一種坩堝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種提供坩堝，屬于蒸鍍【技術領域】，其可解決現有的坩堝在蒸鍍工藝中蒸鍍材料浪費、坩堝清洗不方便、裝填在坩堝中的蒸鍍材料不均一的問題。本發(fā)明的坩堝包括坩堝主腔體，以及設置在所述坩堝主腔體內的多個用于盛放蒸鍍材料的坩堝子腔體。本發(fā)明的坩堝可用于OLED器件的制備中。
【專利說明】一種i甘堝
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于蒸鍍【技術領域】，具體涉及一種坩堝。
【背景技術】
[0002]蒸鍍法是一種物理氣相沉積的真空鍍膜技術。它是將蒸鍍材料置于一個坩堝之中，通過對坩堝的加熱，使材料從固態(tài)轉化為氣態(tài)原子、原子團或分子，然后凝聚到待鍍膜的基板表面形成薄膜。
[0003]在OLED (Organic Light-Emitting Diode,有機發(fā)光二極管)顯示器件制作中的蒸鍍工藝采用線性蒸發(fā)源，線性蒸發(fā)源的核心組件為坩堝。現有的OLED顯示器件制作中的蒸鍍工藝所采用的坩堝是設計成一體澆筑式的坩堝，其長度約為0.Sm (以5.5代線為例)。如圖1所示，坩堝包括:用于盛放蒸鍍材料的坩堝主腔體10，以及蓋在坩堝主腔體上方的蓋板20，蓋板上設置有出氣孔21 ( 一般為出氣孔21上方對應的設置有噴嘴22)，用于在對坩堝主腔體10加熱時，固態(tài)的蒸鍍材料轉化成氣態(tài)后噴出。但是發(fā)明人發(fā)現由于坩堝的長度較長，至少存在如下問題:1.在蒸鍍材料裝填時，操作人員為將材料均勻的裝填在坩堝主腔體10里，需要邊移動邊添加，此時很容易造材料的泄漏、飄散和損失，而OLED蒸鍍的材料十分昂貴，進而導致成本的提高。2.現有OLED蒸鍍材料為粉末狀，裝填時無法控制材料在坩堝主腔體10內的分布均一，容易造成蒸鍍成膜的膜厚度差別；3.現有稱重天平無法準確測量坩堝的重量和材料的添加量；4.蒸鍍結束后坩堝主腔體10內的附著的材料不易清洗。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術問題包括，針對現有的坩堝存在的上述的問題，提供一種可以避免蒸鍍材料浪費、清洗方便、裝填的蒸鍍材料更加均一的坩堝。
[0005]解決本發(fā)明技術問題所采用的技術方案是一種包括:坩堝主腔體，以及設置在所述坩堝主腔體內的多個用于盛放蒸鍍材料的坩堝子腔體。
[0006]本發(fā)明的坩堝包括若干個坩堝子腔體，由于坩堝子腔體相對于坩堝主腔體的體積較小，所以用坩堝子腔體來盛放蒸鍍材料時，操作人員無需移動裝填蒸鍍材料，進而可以避免蒸鍍材料的泄漏、飄散和損失；同時坩堝子腔體的體積較小，所以通過使用天平可以更準確地稱重裝填的蒸鍍材料的質量，以保證裝填到坩堝子腔體中蒸鍍材料的質量更加均勻；當然由于坩堝子腔體的體積較小，在蒸鍍工藝完成后對其清洗更加方便。
[0007]優(yōu)選的是，在所述坩堝主腔體底部設置有第一連接裝置，用于固定所述坩堝子腔體。
[0008]進一步優(yōu)選的是，所述第一連接裝置為可拆卸的連接裝置。
[0009]優(yōu)選的是，所述坩堝子腔體的側壁上設置有通孔，所述通孔用于任意兩相鄰的所述坩堝子腔體通過導 管連通，且所述通孔所在位置與所述坩堝子腔體開口之間距離不大于2cm。
[0010]進一步優(yōu)選的是，所述導管的直徑大于所述通孔的直徑，所述導管通過第二連接裝置固定在所述坩堝子腔體的側壁上。
