一種光子晶體鍍膜鏡片及其制備方法
【專利摘要】一種光子晶體鍍膜鏡片，鍍膜鏡片包括平板玻璃基板和鍍在平板玻璃基板一側(cè)的光子晶體膜，所述的光子晶體膜分為底層、中間層和外層，底層由交替鋪設的氧化鈦層和氟化鈣層構(gòu)成，且與中間層相接的一層為氟化鈣層，與平板玻璃基板相接的一層為氧化鈦層，所述的中間層為硫化鋅層，外層的結(jié)構(gòu)與底層對稱。本發(fā)明有益效果：本發(fā)明研究出一種光子晶體結(jié)構(gòu)及其鍍膜方法，該種光子晶體結(jié)構(gòu)可以只讓波長為755nm的光波通過，其結(jié)構(gòu)簡單便于微型化，功能穩(wěn)定，該光子晶體結(jié)構(gòu)可以用作美容儀的鏡片，彌補一般光學美容儀器在光的單一性和光強的穩(wěn)定性方面的不足，避免皮膚受到傷害。
【專利說明】一種光子晶體鍍膜鏡片及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光子晶體領(lǐng)域，具體地說是一種光子晶體鍍膜鏡片及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，市場上出現(xiàn)了許多光學美容儀器，比如光子嫩膚儀，激光美容儀等，這些美容儀器的探頭大都使用雷射的電子探頭，這種方法也能夠讓一定波長范圍的光通過鏡頭照射到皮膚上，進而達到美容的效果。但是，采用這種方式，在光強的穩(wěn)定性和光的單一性方面效果不好，如果美容治療時間過長，就有可能因電子器件的參數(shù)變化導致從鏡頭射出的光的范圍以及光強發(fā)生變化而使皮膚受到傷害。另外，這些美容儀器在微型化技術(shù)方面也會受到限制。
[0003]經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)，波長為755nm的光波是祛除色斑、美白美容的黃金波長，因此找到能夠只讓波長為755nm的光波通過的材料是解決上述技術(shù)問題的關(guān)鍵。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種光子晶體鍍膜鏡片及其制備方法，該鍍膜鏡片能夠只讓波長為755nm的光波通過。
[0005]一種光子晶體鍍膜鏡片，鍍膜鏡片包括平板玻璃基板和鍍在平板玻璃基板一側(cè)的光子晶體膜，所述的光子晶體膜分為底層、中間層和外層，底層由交替鋪設的氧化鈦層和氟化鈣層構(gòu)成，且與中間層相接的一層為氟化鈣層，與平板玻璃基板相接的一層為氧化鈦層，所述的中間層為硫化鋅層，外層的結(jié)構(gòu)與底層對稱。
[0006]一種光子晶體鍍膜鏡片的制備方法，包括以下步驟:
步驟1:加工一個半徑為6mm的圓形玻璃作為基板，對基板雙面和立邊進行拋光處理；步驟2:采用酸性清洗液和去離子水分別對基板表面進行清潔處理，然后將基板放置于熱板上進行烘干，熱板溫度設置為65°C，烘干時間為10分鐘；
步驟3:將基板放入真空鍍膜機中，在基板的上表面鍍一層氧化鈦膜，鍍膜厚度為72nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；然后在基板上氧化鈦膜的上方鍍一層氟化鈣膜，鍍膜厚度為140.9nm,鍍膜后干燥冷卻30分鐘；
步驟4:將步驟3重復7次；
步驟5:在步驟4完成后的基板氟化鈣膜上方鍍一層硫化鋅膜，鍍膜厚度為160.64nm,鍍膜后干燥冷卻30分鐘；
步驟6:在硫化鋅膜上鍍一層氟化鈣膜，鍍膜厚度為140.9nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；然后在氟化鈣膜上方再鍍一層氧化鈦膜，鍍膜厚度為72nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；
步驟7:將步驟6重復7次；
步驟8:鍍膜完成。
[0007]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明研究出一種光子晶體鍍膜鏡片及其制備方法，該種鍍膜鏡片可以只讓波長為755nm的光波通過，其結(jié)構(gòu)簡單便于微型化，功能穩(wěn)定，該鍍膜鏡片可以用作美容儀的鏡片，彌補一般光學美容儀器在光的單一性和光強的穩(wěn)定性方面的不足，避免皮膚受到傷害。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為光子晶體膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為光源通過本發(fā)明所述鍍膜鏡片后的光源分析圖。
