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      砂輪修整器在研磨部件上的滑動(dòng)距離分布的獲得方法、滑動(dòng)矢量分布的獲得方法及研磨裝置制造方法

      文檔序號(hào):3310177閱讀:140來(lái)源:國(guó)知局
      砂輪修整器在研磨部件上的滑動(dòng)距離分布的獲得方法、滑動(dòng)矢量分布的獲得方法及研磨裝置制造方法
      【專利摘要】一種方法,獲得高精度的研磨部件外形的方法。本方法包含如下工序:通過(guò)將砂輪修整器與研磨部件的相對(duì)速度乘以兩者的接觸時(shí)間,來(lái)算出砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量,通過(guò)將算出的滑動(dòng)距離的增量乘以至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù),來(lái)補(bǔ)正滑動(dòng)距離的增量,隨著經(jīng)過(guò)時(shí)間重復(fù)加上補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量,算出滑動(dòng)距離,從所得到獲得距離與獲得距離算出點(diǎn)的位置,生成砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布。所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)包含對(duì)滑動(dòng)距離算出點(diǎn)設(shè)置的凹凸補(bǔ)正系數(shù)。凹凸補(bǔ)正系數(shù)是用于使形成于研磨部件表面的凸部的磨量與凹部的磨量的差異反映研磨部件外形的補(bǔ)正系數(shù)。
      【專利說(shuō)明】砂輪修整器在研磨部件上的滑動(dòng)距離分布的獲得方法、滑動(dòng)矢量分布的獲得方法及研磨裝置
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及這樣一種方法:用于獲得對(duì)晶片等研磨對(duì)象物的表面進(jìn)行研磨的研磨裝置所使用的研磨部件的外形,尤其涉及一種通過(guò)修整的模擬實(shí)驗(yàn)獲得砂輪修整器在研磨部件上的滑動(dòng)距離分布的方法。
      [0002]另外,本發(fā)明涉及這樣一種方法:獲得能用于評(píng)價(jià)研磨部件的修整的砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布。
      [0003]還有,本發(fā)明涉及一種能實(shí)行上述方法的研磨裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0004]近年來(lái),隨著半導(dǎo)體器件的高集成化的發(fā)展,電路的配線也細(xì)微化,所集成的器件尺寸也更細(xì)微化。因此,需要下述工序:對(duì)表面形成有例如金屬等膜的晶片進(jìn)行研磨,并使晶片的表面平坦化。作為該平坦化方法之一,有利用化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)裝置進(jìn)行的研磨?;瘜W(xué)機(jī)械研磨裝置具有:研磨部件(研磨布、研磨墊等)、以及對(duì)晶片等研磨對(duì)象物進(jìn)行保持的保持部(頂環(huán)、研磨頭和夾頭等)。并且,將研磨對(duì)象物的表面(被研磨面)按壓到研磨部件的表面,在研磨部件與研磨對(duì)象物之間一邊供給研磨液(磨液、藥液、漿料和純水等),一邊使研磨部件與研磨對(duì)象物相對(duì)運(yùn)動(dòng),由此將研磨對(duì)象物的表面研磨成平坦。采用化學(xué)機(jī)械研磨裝置進(jìn)行的研磨,能利用化學(xué)研磨作用和機(jī)械研磨作用進(jìn)行更良好的研磨。
      [0005]作為這樣的化學(xué)機(jī)械研磨裝置所使用的研磨部件的材料,一般使用發(fā)泡樹脂或無(wú)紡布。在研磨部件的表面形成有細(xì)微的凹凸,該細(xì)微的凹凸作為氣孔有效地起到防止堵塞和減小研磨阻力的作用。但是,若用研磨部件持續(xù)對(duì)研磨對(duì)象物進(jìn)行研磨,研磨部件表面的細(xì)微的凹凸就會(huì)被破壞,造成研磨速率的下降。因此,要用電鍍有金剛石粒子等許多磨粒的砂輪修整器對(duì)研磨部件表面進(jìn)行修整(銼加工),在研磨部件表面再形成細(xì)微的凹凸。
      [0006]作為研磨部件的修整方法,有如下的方法:使用與研磨部件在研磨中所使用的區(qū)域相同或比其大的砂輪修整器(大徑砂輪修整器)的方法;或使用比研磨部件在研磨中所使用的區(qū)域小的砂輪修整器(小徑砂輪修整器)的方法。在使用大徑砂輪修整器的場(chǎng)合,例如固定砂輪修整器的位置并一邊使砂輪修整器旋轉(zhuǎn),一邊將電鍍有磨粒的修整面按壓在旋轉(zhuǎn)的研磨部件上從而進(jìn)行修整。在使用小徑砂輪修整器的場(chǎng)合,例如一邊使旋轉(zhuǎn)的砂輪修整器移動(dòng)(圓弧狀或直線狀地往復(fù)運(yùn)動(dòng)、擺動(dòng)),一邊將修整面按壓在旋轉(zhuǎn)的研磨部件上從而進(jìn)行修整。然而在如此使研磨部件旋轉(zhuǎn)地進(jìn)行修整的場(chǎng)合,研磨部件的整個(gè)表面中用于研磨的區(qū)域?qū)嶋H上是以研磨部件的旋轉(zhuǎn)中心為中心的圓環(huán)形區(qū)域。
      [0007]在對(duì)研磨部件進(jìn)行修整時(shí),雖然是微量的,但研磨部件的表面被磨削。因此,若不適當(dāng)進(jìn)行修整就會(huì)有下述不良情況:在研磨部件的表面產(chǎn)生不適當(dāng)?shù)牟y,在被研磨面內(nèi)研磨速率產(chǎn)生波動(dòng)。研磨速率的波動(dòng)是研磨不良的原因,故必須進(jìn)行修整以使研磨部件的表面不產(chǎn)生不適當(dāng)?shù)牟y。即,通過(guò)在研磨部件的適當(dāng)轉(zhuǎn)速、砂輪修整器的適當(dāng)轉(zhuǎn)速、適當(dāng)修整載荷、在小徑砂輪修整器的場(chǎng)合砂輪修整器以適當(dāng)?shù)囊苿?dòng)速度這種適當(dāng)?shù)男拚麠l件下進(jìn)行修整,從而避免研磨速率的波動(dòng)。
      [0008]專利文獻(xiàn)1:日本專利特開2010-76049號(hào)公報(bào)
      [0009]發(fā)明所要解決的課題
      [0010]修整條件,根據(jù)已修整的研磨部件的外形(研磨面的截面形狀)而調(diào)整。研磨部件的外形,需要通過(guò)實(shí)際地對(duì)研磨部件進(jìn)行修整,并用千分尺等厚度測(cè)量器在多個(gè)測(cè)定點(diǎn)的研磨部件的厚度(或研磨部件的表面高度)進(jìn)行測(cè)定而獲得。但是,基于這種實(shí)際測(cè)定,獲得研磨部件的外形的作業(yè)花時(shí)間,成本高。
      [0011]作為評(píng)價(jià)研磨部件的修整的指標(biāo),可以列舉:研磨部件的外形及切割速率。研磨部件的外形表示沿研磨部件的研磨面徑向的截面形狀,研磨部件的切割速率表示每單位時(shí)間研磨部件被砂輪修整器磨削的研磨部件的量(厚度)。這些外形及切割速率,可根據(jù)沿研磨部件的徑向的滑動(dòng)距離分布來(lái)推定。
      [0012]如專利文獻(xiàn)I所示,有一種對(duì)研磨部件不實(shí)際進(jìn)行修整而利用墊修整模擬實(shí)驗(yàn)來(lái)獲得研磨部件外形的方法。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0013]本發(fā)明的第I目的是,提供一種通過(guò)改進(jìn)后的墊修整模擬實(shí)驗(yàn)獲得更高精度的研磨部件的外形的方法。
      [0014]另外,本發(fā)明的第2目的是,提供一種制作用于評(píng)價(jià)研磨部件的修整的新指標(biāo)的方法。
      [0015]用于解決課題的手段
