掩模框架110的窗口 W 相對應。掩模120可以形成為使得用于沉積的多個開口 0P不與掩?？蚣?10的多個基板 安放部分(例如，圖3中的SS)疊置。掩模120可以是多個開口 0P形成在一個金屬板上的 一體型掩模，例如，如圖1中所示。掩模120a可以是多個開口 0P分開地形成在多個金屬板 上的分離型掩模，例如，如圖2中所示。
[0030] 多個開口 0P可以位于一條線上，并且可以沿一個方向彼此分隔開。多個開口 0P可 以通過掩模框架110的窗口 W暴露。每個開口 0P可以包括多個精細開口。多個精細開口 的形狀可以形成為與將要沉積在布置在掩模120上的基板上的薄膜的形狀相對應。在沉積 過程中，沉積材料可以通過開口 0P沉積在基板上，可以形成具有期望的形狀的薄膜(例如， 有機發(fā)光顯示裝置中的有機發(fā)光層的金屬層)。
[0031] 一個開口 0P可以與可以是單元格的一個平板顯示器(例如，有機發(fā)光顯示裝置)相 對應。與多個平板顯示器相對應的圖案可以使用掩模組件1〇〇通過單個過程同時沉積。掩 模組件100可以與母基板相對應，而可以與多個平板顯示器相對應的圖案可以同時形成在 母基板上。
[0032] 焊接部分130可以形成在掩模120的邊框上。掩模120的邊框可以對應于掩模框 架110的各個邊。焊接部分130可以通過用于將掩模120固定在掩?？蚣?10上的焊接(例 如，點焊或激光焊）來形成。
[0033] 掩模組件100可以包括輔助焊接部分140。輔助焊接部分140可以形成在掩模120 的與掩模框架110的多個基板安放部分(例如，圖3中的SS)對應的部分上。輔助焊接部分 140可以固定掩?？蚣?10。多個基板安放部分(例如，圖3中的SS)可以形成在掩模框架 110 上。
[0034] 圖3是根據(jù)圖1中示出的本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩?？蚣艿钠矫鎴D。圖4 是示出了從圖1中的掩模組件省略了掩模的狀態(tài)下基板和掩模框架之間的布置關(guān)系的平 面圖，圖5是沿圖4中的A-A線截取的截面圖。
[0035] 參照圖3,掩模框架110可以包括可以形成矩形的第一邊111到第四邊114。窗口 W可以由第一邊111到第四邊114的內(nèi)側(cè)來限定。
[0036] 掩?？蚣?10可以包括多個基板安放部分SS，所述多個基板安放部分SS可以從 至少兩個角朝著窗口w突出。所述至少兩個角中的兩個角可以沿對角線方向彼此面對。例 如，基板安放部分SS可以形成在第一邊111和第四邊114彼此相交處。例如，基板安放部 分SS可以形成為從第一邊111和第四邊114彼此相交的角以及第二邊112和第三邊113彼 此相交的角朝著窗口 W突出。在本發(fā)明構(gòu)思的至少一個示例性實施例中，基板安放部分SS 可以形成為從第一邊111和第二邊112彼此相交的角以及第三邊113和第四邊114彼此相 交的角朝著窗口 W突出。基板安放部分SS可以具有三角形的形狀。
[0037] 多個基板安放部分SS可以在使基板S和掩模框架110之間的疊置區(qū)域最小化的 同時穩(wěn)定地支撐基板S。可以通過將沉積材料沉積在基板上而使薄膜形成在基板上?；?S的外側(cè)0C可以與掩?？蚣?10的第一邊111到第四邊114的內(nèi)側(cè)貼合。例如，如圖4中 所示，基板S和掩?？蚣?10之間的疊置區(qū)域可以減小至陰影區(qū)域?？梢栽黾訉⒁纬稍?基板S上的單元格的數(shù)量。
[0038] 基板S可以由可以結(jié)合到掩?？蚣?10的掩模120支撐。掩模120可以具有不足 以使掩模120支撐基板S的薄的厚度。掩?？蚣?10的厚度T1可以比掩模120的厚度T2 厚。厚度T1可以使用于多個基板安放部分SS的支撐力增加?；灏卜挪糠諷S可以與掩 ?？蚣?10相關(guān)聯(lián)并且可以支撐基板S。
[0039] 圖6到圖10是示出了圖1中的掩?？蚣艿母鞣N示例性實施例的平面圖。