[0011]更進一步優(yōu)選地是，所述第二連接裝置為可拆卸的連接裝置。
[0012]進一步優(yōu)選的是，在所述坩堝子腔體的側壁上還設置有與所述通孔相互配合的開關快門。
[0013]優(yōu)選的是，任意兩相鄰所述坩堝子腔體之間的間距相等。
[0014]優(yōu)選的是，所述坩堝還包括用于封閉坩堝主腔體的蓋板，所述蓋板上設置有出氣孔。
[0015]進一步優(yōu)選的是，在所述蓋板上與所述出氣孔對應的位置處設置有噴嘴。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為現有的坩堝的結構示意圖；
[0017]圖2為本發(fā)明的實施例1的坩堝的一種結構示意圖；
[0018]圖3為本發(fā)明的實施例1的坩堝的另一種結構示意圖；
[0019]圖4為本發(fā) 明的實施例1的坩堝子腔體的結構示意圖。
[0020]其中附圖標記為:10、坩堝主腔體；20、蓋板；21、出氣孔；22、噴嘴；30、坩堝子腔體；31、通孔；32、開關快門；40、第一連接裝置；50、導管；60、第二連接裝置。
【具體實施方式】
[0021]為使本領域技術人員更好地理解本發(fā)明的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細描述。
[0022]實施例1:
[0023]結合圖2、3、4所示，本實施例提供一種坩堝，其包括坩堝主腔體10，以及設置在所述坩堝主腔體10內的多個用于盛放蒸鍍材料的坩堝子腔體30。
[0024]本實施例中的坩堝包括若干個坩堝子腔體30，由于坩堝子腔體30相對于坩堝主腔體10的體積較小，所以用坩堝子腔體10來盛放蒸鍍材料時，操作人員無需移動裝填蒸鍍材料，進而可以避免蒸鍍材料的泄漏、飄散和損失；同時坩堝子腔體30的體積較小，所以通過使用天平可以更準確地稱重裝填的蒸鍍材料的質量，以保證裝填到坩堝子腔體30中蒸鍍材料的質量更加均勻；當然由于坩堝子腔體30的體積較小，在蒸鍍工藝完成后對其清洗更加方便。
[0025]在本實施例中，為了使得設置在坩堝主腔體10內的坩堝子腔體30結構穩(wěn)固，優(yōu)選地，在所述坩堝主腔體10底部設置有第一連接裝置，用于固定所述坩堝子腔體30。在蒸鍍完成后需要對坩堝子腔體30進行清洗，為了清洗方便，該第一連接裝置40為可拆卸的連接裝置，該可拆卸的連接裝置可以是螺栓、支架等可以組合固定的裝置，此時可以將坩堝子腔體30從坩堝主腔體10內取出，對其進行清洗。
[0026]在本實施例中，為了保證整個坩堝主腔體10內的壓強均一，以達到對基板所成膜的厚度均一，優(yōu)選地，在所述坩堝子腔體30的側壁上設置通孔31，所述通孔31用于任意兩相鄰的所述坩堝子腔體30通過導管50連通，且所述通孔31所在位置與所述坩堝子腔體30開口之間距離不大于2cm(通常蒸鍍材料的裝填量要低于坩堝子腔體30開口邊處2cm)。在本實施例中由于各個坩堝子腔體30是連通的，此時各個坩堝子腔體30就相當于一個整體的容器，所以整個坩堝主腔體10在加熱蒸鍍時的內部各個坩堝子腔體30開口上方的壓強更加均一。需要說明的是，所述導管50的材質是與坩堝主腔體10以及坩堝子腔體30 —樣的。