      [0016]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的第I實(shí)施方式是這樣一種方法:獲得在用于研磨基板的研磨部件上滑動(dòng)的砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布的方法,該方法的特點(diǎn)是,包含如下步驟:對(duì)在所述研磨部件上的規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的相對(duì)速度進(jìn)行計(jì)算;通過(guò)將所述相對(duì)速度乘以在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的接觸時(shí)間,來(lái)算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量;通過(guò)將至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)乘以所述算出的滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量;通過(guò)將所述補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量加上在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的目前的滑動(dòng)距離,來(lái)更新所述滑動(dòng)距離;以及根據(jù)所述更新后的滑動(dòng)距離和所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的位置,生成所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布,所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)包含對(duì)所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)設(shè)置的凹凸補(bǔ)正系數(shù),所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)是用于使形成于所述研磨部件的表面的凸部的磨量與凹部的磨量的差異反映到所述研磨部件的外形的補(bǔ)正系數(shù),通過(guò)將所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)乘以所述滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正該滑動(dòng)距離的增量。
      [0017]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,算出在與所述砂輪修整器接觸的多個(gè)滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的滑動(dòng)距離的平均值,通過(guò)從在與所述砂輪修整器接觸的所述規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述滑動(dòng)距離中減去所述平均值,來(lái)算出差值,通過(guò)將所述差值輸入規(guī)定的函數(shù),從而決定所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)。
      [0018]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)還包含預(yù)先設(shè)定的摩擦補(bǔ)正系數(shù),在重復(fù)進(jìn)行從計(jì)算所述相對(duì)速度至補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量的工序期間,當(dāng)在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)、所述砂輪修整器與所述研磨部件接觸規(guī)定次數(shù)以上的場(chǎng)合,通過(guò)將所述摩擦補(bǔ)正系數(shù)乘以所述滑動(dòng)距離的增量,來(lái)進(jìn)一步補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量。
      [0019]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)還包含基板滑動(dòng)距離補(bǔ)正系數(shù),算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的基板在所述研磨部件上的滑動(dòng)距離,算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述基板的滑動(dòng)距離相對(duì)于所述砂輪修整器滑動(dòng)距離之比,通過(guò)將所述比輸入規(guī)定的函數(shù),來(lái)決定所述基板滑動(dòng)距離補(bǔ)正系數(shù)。
      [0020]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,還包含算出表面修整率的工序,所述表面修整率表示所述研磨部件上的砂輪修整器接觸區(qū)域相對(duì)于基板接觸區(qū)域的比例。
      [0021]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,還包含決定修整條件的工序,所述修整條件用于使所述表面修整率為規(guī)定目標(biāo)值以上。
      [0022]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,還包含下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的波動(dòng)的指標(biāo)。
      [0023]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,還包含決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的波動(dòng)的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以下。
      [0024]本發(fā)明的第2實(shí)施方式是一種研磨裝置,其特點(diǎn)是,具有:對(duì)研磨部件進(jìn)行支承的研磨臺(tái);將基板按壓在所述研磨部件上并對(duì)該基板進(jìn)行研磨的基板保持部;對(duì)所述研磨部件進(jìn)行修整的砂輪修整器;以及獲得在所述研磨部件上滑動(dòng)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布的修整監(jiān)視裝置,所述修整監(jiān)視裝置包含下述工序:對(duì)在所述研磨部件上的規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的相對(duì)速度進(jìn)行計(jì)算;通過(guò)將所述相對(duì)速度乘以在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的接觸時(shí)間,來(lái)算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量;通過(guò)將至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)乘以所述算出的滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量;通過(guò)將所述補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量加上在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的目前的滑動(dòng)距離,來(lái)更新所述滑動(dòng)距離;以及根據(jù)所述更新后的滑動(dòng)距離和所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的位置,生成所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布,所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)包含對(duì)所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)設(shè)置的凹凸補(bǔ)正系數(shù),所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)是用于使形成于所述研磨部件的表面的凸部的磨量與凹部的磨量的差異反映到所述研磨部件的外形的補(bǔ)正系數(shù),通過(guò)將所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)乘以所述滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正該滑動(dòng)距離的增量。