[0040] 例如，圖6示出了掩?？蚣?10a可以包括三個基板安放部分SS1。掩模框架110a 可以包括可以從兩個角朝著窗口 W突出的基板安放部分SS1。三個基板安放部分SS1中的 兩個可以在對角線方向上彼此面對?；灏卜挪糠諷S1可以包括可以在對角線方向上沒有 面對另一基板安放部分SS1的第三基板安放部分SS1。例如，基板安放部分SS1可以形成為 分別從第一邊111和第四邊114彼此相交的角、第二邊112和第三邊113彼此相交的角以 及第三邊113和第四邊114彼此相交的角朝著窗口 W突出?；灏卜挪糠諷S1可以具有三 角形的形狀?；灏卜挪糠諷S1可以使能夠支撐基板的區(qū)域的數(shù)量增加?；蹇梢员话卜?在掩模組件上。圖7示出掩?？蚣?10b，掩?？蚣?10b可以包括四個基板安放部分SS2。 掩?？蚣?10b可以包括分別從第一邊111到第四邊114彼此相交的四個角朝著窗口 W突 出的基板安放部分SS2?；灏卜挪糠諷S2可以形成為分別從第一邊111和第二邊112彼 此相交的角、第二邊112和第三邊113彼此相交的角、第三邊113和第四邊114彼此相交的 角以及第四邊114和第一邊111彼此相交的角朝著窗口 W突出。基板安放部分SS2可以具 有三角形的形狀?；灏卜挪糠諷S2可以使能夠支撐基板的區(qū)域的數(shù)量增加?；蹇梢园?放在掩模組件上。
[0041] 圖8示出了可以包括矩形的基板安放部分SS3的掩?？蚣?10c。矩形的基板安放 部分SS3可以增加與基板的接觸面積?；蹇梢员话卜旁谘谀＝M件上。圖8示出了可以從 第一邊111和第四邊114彼此相交的角以及第二邊112和第三邊113彼此相交的角朝著窗 口 W突出的兩個基板安放部分SS3?；灏卜挪糠諷S3的數(shù)量可以為三個，例如，如圖6中 所示，或者可以是四個，例如，如圖7中所示。
[0042] 圖9示出了可以包括扇形的基板安放部分SS4的掩?？蚣?10d。扇形的基板安放 部分SS4可以增加與基板的接觸面積。基板可以被安放在掩模組件上。圖9示出了兩個基 板安放部分SS4。基板安放部分SS4可以從第一邊111和第四邊114彼此相交的角以及第 二邊112和第三邊113彼此相交的角朝著窗口 W突出?；灏卜挪糠諷S4的數(shù)量也可以是 如圖6中所示的三個，或者可以是如圖7中所示的四個。
[0043] 圖10示出了可以包括基板安放部分SS5的掩模框架110e?；灏卜挪糠諷S5可 以具有通過從矩形去除扇形而獲得的形狀。通過從矩形去除扇形而獲得的形狀可以增加與 基板的接觸面積。基板可以被安放在掩模組件上。圖10示出了可以朝著窗口 W突出的兩 個基板安放部分SS5?；灏卜挪糠諷S5可以從第一邊111和第四邊114彼此相交的角以 及第二邊112和第三邊113彼此相交的角朝著窗口突出?；灏卜挪糠諷S5的數(shù)量也可以 是如圖6中所示的三個，或者可以是如圖7中所示的四個。
[0044] 根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩模組件100可以包括多個基板安放部分SS。 基板安放部分SS可以從至少兩個角朝著窗口 W突出。兩個角可以在對角線方向上彼此面 對?；錝可以被穩(wěn)定地支撐，并且基板S和掩?？蚣?10之間的疊置區(qū)域可以被最小化。 可以通過將沉積材料沉積在基板上而在基板上形成薄膜。
[0045] 可以通過根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩模組件100來增加將要形成在基 板S上的單元格的數(shù)量。
[0046] 圖11是示出了例如使用圖1中的掩模組件的薄膜沉積方法的流程圖。圖12到圖 16是示出了使用例如圖3中的掩模框架的薄膜沉積方法的視圖。
[0047] 參照圖11，使用根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的掩模組件100的薄膜沉積方法 可以包括掩模框架準備步驟（S10)、掩模固定步驟（S20)、基板安放步驟（S30)和沉積步驟 (S40)。
[0048] 參照圖12,可以準備包括第一邊111到第四邊114的掩?？蚣?10,第一邊111到 第四邊114可以形成矩形?？梢愿鶕?jù)步驟（S10)(例如，圖12)來執(zhí)行準備掩?？蚣?10。 矩形的內(nèi)側(cè)可以限定窗口 W。掩?？蚣?10可以包括多個基板安放部分SS?；灏卜挪糠?SS可以朝著窗口 W突出。基板安放部分SS可以從可以沿對角線方向彼此面對的至少兩個 角朝著窗口 W突出。掩?？蚣艿慕强梢苑謩e位于第一邊111到第四邊114彼此相交處。