[0009]圖中標記:1、氧化鈦層，2、氟化鈣層，3、硫化鋅層。
【具體實施方式】
[0010]一種光子晶體鍍膜鏡片，鍍膜鏡片包括平板玻璃基板和鍍在平板玻璃基板一側(cè)的光子晶體膜，所述的光子晶體膜分為底層、中間層和外層，底層由交替鋪設的氧化鈦層I和氟化鈣層2構(gòu)成，且與中間層相接的一層為氟化鈣層2，與平板玻璃基板相接的一層為氧化鈦層I，所述的中間層為硫化鋅層3，外層的結(jié)構(gòu)與底層對稱。
[0011]一種光子晶體鍍膜鏡片的制備方法，包括以下步驟:
步驟1:加工一個半徑為6mm的圓形玻璃作為基板，對基板雙面和立邊進行拋光處理；步驟2:采用酸性清洗液和去離子水分別對基板表面進行清潔處理，然后將基板放置于熱板上進行烘干，熱板溫度設置為65°C，烘干時間為10分鐘；
步驟3:將基板放入真空鍍膜機中，在基板的上表面鍍一層氧化鈦膜，鍍膜厚度為72nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；然后在基板上氧化鈦膜的上方鍍一層氟化鈣膜，鍍膜厚度為140.9nm,鍍膜后干燥冷卻30分鐘；
步驟4:將步驟3重復7次；
步驟5:在步驟4完成后的基板氟化鈣膜上方鍍一層硫化鋅膜，鍍膜厚度為160.64nm,鍍膜后干燥冷卻30分鐘；
步驟6:在硫化鋅膜上鍍一層氟化鈣膜，鍍膜厚度為140.9nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；然后在氟化鈣膜上方再鍍一層氧化鈦膜，鍍膜厚度為72nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；
步驟7:將步驟6重復7次；
步驟8:鍍膜完成。
[0012]用本發(fā)明所述的鍍膜鏡片進行仿真實驗，對通過該鍍膜鏡片的紅光光源進行分析，得出光源分析圖，見圖2。由圖2可以看出，缺陷透射率為0.98，缺陷帶寬為2nm，可以讓中心波長為755nm的光波通過。
【權(quán)利要求】
1.一種光子晶體鍍膜鏡片，其特征在于:鍍膜鏡片包括平板玻璃基板和鍍在平板玻璃基板一側(cè)的光子晶體膜，所述的光子晶體膜分為底層、中間層和外層，底層由交替鋪設的氧化鈦層(I)和氟化鈣層(2)構(gòu)成，且與中間層相接的一層為氟化鈣層(2)，與平板玻璃基板相接的一層為氧化鈦層(1)，所述的中間層為硫化鋅層(3)，外層的結(jié)構(gòu)與底層對稱。
2.如權(quán)利要求1所述的一種光子晶體鍍膜鏡片的制備方法，其特征在于:包括以下步驟: 步驟1:加工一個半徑為6mm的圓形玻璃作為基板，對基板雙面和立邊進行拋光處理；步驟2:采用酸性清洗液和去離子水分別對基板表面進行清潔處理，然后將基板放置于熱板上進行烘干，熱板溫度設置為65°C，烘干時間為10分鐘； 步驟3:將基板放入真空鍍膜機中，在基板的上表面鍍一層氧化鈦膜，鍍膜厚度為72nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；然后在基板上氧化鈦膜的上方鍍一層氟化鈣膜，鍍膜厚度為140.9nm,鍍膜后干燥冷卻30分鐘； 步驟4:將步驟3重復7次； 步驟5:在步驟4完成后的基板氟化鈣膜上方鍍一層硫化鋅膜，鍍膜厚度為160.64nm,鍍膜后干燥冷卻30分鐘； 步驟6:在硫化鋅膜上鍍一層氟化鈣膜，鍍膜厚度為140.9nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘；然后在氟化鈣膜上方再鍍一層氧化鈦膜，鍍膜厚度為72nm，鍍膜后干燥冷卻30分鐘； 步驟7:將步驟6重復7次； 步驟8:鍍膜完成。
【文檔編號】C23C14/06GK104007489SQ201410207372
【公開日】2014年8月27日 申請日期:2014年5月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月16日
【發(fā)明者】李萍, 郭金濤, 張?zhí)m蘭, 宋霄薇, 雷茂生, 祡青煥, 陳雯 申請人:河南科技大學