      [0025]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置算出在與所述砂輪修整器接觸的多個(gè)滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的滑動(dòng)距離的平均值,通過(guò)從在與所述砂輪修整器接觸的所述規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述滑動(dòng)距離中減去所述平均值,來(lái)算出差值,通過(guò)將所述差值輸入規(guī)定的函數(shù),來(lái)決定所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)。
      [0026]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)還包含預(yù)先設(shè)定的摩擦補(bǔ)正系數(shù),在重復(fù)進(jìn)行從計(jì)算所述相對(duì)速度至補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量的工序期間,當(dāng)在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)、所述砂輪修整器與所述研磨部件接觸規(guī)定次數(shù)以上的場(chǎng)合,所述修整監(jiān)視裝置通過(guò)將所述摩擦補(bǔ)正系數(shù)乘以所述滑動(dòng)距離的增量,來(lái)進(jìn)一步補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量。
      [0027]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)還包含基板滑動(dòng)距離補(bǔ)正系數(shù),所述修整監(jiān)視裝置算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的基板在所述研磨部件上的滑動(dòng)距離,算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述基板的滑動(dòng)距離相對(duì)于所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離之比,通過(guò)將所述比輸入規(guī)定的函數(shù),來(lái)決定所述基板滑動(dòng)距離補(bǔ)正系數(shù)。
      [0028]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行算出表面修整率的工序,所述表面修整率表示所述研磨部件上的砂輪修整器接觸區(qū)域相對(duì)于基板接觸區(qū)域的比例。
      [0029]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行決定修整條件的工序,所述修整條件用于使所述表面修整率為規(guī)定目標(biāo)值以上。
      [0030]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的波動(dòng)的指標(biāo)。
      [0031]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的波動(dòng)的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以下。
      [0032]本發(fā)明的第3實(shí)施方式是一種方法,是獲得在研磨部件上滑動(dòng)的砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布的方法,本方法的特點(diǎn)是,對(duì)在所述研磨部件上的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的相對(duì)速度進(jìn)行計(jì)算,通過(guò)將所述相對(duì)速度乘以在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的接觸時(shí)間,來(lái)算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量,通過(guò)將至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)乘以所述算出的滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量,算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)方向,根據(jù)所述算出的滑動(dòng)方向來(lái)選擇預(yù)先設(shè)定的多個(gè)滑動(dòng)方向的某一方向,通過(guò)將所述補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量加上在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的與所述選擇的方向關(guān)聯(lián)的目前的滑動(dòng)距離并更新所述滑動(dòng)距離,來(lái)生成滑動(dòng)矢量,根據(jù)所述滑動(dòng)矢量和所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的位置,生成所述砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布。
      [0033]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,還包含下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述滑動(dòng)矢量的波動(dòng)的指標(biāo)。
      [0034]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,還包含決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述滑動(dòng)矢量的波動(dòng)的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以下。
      [0035]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,還包含下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述滑動(dòng)矢量的正交性的指標(biāo)。
      [0036]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,還包含決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述滑動(dòng)矢量的正交性的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以上。