[0049] 掩?？蚣軠蕚洳襟E（S10)可以包括形成掩模框架110,使得掩?？蚣?10具有比掩 模120的厚度T2厚的厚度T1 (例如，圖13)。掩?？蚣軠蕚洳襟E（S10)可以包括形成基板 安放部分SS，使得基板安放部分的平面形狀成為三角形、矩形、扇形和通過從矩形去掉扇形 而獲得的形狀中的任意一種。
[0050] 參照圖13,掩模固定步驟（S20)可以布置包括多個開口 0P的掩模120。開口 0P可 以布置為與窗口 W對應。掩模固定步驟（S20)可以使掩模120固定到掩?？蚣?10。
[0051] 可以將掩模120準備成多個開口 0P可以形成在一個金屬板上的一體型掩模或多 個開口 0P分開地形成在多個金屬板上的分離型掩模。掩模120可以形成為使得多個開口 0P不與基板安放部分SS疊置。
[0052] 在掩模固定步驟（S20)中，可以通過在掩模120的邊框上形成焊接部分130來執(zhí) 行掩模固定步驟。掩模120的邊框可以與掩?？蚣?10的各個邊111到114相對應。掩模 固定步驟（S20)可以包括在掩模120的部分上形成輔助焊接部分140。掩模120的所述部 分可以與掩?？蚣?10的多個基板安放部分SS相對應。
[0053] 隨著執(zhí)行掩模框架準備步驟（S10)和掩模固定步驟（S20)，可以完成掩模組件 100。可以在薄膜沉積中使用掩模組件100。
[0054] 參照圖14和圖15,基板安放步驟（S30)可以將基板S安放在掩模120上?；錝 的外側(cè)0C可以布置為與掩?？蚣?10的第一邊111到第四邊114的內(nèi)側(cè)貼合。
[0055] 在基板安放步驟（S30)中，首先可以在執(zhí)行沉積工藝的空間中將掩模組件100固 定到框架支撐10。然后，可以通過運輸部分20將基板S布置在掩模120上。運輸部分20 可以使基板S的外側(cè)0C對準為與掩?？蚣?10的第一邊111到第四邊114的內(nèi)側(cè)貼合。 基板安放部分SS可以支撐基板S?；灏卜挪糠諷S可以使基板S和掩?？蚣?10之間的 疊置區(qū)域(例如，圖15中的SS)最小化。運輸部分20可以用于按壓基板S并防止基板S下 垂?；錝可以是用于顯示裝置(諸如有機發(fā)光顯示裝置、液晶顯示裝置或等離子體顯示裝 置）的基板。
[0056] 參照圖16,沉積步驟（S40)可以通過窗口 W和多個開口（圖13中的0P)在基板S 上沉積沉積材料DM。
[0057] 具體地說，在沉積步驟（S40)中，可以將沉積材料DM (例如，金屬材料或有機物)提 供到基板S的一側(cè)，從而使用布置在掩模組件100的下部的沉積供應源30在基板S上形成 期望的薄膜圖案(例如，金屬層或有機發(fā)光層)。
[0058] 本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解的是，在基本上不脫離本發(fā)明構(gòu)思的原理的情況下，可以 對優(yōu)選實施例進行許多變化和修改。上述的內(nèi)容是對本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的說明， 并且不被解釋為限制本發(fā)明構(gòu)思。
【權(quán)利要求】
1. 一種掩模組件，所述掩模組件包括： 掩?？蚣?，包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊，第一邊、第二邊、第三邊和第四邊形 成矩形； 窗口，由矩形的內(nèi)側(cè)限定； 多個基板安放部分，被構(gòu)造為從矩形的至少兩個角朝著窗口突出，所述至少兩個角中 的兩個角沿矩形的對角線方向彼此面對； 掩模，固定到掩模框架，掩模包括布置為與窗口相對應的多個開口。
2. 如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，所述多個基板安放部分的形狀從由三角形、矩 形、扇形和從矩形去除扇形而獲得的形狀組成的組中選擇。