[0027]進一步優(yōu)選地，所述導管50的直徑大于所述通孔31的直徑，所述導管50通過第二連接裝置60固定在所述坩堝子腔體30的側壁上。也就是說導管50的開口是扣在坩堝子腔體30側壁的通孔31上，并通過第二連接裝置60固定的。同時，可以更進一步優(yōu)選地，第二連接裝置60為可拆卸的連接裝置，該可拆卸的連接裝置可以是螺栓、支架等可以組合固定的裝置，此時就可以在各個坩堝子腔體30裝填完蒸鍍材料后再將導管50安裝上，以方便在裝填蒸鍍材料時對坩堝子腔體30的稱重，保證各個坩堝子腔體30中的蒸鍍材料的質量相同。
[0028]如圖4所示的每個坩堝子腔體30的示意圖，在本實施例中的坩堝子腔體30的側壁上還設置有與所述通孔31相互配合的開關快門32。該開關快門32在坩堝子腔體30裝填蒸鍍材料時將坩堝子腔體30側壁上的通孔31關閉，防止裝填過程中粉末狀的蒸鍍材料泄漏、飄散和損失；該開關快門32在坩堝子腔體30裝填蒸鍍材料完成后打開，以便各個坩堝子腔體30通過導管50連通。
[0029]優(yōu)選地，任意兩相鄰所述坩堝子腔體30之間的間距相等。此時可以保證蒸鍍工藝在基板上所成的膜的厚度均一。需要說明的是，各個坩堝子腔體30可以成行成列設置，當然也可以在沿坩堝子腔體30的長度方向成一行設置。
[0030]當然，優(yōu)選地所述坩堝還包括用于封閉坩堝主腔體10的蓋板20，所述蓋板20上設置有出氣孔21。該出氣孔21用于在對坩堝主腔體10加熱時，固態(tài)材料轉化成氣態(tài)后噴出。為了防止所噴出的氣體原子、原子團、分子產生浪費，進一步優(yōu)選地，在所述蓋板20上與所述出氣孔21對應的位置處設置有噴嘴22。通過該噴嘴22將蒸鍍工藝產生的氣體原子、原子團、分子噴到基板上成膜。
[0031]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種坩堝，包括:坩堝主腔體，其特征在于，所述坩堝還包括設置在所述坩堝主腔體內的多個用于盛放蒸鍍材料的坩堝子腔體。
2.根據權利要求1所述的坩堝，其特征在于，在所述坩堝主腔體底部設置有第一連接裝置，用于固定所述坩堝子腔體。
3.根據權利要求2所述的坩堝，其特征在于，所述第一連接裝置為可拆卸的連接裝置。
4.根據權利要求1中任意一項所述的坩堝，其特征在于，所述坩堝子腔體的側壁上設置有通孔，所述通孔用于任意兩相鄰的所述坩堝子腔體通過導管連通，且所述通孔所在位置與所述坩堝子腔體開口之間距離不大于2cm。
5.根據權利要求4所述的坩堝，其特征在于，所述導管的直徑大于所述通孔的直徑，所述導管通過第二連接裝置固定在所述坩堝子腔體的側壁上。
6.根據權利要求4所述的坩堝，其特征在于，所述第二連接裝置為可拆卸的連接裝置。
7.根據權利要求4所述的坩堝，其特征在于，在所述坩堝子腔體的側壁上還設置有與所述通孔相互配合的開關快門。
8.根據權利要求1至7中任意一項所述的坩堝，其特征在于，任意兩相鄰所述坩堝子腔體之間的間距相等。
9.根據權利要求1至7中任意一項所述的坩堝，其特征在于，所述坩堝還包括用于封閉坩堝主腔體的蓋板，所述蓋板上設置有出氣孔。
10.根據權利要求9所述的坩堝，其特征在于，在所述蓋板上與所述出氣孔對應的位置處設置有噴嘴。
【文檔編號】C23C14/24GK103993268SQ201410183581
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年4月30日 優(yōu)先權日:2014年4月30日
【發(fā)明者】肖昂 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司