      [0037]本發(fā)明的第4實(shí)施方式是一種研磨裝置,其特點(diǎn)是,具有:對(duì)研磨部件進(jìn)行支承的研磨臺(tái);將基板按壓在所述研磨部件上并對(duì)該基板進(jìn)行研磨的基板保持部;對(duì)所述研磨部件進(jìn)行修整的砂輪修整器;以及獲得在所述研磨部件上滑動(dòng)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布的修整監(jiān)視裝置,所述修整監(jiān)視裝置對(duì)在所述研磨部件上的規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的相對(duì)速度進(jìn)行計(jì)算,通過(guò)將所述相對(duì)速度乘以在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的接觸時(shí)間,來(lái)算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量,通過(guò)將至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)乘以所述算出的滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量,并算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)方向,根據(jù)所述算出的滑動(dòng)方向來(lái)選擇預(yù)先設(shè)定的多個(gè)滑動(dòng)方向的某一方向,通過(guò)將所述補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量加上在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的與所述選擇后的方向關(guān)聯(lián)的目前的滑動(dòng)距離并更新所述滑動(dòng)距離,來(lái)生成滑動(dòng)矢量,根據(jù)所述滑動(dòng)矢量和所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的位置,生成所述砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布。
      [0038]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行下述工序:算出表示所述多個(gè)滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述滑動(dòng)矢量的波動(dòng)的指標(biāo)。
      [0039]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述滑動(dòng)矢量的波動(dòng)的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以下。
      [0040]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述滑動(dòng)矢量的正交性的指標(biāo)。
      [0041]本發(fā)明的較佳實(shí)施方式的特點(diǎn)是,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述滑動(dòng)矢量的正交性的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以上。
      [0042]發(fā)明的效果
      [0043]在研磨部件(例如研磨墊)有表面凹凸的場(chǎng)合,凸部?jī)?yōu)先被砂輪修整器磨削,凹部難以被磨削。采用本發(fā)明的第I及第2實(shí)施方式,則這樣的表面凹凸的影響反映為算出的滑動(dòng)距離。能夠根據(jù)砂輪修整器的滑動(dòng)距離對(duì)表面凹凸進(jìn)行推定。具體來(lái)說(shuō),砂輪修整器的滑動(dòng)距離長(zhǎng)的部位形成有凹部,砂輪修整器的滑動(dòng)距離短的部位形成有凸部。采用本發(fā)明,在砂輪修整器的滑動(dòng)距離長(zhǎng)的算出點(diǎn)(即凹部),較少地補(bǔ)正滑動(dòng)距離的增量,在滑動(dòng)距離短的算出點(diǎn)(即凸部),較多地補(bǔ)正滑動(dòng)距離的增量。因此,可獲得反映了研磨部件表面凹凸的正確的滑動(dòng)距離分布。研磨部件的外形可根據(jù)滑動(dòng)距離分布進(jìn)行推定。
      [0044]采用本發(fā)明的第3及第4實(shí)施方式,獲得砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布,作為對(duì)研磨部件的修整進(jìn)行評(píng)價(jià)的指標(biāo)。該滑動(dòng)矢量不僅表示砂輪修整器的滑動(dòng)距離,而且表示砂輪修整器的滑動(dòng)方向。該滑動(dòng)方向會(huì)影響在研磨部件的研磨面上形成條紋(刮痕)的方法。這樣的條紋(刮痕)被認(rèn)為會(huì)影響在研磨部件上的研磨液的流動(dòng)方式和研磨液的滯留時(shí)間等。因此,從所得到的滑動(dòng)矢量分布,能更正確地對(duì)研磨部件的修整進(jìn)行評(píng)價(jià)。
      【專利附圖】

      【附圖說(shuō)明】
      [0045]圖1是表示對(duì)晶片等基板進(jìn)行研磨的研磨裝置的示意圖。
      [0046]圖2是示意性表示砂輪修整器及研磨墊的俯視圖。
      [0047]圖3(a)至圖3(c)是分別表示修整面的例子的示圖。
      [0048]圖4是表示研磨墊上的砂輪修整器的滑動(dòng)距離的分布的一例子的示圖。
      [0049]圖5是表示獲得滑動(dòng)距離分布的方法的流程圖。
      [0050]圖6是表示被定義在研磨墊上的多個(gè)滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的示圖。
      [0051]圖7是表示在研磨墊的研磨面上有波紋的場(chǎng)合進(jìn)行修整的示圖。
      [0052]圖8是用二維法表示修整面在研磨墊接觸的區(qū)域上的滑動(dòng)距離分布的示圖。
      [0053]圖9是表示砂輪修整器傾斜狀態(tài)的示圖。
      [0054]圖10 (a)是當(dāng)用直徑IOOmm的砂輪修整器對(duì)直徑740mm的研磨墊進(jìn)行研磨時(shí)表示砂輪修整器的外周端最大從研磨墊露出25mm時(shí)的狀態(tài)的俯視圖,圖10(b)是表示通過(guò)研磨墊中心和砂輪修整器中心的直線上的修整壓力分布的示圖。
      [0055]圖11 (a)是表示砂輪修整器從研磨墊露出時(shí)的修整壓力分布的傾斜(標(biāo)準(zhǔn)化傾斜)的圖形,圖11(b)是表示標(biāo)準(zhǔn)化y切片的圖形。[0056]圖12是表示滑動(dòng)距離的分布的示圖。
      [0057]圖13是表示在沿著研磨墊徑向排列的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)上的滑動(dòng)矢量的示圖。
      [0058]圖14是表示相比于圖13的修整條件更高速地使研磨臺(tái)旋轉(zhuǎn),更低速地使砂輪修整器旋轉(zhuǎn)時(shí)的滑動(dòng)矢量的示圖。
      [0059]圖15是將在獲得圖13所示的滑動(dòng)矢量的修整條件下的研磨墊的研磨面狀態(tài)予以模式化的示圖。
      [0060]圖16是將在獲得圖14所示的滑動(dòng)矢量的修整條件下的研磨墊的研磨面狀態(tài)予以模式化的示圖。
      [0061]圖17是表示在研磨墊的研磨上預(yù)先定義的多個(gè)同心狀的環(huán)狀區(qū)域的示圖。
      [0062]圖18是表示分別在多個(gè)環(huán)狀區(qū)域的平均滑動(dòng)矢量的示圖。
      [0063]圖19(a)至圖19(c)是對(duì)算出滑動(dòng)矢量的正交性指標(biāo)的方法進(jìn)行說(shuō)明的示圖。
      [0064]符號(hào)說(shuō)明
      [0065]I 研磨單元
      [0066]2 修整單元
      [0067]3 底座
      [0068]4 研磨液供給噴管
      [0069]5 砂輪修整器
      [0070]9 研磨臺(tái)
