一種連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備，包括真空鍍膜室，真空鍍膜室的內(nèi)部上設(shè)有靶材，真空鍍膜室上設(shè)有工件進(jìn)口以及工件出口，工件進(jìn)口處設(shè)有進(jìn)口閥門(mén)，工件出口處設(shè)有出口閥門(mén)，工件進(jìn)口處設(shè)有工件真空預(yù)熱室，工件真空預(yù)熱室上設(shè)有預(yù)熱室進(jìn)口閥，工件真空預(yù)熱室內(nèi)設(shè)有加熱裝置，工件出口處設(shè)有工件真空冷卻室，工件真空冷卻室上設(shè)有冷卻室出口閥，工件真空冷卻室內(nèi)設(shè)有冷卻裝置，真空鍍膜室、工件真空預(yù)熱室以及工件真空冷卻室內(nèi)貫穿著用于傳送工件的輸送鏈條，輸送鏈條上設(shè)有用于夾持工件的夾持裝置。保證真空鍍膜室始終處于真空狀態(tài)，能夠連續(xù)進(jìn)行鍍膜，提高工作效率，提高產(chǎn)品的鍍膜質(zhì)量。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及真空鍍膜【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是涉及一種連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜技術(shù)主要是在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上，目前電子產(chǎn)品、光學(xué)元件等金屬或塑料制品的外觀裝飾性鍍膜或功能性鍍膜，均可以通過(guò)真空鍍膜技術(shù)獲得，傳統(tǒng)的真空鍍膜設(shè)備，通常是在真空鍍膜室內(nèi)固定一掛架，通過(guò)靶材和工件通電而達(dá)成鍍膜的效果，由于掛件固定在真空鍍膜室內(nèi)，每次進(jìn)行鍍膜和取件時(shí)均需要打開(kāi)真空鍍膜室，這樣就需要對(duì)真空鍍膜室反復(fù)進(jìn)行抽真空操作，浪費(fèi)大量的鍍膜時(shí)間，從而導(dǎo)致產(chǎn)品的生產(chǎn)效率降低，并且在打開(kāi)和關(guān)閉真空鍍膜室時(shí)，容易引入灰塵顆粒，影響鍍膜的質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能夠連續(xù)工作并且不會(huì)引入灰塵顆粒的連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備。
[0004]本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采取的技術(shù)方案是:一種連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備，包括真空鍍膜室，所述的真空鍍膜室的內(nèi)部上設(shè)有靶材，所述的真空鍍膜室上設(shè)有工件進(jìn)口以及工件出口，所述的工件進(jìn)口處設(shè)有進(jìn)口閥門(mén)，所述的工件出口處設(shè)有出口閥門(mén)，所述的工件進(jìn)口處設(shè)有工件真空預(yù)熱室，所述的工件真空預(yù)熱室上設(shè)有預(yù)熱室進(jìn)口閥，所述的工件真空預(yù)熱室內(nèi)設(shè)有加熱裝置，所述的工件出口處設(shè)有工件真空冷卻室，所述的工件真空冷卻室上設(shè)有冷卻室出口閥，所述的工件真空冷卻室內(nèi)設(shè)有冷卻裝置，所述的真空鍍膜室、工件真空預(yù)熱室以及工件真空冷卻室內(nèi)貫穿著用于傳送工件的輸送鏈條，所述的輸送鏈條上設(shè)有用于夾持工件的夾持裝置。
[0005]進(jìn)一步具體的，所述的夾持裝置包括固定在輸送鏈條上的固定支架和活動(dòng)支架，所述的固定支架上設(shè)有一供活動(dòng)支架穿過(guò)的固定孔，所述的活動(dòng)支架上設(shè)有一限位塊，限位塊位于固定孔的上方，所述的活動(dòng)支架底部設(shè)有一用于夾持工件的夾持端。
[0006]進(jìn)一步具體的，所述的真空鍍膜室內(nèi)的頂部設(shè)有電機(jī)，所述的電機(jī)的軸上設(shè)有一電磁鐵，所述的活動(dòng)支架頂端設(shè)有一能被電磁鐵吸住的吸盤(pán)。
[0007]進(jìn)一步具體的，所述的工件真空預(yù)熱室內(nèi)壁四周設(shè)有壓縮空氣噴射頭連接壓縮空氣泵。