3. 如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，掩?？蚣艿暮穸缺妊谀５暮穸群?。
4. 如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，掩模是一體型掩模或分離型掩模，在一體型掩 模中，所述多個開口形成在一個金屬板上，在分離型掩模中，所述多個開口分開地形成在多 個金屬板上。
5. 如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，所述多個開口形成在掩模上，使得所述多個開 口不與基板安放部分疊置。
6. 如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，焊接部分形成在掩模的邊框上，邊框?qū)谘??？蚣艿母鱾€邊。
7. 如權(quán)利要求6所述的掩模組件，其中，輔助焊接部分形成在掩模的一部分上，掩模的 所述一部分對應于掩模框架的所述多個基板安放部分。
8. -種薄膜沉積方法，所述薄膜沉積方法包括： 準備包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊的掩?？蚣埽谝贿?、第二邊、第三邊和第四 邊形成矩形，矩形的內(nèi)側(cè)限定窗口，掩?？蚣芫哂卸鄠€基板安放部分，所述多個基板安放部 分被構(gòu)造為從矩形的至少兩個角朝窗口突出，所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線 方向彼此面對； 在掩?？蚣苌喜贾冒ǘ鄠€開口的掩模并將掩模固定到掩模框架，開口被布置為與窗 口相對應； 在掩模上安放基板，使得基板的外側(cè)被布置為與掩?？蚣艿牡谝贿?、第二邊、第三邊和 第四邊的內(nèi)側(cè)貼合； 通過窗口和所述多個開口在基板上沉積沉積材料。
9. 如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，準備掩?？蚣艿牟襟E包括形成基板安放 部分，使得基板安放部分的形狀從由三角形、矩形、扇形和從矩形去除扇形而獲得的形狀組 成的組中選擇。
10. 如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，準備掩模框架的步驟包括形成掩?？?架，使得掩?？蚣艿暮穸缺妊谀５暮穸群?。
11. 如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，固定掩模的步驟包括將掩模制備成一體 型掩?；蚍蛛x型掩模，在一體型掩模中，所述多個開口形成在一個金屬板上，在分離型掩模 中，所述多個開口分開地形成在多個金屬板上。
12. 如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，固定掩模的步驟包括形成掩模，使得所 述多個開口不與基板安放部分疊置。
13. 如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，固定掩模的步驟包括在掩模的邊框上形 成焊接部分，掩模的邊框?qū)谘谀？蚣艿母鱾€邊。
14. 如權(quán)利要求13所述的薄膜沉積方法，其中，固定掩模的步驟包括在掩模的一部分 上形成輔助焊接部分，掩模的所述一部分對應于掩?？蚣艿乃龆鄠€基板安放部分。
15. 如權(quán)利要求13所述的薄膜沉積方法，其中，安放基板的步驟包括準備基板作為用 于有機發(fā)光顯示裝置的基板。
16. 如權(quán)利要求13所述的薄膜沉積方法，其中，沉積的步驟包括準備沉積材料，所述沉 積材料包括用于形成有機發(fā)光顯示裝置的金屬層的金屬材料或用于形成有機發(fā)光層的有 機物。
【文檔編號】C23C14/04GK104152845SQ201410017383
【公開日】2014年11月19日 申請日期:2014年1月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月13日
【發(fā)明者】高政佑 申請人:三星顯示有限公司