      [0071]10研磨墊
      [0072]15萬(wàn)向接頭
      [0073]16砂輪修整器軸
      [0074]17砂輪修整器臂
      [0075]20 頂環(huán)
      [0076]31臺(tái)用旋轉(zhuǎn)式編碼器
      [0077]32砂輪修整器用旋轉(zhuǎn)式編碼器
      [0078]35墊粗糙度測(cè)量器
      [0079]40墊高度傳感器
      [0080]41傳感器用目標(biāo)件
      [0081]60修整監(jiān)視裝置
      【具體實(shí)施方式】
      [0082]下面,參照說(shuō)明書附圖來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。圖1是表示對(duì)晶片等基板進(jìn)行研磨的研磨裝置的示意圖。如圖1所示,研磨裝置具有:對(duì)研磨墊(研磨部件)10進(jìn)行保持的研磨臺(tái)9 ;用于研磨晶片W的研磨單元I ;將研磨液供給到研磨墊10上的研磨液供給噴管4 ;以及對(duì)用于研磨晶片W的研磨墊10進(jìn)行修整(修正)的修整單元2。研磨單元I及修整單元2設(shè)置在底座3上。
      [0083]研磨單元I具有與頂環(huán)旋轉(zhuǎn)軸18下端連接的頂環(huán)(基板保持部)20。利用真空吸附而將晶片W保持在頂環(huán)20的下表面上。頂環(huán)旋轉(zhuǎn)軸18利用未圖示的電動(dòng)機(jī)的驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn),頂環(huán)20及晶片W隨著該頂環(huán)旋轉(zhuǎn)軸18的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。頂環(huán)旋轉(zhuǎn)軸18利用未圖示的上下移動(dòng)機(jī)構(gòu)(例如由伺服電動(dòng)機(jī)及滾珠絲杠等構(gòu)成)而相對(duì)于研磨墊10作上下移動(dòng)。
      [0084]研磨臺(tái)9與配置在其下方的電動(dòng)機(jī)13連接。研磨臺(tái)9通過(guò)電動(dòng)機(jī)13繞其軸心旋轉(zhuǎn)。在研磨臺(tái)9的上表面貼附有研磨墊10,研磨墊10的上表面構(gòu)成對(duì)晶片W進(jìn)行研磨的研磨面10a。
      [0085]晶片W的研磨如下進(jìn)行。分別使頂環(huán)20及研磨臺(tái)9旋轉(zhuǎn),并將研磨液供給到研磨墊10上。在該狀態(tài)下,使保持有晶片W的頂環(huán)20下降,再利用設(shè)置在頂環(huán)20內(nèi)的由氣囊構(gòu)成的加壓機(jī)構(gòu)(未圖示)將晶片W按壓在研磨墊10的研磨面IOa上。晶片W與研磨墊10在存在有研磨液的情況下互相滑動(dòng)接觸,由此晶片W的表面被研磨、被平坦化。
      [0086]修整單元2具有:與研磨墊10的研磨面IOa接觸的砂輪修整器5 ;與砂輪修整器5連接的砂輪修整器軸16 ;設(shè)在砂輪修整器軸16上端上的氣缸19 ;以及支承砂輪修整器軸16為旋轉(zhuǎn)自如的砂輪修整器臂17。砂輪修整器5的下表面固定有金剛石粒子等的磨粒。砂輪修整器5的下表面構(gòu)成對(duì)研磨墊10進(jìn)行修整的修整面。
      [0087]砂輪修整器軸16及砂輪修整器5相對(duì)于砂輪修整器臂17可上下移動(dòng)。氣缸19是將對(duì)研磨墊10的修整載荷賦予砂輪修整器5的裝置。修整載荷可利用供給于氣缸19的空氣壓力進(jìn)行調(diào)整。
      [0088]砂輪修整器臂17由電動(dòng)機(jī)56驅(qū)動(dòng),并構(gòu)成為以支軸58為中心進(jìn)行擺動(dòng)。砂輪修整器軸16通過(guò)設(shè)置在砂輪修整器臂17內(nèi)的未圖示的電動(dòng)機(jī)而旋轉(zhuǎn),通過(guò)該砂輪修整器軸16的旋轉(zhuǎn),砂輪修整器5繞其軸心旋轉(zhuǎn)。氣缸19通過(guò)砂輪修整器軸16而以規(guī)定的載荷將砂輪修整器5按壓在研磨墊10的研磨面IOa上。
      [0089]研磨墊10的研磨面IOa的修整如下進(jìn)行。利用電動(dòng)機(jī)13使研磨臺(tái)9及研磨墊10旋轉(zhuǎn),從未圖示的修整液供給噴管將修整液(例如純水)供給到研磨墊10的研磨面IOa上。進(jìn)一步,使砂輪修整器5繞其軸心旋轉(zhuǎn)。砂輪修整器5通過(guò)氣缸19而被按壓在研磨面IOa上,使砂輪修整器5的下表面(修整面)與研磨面IOa滑動(dòng)接觸。在該狀態(tài)下,使砂輪修整器臂17旋轉(zhuǎn),使研磨墊10上的砂輪修整器5向研磨墊10的大致徑向擺動(dòng)。研磨墊10被旋轉(zhuǎn)的砂輪修整器5磨削,由此,對(duì)研磨面IOa進(jìn)行修整。
      [0090]在砂輪修整器臂17上固定有測(cè)量研磨面IOa的高度的墊高度傳感器40。另外,在砂輪修整器軸16上固定有與墊高度傳感器40相對(duì)的傳感器用目標(biāo)件41。傳感器用目標(biāo)件41與砂輪修整器軸16及砂輪修整器5 —體地上下移動(dòng),另一方面,墊高度傳感器40的上下方向的位置是固定的。墊高度傳感器40是位移傳感器,通過(guò)測(cè)量傳感器用目標(biāo)件41的位移,從而可間接地測(cè)量出研磨面IOa的高度(研磨墊10的厚度)。由于傳感器用目標(biāo)件41與砂輪修整器5連接,因此,墊高度傳感器40可在研磨墊10的修整中測(cè)量出研磨面IOa的高度。
      [0091]墊高度傳感器40根據(jù)與研磨面IOa接觸的砂輪修整器5的上下方向的位置間接地測(cè)定研磨面10a。因此,砂輪修整器5下表面(修整面)所接觸的研磨面IOa的平均高度由墊高度傳感器40測(cè)定。作為墊高度傳感器40,可使用線性刻度式傳感器、激光式傳感器、超聲波傳感器或渦電流式傳感器等所有型式的傳感器。
      [0092]墊高度傳感器40與修整監(jiān)視裝置60連接,墊高度傳感器40的輸出信號(hào)(即研磨面IOa的高度測(cè)定值)被輸入修整監(jiān)視裝置60。修整監(jiān)視裝置60具有這樣的功能:根據(jù)研磨面IOa的高度測(cè)定值獲得研磨墊10的外形(研磨面IOa的截面形狀),進(jìn)而判斷對(duì)研磨墊10的修整是否正確進(jìn)行。
      [0093]研磨裝置具有:對(duì)研磨臺(tái)9及研磨墊10的旋轉(zhuǎn)角度進(jìn)行測(cè)定的臺(tái)用旋轉(zhuǎn)式編碼器31 ;以及對(duì)砂輪修整器5的回旋角度進(jìn)行測(cè)定的砂輪修整器用旋轉(zhuǎn)式編碼器32。這些臺(tái)用旋轉(zhuǎn)式編碼器31及砂輪修整器用旋轉(zhuǎn)式編碼器32是對(duì)角度的絕對(duì)值進(jìn)行測(cè)定的絕對(duì)編碼器。這些旋轉(zhuǎn)式編碼器31、32與修整監(jiān)視裝置60連接,修整監(jiān)視裝置60可在通過(guò)墊高度傳感器40對(duì)研磨面IOa進(jìn)行的高度測(cè)定時(shí)獲得研磨臺(tái)9及研磨墊10的旋轉(zhuǎn)角度進(jìn)而獲得砂輪修整器5的回旋角度。
      [0094]砂輪修整器5通過(guò)萬(wàn)向接頭15與砂輪修整器軸16連接。砂輪修整器軸16與未圖示的電動(dòng)機(jī)連接。砂輪修整器軸16旋轉(zhuǎn)自如地被砂輪修整器臂17支承,砂輪修整器5通過(guò)該砂輪修整器臂17與研磨墊10接觸,并如圖2所示地在研磨墊10的徑向上擺動(dòng)。萬(wàn)向接頭15構(gòu)成為,允許砂輪修整器5傾動(dòng),且將砂輪修整器軸16的旋轉(zhuǎn)傳遞給砂輪修整器
      5。修整單元2由砂輪修整器5、萬(wàn)向接頭15、砂輪修整器軸16、砂輪修整器臂17及未圖示的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)等構(gòu)成。利用模擬實(shí)驗(yàn)求出砂輪修整器5的滑動(dòng)距離的修整監(jiān)視裝置60與該修整單元2電連接。該修整監(jiān)視裝置60可使用專用或通用的計(jì)算機(jī)。