[0008] 本發(fā)明的有益效果是:采用了上述結(jié)構(gòu)之后，能夠在進(jìn)行鍍膜前對(duì)工件進(jìn)行預(yù)熱操作并且工件預(yù)熱室以及工件冷卻室在進(jìn)口閥門(mén)和出口閥門(mén)打開(kāi)時(shí)均為真空狀態(tài)，可以保證真空鍍膜室始終處于真空狀態(tài)，能夠連續(xù)進(jìn)行鍍膜，提高工作效率，提高產(chǎn)品的鍍膜質(zhì)量。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】[0009]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中:1、真空鍍膜室；2、工件真空預(yù)熱室；3、工件真空冷卻室；4、預(yù)熱室進(jìn)口閥；
5、進(jìn)口閥門(mén)；6、出口閥門(mén)；7、冷卻室出口閥；8、夾持裝置；9、輸送鏈條；10、電磁鐵；11、電機(jī)；12工件。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作詳細(xì)的描述。
[0012]如圖1所述一種連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備，包括真空鍍膜室I，所述的真空鍍膜室I的內(nèi)部上設(shè)有靶材，所述的真空鍍膜室I上設(shè)有工件進(jìn)口以及工件出口，所述的工件進(jìn)口處設(shè)有進(jìn)口閥門(mén)5，所述的工件出口處設(shè)有出口閥門(mén)6，所述的工件進(jìn)口處設(shè)有工件真空預(yù)熱室2，所述的工件真空預(yù)熱室2上設(shè)有預(yù)熱室進(jìn)口閥4，所述的工件真空預(yù)熱室4內(nèi)設(shè)有加熱裝置，所述的工件出口處設(shè)有工件真空冷卻室3，所述的工件真空冷卻室3上設(shè)有冷卻室出口閥7，所述的工件真空冷卻室3內(nèi)設(shè)有冷卻裝置，所述的真空鍍膜室1、工件真空預(yù)熱室2以及工件真空冷卻室3內(nèi)貫穿著用于傳送工件的輸送鏈條9，所述的輸送鏈條9上設(shè)有用于夾持工件12的夾持裝置8 ;所述的夾持裝置8包括固定在輸送鏈條9上的固定支架81和活動(dòng)支架82，所述的固定支架81上設(shè)有一供活動(dòng)支架82穿過(guò)的固定孔，所述的活動(dòng)支架82上設(shè)有一限位塊83，限位塊83位于固定孔的上方，所述的活動(dòng)支架82底部設(shè)有一用于夾持工件12的夾持端；所述的真空鍍膜室I內(nèi)的頂部設(shè)有電機(jī)11，所述的電機(jī)11的軸上設(shè)有一電磁鐵10，所述的活動(dòng)支架82頂端設(shè)有一能被電磁鐵吸住的吸盤(pán)；所述的工件真空預(yù)熱室2內(nèi)壁四周設(shè)有壓縮空氣噴射頭連接壓縮空氣泵。
[0013]連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備的工作過(guò)程:首先，工人將工件夾持在活動(dòng)支架82上，控制工件真空預(yù)熱室2的預(yù)熱室進(jìn)口閥4打開(kāi)，通過(guò)輸送鏈條9將活動(dòng)支架82前進(jìn)一步輸送到工件真空預(yù)熱室2內(nèi)，關(guān)閉預(yù)熱室進(jìn)口閥4，通過(guò)壓縮空氣對(duì)工件12進(jìn)行吹洗，去除掉粉塵；此時(shí)冷卻室出口閥7打開(kāi)，輸送鏈條9將活動(dòng)支架82前進(jìn)一步，將工件真空冷卻室3內(nèi)的工件12送出，關(guān)閉冷卻室出口閥7，此時(shí)工件12還處于工件真空預(yù)熱室2內(nèi)并開(kāi)始抽真空，同時(shí)工件真空冷卻室3抽真空，工件真空預(yù)熱室2以及工件真空冷卻室3抽成真空之后，進(jìn)口閥門(mén)5和出口閥門(mén)6打開(kāi)，輸送鏈條9將活動(dòng)支架82前進(jìn)一步，在工件真空預(yù)熱室2內(nèi)的工件12進(jìn)入到真空鍍膜室1，在真空鍍膜室I內(nèi)的工件12進(jìn)入到工件真空冷卻室3內(nèi)，關(guān)閉進(jìn)口閥門(mén)5和出口閥門(mén)6 ;此時(shí)電磁鐵10通電將活動(dòng)支架82吸起并通過(guò)電機(jī)11開(kāi)始轉(zhuǎn)動(dòng)，開(kāi)始鍍膜操作；此時(shí)預(yù)熱室進(jìn)口閥4打開(kāi)，輸送鏈條9前進(jìn)一步，工件12進(jìn)入到工件真空預(yù)熱室2內(nèi)進(jìn)行預(yù)熱操作，此時(shí)電機(jī)11以及電磁鐵10跟隨輸送鏈條9前進(jìn)一步；冷卻室出口閥7打開(kāi)，輸送鏈條9前進(jìn)一步，將工件12從工件真空冷卻室3內(nèi)送出并關(guān)閉冷卻室出口閥7，此時(shí)，對(duì)工件真空預(yù)熱室2以及工件真空冷卻室3抽真空，之后，進(jìn)口閥門(mén)5和出口閥門(mén)6打開(kāi)，電磁鐵10斷電將活動(dòng)支架82放回到固定支架81上，電機(jī)11和電磁鐵10回到進(jìn)口閥門(mén)5處，輸送鏈條9前進(jìn)一步，將工件真空預(yù)熱室2內(nèi)的工件12送入到真空鍍膜室I內(nèi)，將真空鍍膜室I的工件12送入到工件真空冷卻室3內(nèi)，關(guān)閉進(jìn)口閥門(mén)5和出口閥門(mén)6 ;工件真空冷卻室3對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行冷卻，打開(kāi)預(yù)熱室進(jìn)口閥4，輸送鏈條9前進(jìn)一步，將工件12送入工件真空預(yù)熱室2內(nèi)，工件真空冷卻室3內(nèi)的工件12仍然在工件真空冷卻室3內(nèi)進(jìn)行冷卻，此時(shí)打開(kāi)冷卻室出口閥7，輸送鏈條9前進(jìn)一步，將工件12從工件真空冷卻室3內(nèi)取出。
[0014]需要強(qiáng)調(diào)的是，以上是本發(fā)明的較佳實(shí)施列而已，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn) 單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備，包括真空鍍膜室(1)，所述的真空鍍膜室(I)的內(nèi)部上設(shè)有靶材，所述的真空鍍膜室(I)上設(shè)有工件進(jìn)口以及工件出口，所述的工件進(jìn)口處設(shè)有進(jìn)口閥門(mén)(5)，所述的工件出口處設(shè)有出口閥門(mén)(6)，其特征是:所述的工件進(jìn)口處設(shè)有工件真空預(yù)熱室(2)，所述的工件真空預(yù)熱室(2)上設(shè)有預(yù)熱室進(jìn)口閥(4)，所述的工件真空預(yù)熱室(2)內(nèi)設(shè)有加熱裝置，所述的工件出口處設(shè)有工件真空冷卻室(3)，所述的工件真空冷卻室(3)上設(shè)有冷卻室出口閥(7)，所述的工件真空冷卻室(3)內(nèi)設(shè)有冷卻裝置，所述的真空鍍膜室(I)、工件真空預(yù)熱室(2 )以及工件真空冷卻室(3 )內(nèi)貫穿著用于傳送工件(12 )的輸送鏈條(9 )，所述的輸送鏈條(9 )上設(shè)有用于夾持工件的夾持裝置(8 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備，其特征是:所述的夾持裝置(8)包括固定在輸送鏈條(9)上的固定支架(81)和活動(dòng)支架(82)，所述的固定支架(81)上設(shè)有一供活動(dòng)支架(82)穿過(guò)的固定孔，所述的活動(dòng)支架(82)上設(shè)有一限位塊(83)，限位塊(83)位于固定孔的上方，所述的活動(dòng)支架(82)底部設(shè)有一用于夾持工件(12)的夾持端。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備，其特征是:所述的真空鍍膜室(I)內(nèi)的頂部設(shè)有電機(jī)(11)，所述的電機(jī)(11)的軸上設(shè)有一電磁鐵(10)，所述的活動(dòng)支架(82)頂端設(shè)有一能被電磁鐵(10)吸住的吸盤(pán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)自動(dòng)真空鍍膜設(shè)備，其特征是:所述的真空預(yù)熱室(I)內(nèi)壁四周設(shè)有壓縮空氣噴射頭連接壓縮空氣泵。
【文檔編號(hào)】C23C14/56GK104018134SQ201410108189
【公開(kāi)日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2014年3月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月21日
【發(fā)明者】毛昌海 申請(qǐng)人:艾瑞森表面技術(shù)（蘇州）有限公司