      [0095]在砂輪修整器5的下表面固定有金剛石粒子等的磨粒。固定有該磨粒的部分構(gòu)成對(duì)研磨墊10的研磨面進(jìn)行修整的修整面。圖3(a)至圖3(c)是分別表示修整面例子的示圖。在圖3(a)所示的例子中,在砂輪修整器5的整個(gè)下表面固定有磨粒,而形成圓形的修整面。在圖3(b)所示的例子中,在砂輪修整器5下表面的周緣部上固定有磨粒,而形成環(huán)狀的修整面。在圖3(c)所示的例子中,在繞砂輪修整器5中心大致等間隔排列的多個(gè)小徑圓形區(qū)域的表面固定有磨粒,而形成多個(gè)圓形的修整面。
      [0096]當(dāng)對(duì)研磨墊10進(jìn)行修整時(shí),如圖1所示,使研磨墊10以規(guī)定的轉(zhuǎn)速向箭頭方向旋轉(zhuǎn),利用未圖示的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使砂輪修整器5以規(guī)定的轉(zhuǎn)速向箭頭方向旋轉(zhuǎn)。并且,在該狀態(tài)下,以規(guī)定的修整載荷將砂輪修整器5的修整面(配置有磨粒的面)按壓在研磨墊10上而對(duì)研磨墊10進(jìn)行修整。另外,砂輪修整器5通過(guò)利用砂輪修整器臂17在研磨墊10上進(jìn)行擺動(dòng),從而可對(duì)研磨墊10的研磨中所使用的區(qū)域(研磨區(qū)域即對(duì)晶片W等的研磨對(duì)象物進(jìn)行研磨的區(qū)域)進(jìn)行修整。
      [0097]由于砂輪修整器5通過(guò)萬(wàn)向接頭15而與砂輪修整器軸16連接,因此,即使砂輪修整器軸16相對(duì)于研磨墊10的表面稍許傾斜,砂輪修整器5的修整面也與研磨墊10適當(dāng)?shù)纸印T谘心|10的上方配置有對(duì)研磨墊10的表面粗糙度進(jìn)行測(cè)量墊粗糙度測(cè)量器35。作為該墊粗糙度測(cè)量器35,可采用光學(xué)式等公知的非接觸型的表面粗糙度測(cè)量器。墊粗糙度測(cè)量器35與修整監(jiān)視裝置60連接,研磨墊10的表面粗糙度的測(cè)量值被輸入修整監(jiān)視裝置60。
      [0098]接著,參照?qǐng)D2來(lái)對(duì)砂輪修整器5的擺動(dòng)進(jìn)行說(shuō)明。砂輪修整器臂17以J點(diǎn)為中心繞順時(shí)針及逆時(shí)針回旋規(guī)定角度。該J點(diǎn)的位置相當(dāng)于圖1所示的支軸58的中心位置。并且,通過(guò)砂輪修整器臂17的回旋,砂輪修整器5的中心在圓弧L所示的范圍內(nèi)在研磨墊10的徑向上擺動(dòng)。
      [0099]這里,在例如砂輪修整器5的下表面整體配置有磨粒的類型的砂輪修整器的場(chǎng)合(即在圖3 (a)例子的場(chǎng)合),若砂輪修整器5的擺動(dòng)速度在圓弧L的整個(gè)區(qū)域?yàn)楹愣ǎ瑒t研磨墊10上的砂輪修整器5的滑動(dòng)距離分布如圖4那樣。另外,圖4所示的滑動(dòng)距離分布是砂輪修整器5的滑動(dòng)距離在沿研磨墊10徑向的分布。另外,圖4的所謂“標(biāo)準(zhǔn)化滑動(dòng)距離”,是將滑動(dòng)距離的數(shù)值除以滑動(dòng)距離的平均值后的數(shù)值。在研磨墊10的磨量分布與砂輪修整器5的滑動(dòng)距離分布之間被認(rèn)為有大致正比關(guān)系。因此,可根據(jù)滑動(dòng)距離分布來(lái)推定研磨墊10的外形。
      [0100]一般,在研磨墊10的與晶片抵接的區(qū)域內(nèi),若砂輪修整器5對(duì)研磨墊10進(jìn)行的磨量分布大致均勻,則研磨墊10的研磨面IOa平坦,其結(jié)果,晶片的被研磨面內(nèi)的研磨速度(即去除速率)的波動(dòng)就小。由于認(rèn)為在研磨墊10的磨量分布與砂輪修整器5的滑動(dòng)距離分布之間有大致正比關(guān)系,因此,不希望圖4那樣的滑動(dòng)距離分布的場(chǎng)合,晶片的被研磨面內(nèi)的去除速率的波動(dòng)大。
      [0101]為了避免這種現(xiàn)象,根據(jù)圓弧L的場(chǎng)所來(lái)改變砂輪修整器5的擺動(dòng)速度。例如,將圓弧L分割成幾個(gè)擺動(dòng)區(qū)間,如表1所示,分別對(duì)每個(gè)擺動(dòng)區(qū)間決定砂輪修整器5的擺動(dòng)速度。
      [0102]表1
      【權(quán)利要求】
      1.一種方法,是獲得在用于研磨基板的研磨部件上滑動(dòng)的砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布的方法,該方法的特征在于,包含下述工序: 對(duì)在所述研磨部件上的規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的相對(duì)速度進(jìn)行計(jì)算; 通過(guò)將所述相對(duì)速度乘以在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的接觸時(shí)間,來(lái)算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量; 通過(guò)將至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)乘以所述算出的滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量; 通過(guò)將所述補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量加上在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的目前的滑動(dòng)距離,來(lái)更新所述滑動(dòng)距離;以及 根據(jù)所述更新后的滑動(dòng)距離和所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的位置,生成所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布, 所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)包含對(duì)所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)設(shè)置的凹凸補(bǔ)正系數(shù), 所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)是用于使形成于所述研磨部件的表面的凸部的磨量與凹部的磨量的差異反映所述研磨部件的外形的補(bǔ)正系數(shù), 通過(guò)將所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)乘以所述滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正該滑動(dòng)距離的增量。
      2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于, 算出在與所述砂輪修整器接觸的多個(gè)滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的滑動(dòng)距離的平均值, 通過(guò)從在與所述砂輪修整器接觸的所述規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述滑動(dòng)距離中減去所述平均值,來(lái)算出差值, 通過(guò)將所述差值輸入規(guī)定的函數(shù),從而決定所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)。
      3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于, 所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)還包含預(yù)先設(shè)定的摩擦補(bǔ)正系數(shù), 在重復(fù)進(jìn)行從計(jì)算所述相對(duì)速度至補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量的工序期間,當(dāng)在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)、所述砂輪修整器與所述研磨部件接觸規(guī)定次數(shù)以上的場(chǎng)合,通過(guò)將所述摩擦補(bǔ)正系數(shù)乘以所述滑動(dòng)距離的增量,來(lái)進(jìn)一步補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量。
      4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于, 所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)還包含基板滑動(dòng)距離補(bǔ)正系數(shù), 算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的基板在所述研磨部件上的滑動(dòng)距離, 算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述基板的滑動(dòng)距離相對(duì)于所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離之比, 通過(guò)將所述比輸入規(guī)定的函數(shù),來(lái)決定所述基板滑動(dòng)距離補(bǔ)正系數(shù)。
      5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,還包含算出表面修整率的工序,所述表面修整率表示所述研磨部件上的砂輪修整器接觸區(qū)域相對(duì)于基板接觸區(qū)域的比例。
      6.如權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,還包含決定修整條件的工序,所述修整條件用于使所述表面修整率為規(guī)定目標(biāo)值以上。
      7.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,還包含下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的波動(dòng)的指標(biāo)。
      8.如權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,還包含決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的波動(dòng)的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以下。
      9.一種研磨裝置,其特征在于,具有: 對(duì)研磨部件進(jìn)行支承的研磨臺(tái); 將基板按壓在所述研磨部件上并對(duì)該基板進(jìn)行研磨的基板保持部; 對(duì)所述研磨部件進(jìn)行修整的砂輪修整器;以及 獲得在所述研磨部件上滑動(dòng)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布的修整監(jiān)視裝置, 所述修整監(jiān)視裝置包含下述工序: 對(duì)在所述研磨部件上的規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的相對(duì)速度進(jìn)行計(jì)算; 通過(guò)將所述相對(duì)速度乘以在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的接觸時(shí)間,來(lái)算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量; 通過(guò)將至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)乘以所述算出的滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量; 通過(guò)將所述補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量加上在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的目前的滑動(dòng)距離,來(lái)更新所述滑動(dòng)距離;以及 根據(jù)所述更新后的滑動(dòng)距離和所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的位置,生成所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離分布, 所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)包含對(duì)所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)設(shè)置的凹凸補(bǔ)正系數(shù), 所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)是用于使形成于所述研磨部件的表面的凸部的磨量與凹部的磨量的差異反映所述研磨部件的外形的補(bǔ)正系數(shù), 通過(guò)將所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)乘以所述滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正該滑動(dòng)距離的增量。
      10.如權(quán)利要求9所述的研磨裝置,其特征在于, 所述修整監(jiān)視裝置算出在與所述砂輪修整器接觸的多個(gè)滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的滑動(dòng)距離的平均值, 通過(guò)從在與所述砂輪修整器接觸的所述規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述滑動(dòng)距離中減去所述平均值,來(lái)算出差值, 通過(guò)將所述差值輸入規(guī)定的函數(shù),來(lái)決定所述凹凸補(bǔ)正系數(shù)。
      11.如權(quán)利要求9所述的研磨裝置,其特征在于,所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)還包含預(yù)先設(shè)定的摩擦補(bǔ)正系數(shù), 在重復(fù)進(jìn)行從計(jì)算所述相對(duì)速度至補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量的工序期間,當(dāng)在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)、所述砂輪修整器與所述研磨部件接觸規(guī)定次數(shù)以上的場(chǎng)合,所述修整監(jiān)視裝置通過(guò)將所述摩擦補(bǔ)正系數(shù)乘以所述滑動(dòng)距離的增量,來(lái)進(jìn)一步補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量。
      12.如權(quán)利要求9所述的研磨裝置,其特征在于,所述至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)還包含基板滑動(dòng)距離補(bǔ)正系數(shù), 所述修整監(jiān)視裝置算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的基板在所述研磨部件上的滑動(dòng)距離,算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述基板的滑動(dòng)距離相對(duì)于所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離之比, 通過(guò)將所述比輸入規(guī)定的函數(shù),來(lái)決定所述基板滑動(dòng)距離補(bǔ)正系數(shù)。
      13.如權(quán)利要求9所述的研磨裝置,其特征在于,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行算出表面修整率的工序,所述表面修整率表示所述研磨部件上的砂輪修整器接觸區(qū)域相對(duì)于基板接觸區(qū)域的比例。
      14.如權(quán)利要求13所述的研磨裝置,其特征在于,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行決定修整條件的工序,所述修整條件用于使所述表面修整率為規(guī)定目標(biāo)值以上。
      15.如權(quán)利要求9所述的研磨裝置,其特征在于,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的波動(dòng)的指標(biāo)。
      16.如權(quán)利要求15所述的研磨裝置,其特征在于,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的波動(dòng)的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以下。
      17.一種方法,是獲得在研磨部件上滑動(dòng)的砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布的方法,其特征在于, 對(duì)在所述研磨部件上的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的相對(duì)速度進(jìn)行計(jì)算, 通過(guò)將所述相對(duì)速度乘以在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的接觸時(shí)間,來(lái)算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量, 通過(guò)將至少一個(gè)補(bǔ) 正系數(shù)乘以所述算出的滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量, 算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)方向,根據(jù)所述算出的滑動(dòng)方向來(lái)選擇預(yù)先設(shè)定的多個(gè)滑動(dòng)方向的某一方向,通過(guò)將所述補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量加上在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的與所述選擇的方向關(guān)聯(lián)的目前的滑動(dòng)距離并更新所述滑動(dòng)距離,來(lái)生成滑動(dòng)矢量, 根據(jù)所述滑動(dòng)矢量和所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的位置,生成所述砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布。
      18.如權(quán)利要求17所述的方法,其特征在于,還包含下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述滑動(dòng)矢量的波動(dòng)的指標(biāo)。
      19.如權(quán)利要求18所述的方法,其特征在于,還包含決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述滑動(dòng)矢量的波動(dòng)的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以下。
      20.如權(quán)利要求17所述的方法,其特征在于,還包含下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述滑動(dòng)矢量的正交性的指標(biāo)。
      21.如權(quán)利要求20所述的方法,其特征在于,還包含決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述滑動(dòng)矢量的正交性的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以上。
      22.—種研磨裝置,其特征在于,具有: 對(duì)研磨部件進(jìn)行支承的研磨臺(tái); 將基板按壓在所述研磨部件上并對(duì)該基板進(jìn)行研磨的基板保持部; 對(duì)所述研磨部件進(jìn)行修整的砂輪修整器;以及 獲得在所述研磨部件上滑動(dòng)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布的修整監(jiān)視裝置, 所述修整監(jiān)視裝置對(duì)在所述研磨部件上的規(guī)定的滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的相對(duì)速度進(jìn)行計(jì)算,通過(guò)將所述相對(duì)速度乘以在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器與所述研磨部件的接觸時(shí)間,來(lái)算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)距離的增量,通過(guò)將至少一個(gè)補(bǔ)正系數(shù)乘以所述算出的滑動(dòng)距離的增量,來(lái)補(bǔ)正所述滑動(dòng)距離的增量, 并算出在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述砂輪修整器的滑動(dòng)方向,根據(jù)所述算出的滑動(dòng)方向來(lái)選擇預(yù)先設(shè)定的多個(gè)滑動(dòng)方向的某一方向,通過(guò)將所述補(bǔ)正后的滑動(dòng)距離的增量加上在所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的與所述選擇后的方向關(guān)聯(lián)的目前的滑動(dòng)距離并更新所述滑動(dòng)距離,來(lái)生成滑動(dòng)矢量, 根據(jù)所述滑動(dòng)矢量和所述滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的位置,生成所述砂輪修整器的滑動(dòng)矢量分布。
      23.如權(quán)利要求22所述的研磨裝置,其特征在于,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行下述工序:算出表示所述多個(gè)滑動(dòng)距離算出點(diǎn)的所述滑動(dòng)矢量的波動(dòng)的指標(biāo)。
      24.如權(quán)利要求22所述的研磨裝置,其特征在于,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述滑動(dòng)矢量的波動(dòng)的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以下。
      25.如權(quán)利要求22所述的研磨裝置,其特征在于,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行下述工序:算出表示在所述研磨部件上的基板接觸區(qū)域內(nèi)的所述滑動(dòng)矢量的正交性的指標(biāo)。
      26.如權(quán)利要求25所述的研磨裝置,其特征在于,所述修整監(jiān)視裝置還實(shí)行決定修整條件的工序,所述修整條件用于使表示所述滑動(dòng)矢量的正交性的指標(biāo)為規(guī)定目標(biāo)值以上。
      【文檔編號(hào)】B24B53/017GK104002239SQ201410060588
      【公開日】2014年8月27日 申請(qǐng)日期:2014年2月21日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月22日
      【發(fā)明者】島野隆寬, 谷川睦, 松尾尚典, 山口都章, 渡邊和英 申請(qǐng)人:株式會(huì)社荏原制作所
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