一種用于金屬鉬片的化學(xué)蝕刻方法
【專利摘要】一種用于金屬鉬片的化學(xué)蝕刻方法，涉及到特殊金屬的化學(xué)蝕刻工藝領(lǐng)域，包括有靜止蝕刻步驟及動中蝕刻步驟；所述的靜止蝕刻步驟采用的蝕刻液由硫酸、硝酸、水及乙二胺四乙酸二鈉組成，將金屬鉬片靜置浸泡在上述各物質(zhì)攪拌均勻后制得的蝕刻液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻，金屬鉬片需蝕刻區(qū)域腐蝕爛穿后停止；所述的動中蝕刻步驟是在裝有三氯化鐵蝕刻溶液的蝕刻機(jī)上完成；將靜止蝕刻步驟從金屬鉬片上腐蝕爛穿后脫落的鉬片材用水清洗后放入蝕刻機(jī)，蝕刻機(jī)內(nèi)的三氯化鐵蝕刻溶液進(jìn)行流動蝕刻。流動的化學(xué)蝕刻溶液對鉬片產(chǎn)品體的精密度，公差，坡度等精密技術(shù)條件有了更進(jìn)一步的修正和鞏固，保證產(chǎn)品的高質(zhì)量。
【專利說明】一種用于金屬鉬片的化學(xué)蝕刻方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及到特殊金屬的化學(xué)蝕刻工藝領(lǐng)域，特殊涉及一種適用金屬鑰片的蝕刻 方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 化學(xué)蝕刻是通過化學(xué)反應(yīng)利用化學(xué)溶液的腐蝕作用，將不需要的金屬快速溶解除 掉的過程?；瘜W(xué)蝕刻的基本流程是；將初始金屬體進(jìn)行常規(guī)的清洗和除油，使表面清潔，進(jìn) 而在其表面涂復(fù)耐酸油墨，并按照加工圖紙進(jìn)行曝光，而后進(jìn)行顯影和堅(jiān)膜處理，再利用化 學(xué)蝕刻溶液腐蝕暴露的金屬，待腐蝕過程結(jié)束后再將表面的油墨用強(qiáng)堿性溶液去掉，最后 用水清洗干凈得到蝕刻加工工件產(chǎn)品。
[0003]目前已有的化學(xué)蝕刻溶液在蝕刻機(jī)上主要是針對不銹鋼、銅、銅鎳合金等金屬微 細(xì)加工的化學(xué)蝕刻溶液。由于金屬鑰具有高耐蝕性，耐高溫性，高導(dǎo)電性和高耐磨性，其作 為特種功能材料的使用極為廣泛，但由于其高硬度難于機(jī)械加工微細(xì)結(jié)構(gòu)，而且前涉及微 細(xì)加工的要求正逐漸增多，為此用于金屬鑰的化學(xué)蝕刻的要求也日益緊迫。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的在于提供一種能對金屬鑰片進(jìn)行化學(xué)蝕刻加工處理的一種用于金 屬鑰片的化學(xué)蝕刻方法。
[0005] 為解決本發(fā)明所提出的技術(shù)問題，采用的技術(shù)方案為：一種用于金屬鑰片的化學(xué) 蝕刻方法，其特征在于所述方法包括有靜止蝕刻步驟及動中蝕刻步驟； 所述的靜止蝕刻步驟采用的蝕刻液由硫酸、硝酸、水及乙二胺四乙酸二鈉組成，各物質(zhì) 含量分別為：硫酸 150ml ?300ml/L，硝酸 150ml/L ?250ml/L，水 500ml ?650ml/L，乙二 胺四乙酸二鈉0. 1 g?0. 8g/L ;所述的硫酸的濃度為98%，硝酸的濃度66% ;將金屬鑰片靜置 浸泡在上述各物質(zhì)攪拌均勻后制得的蝕刻液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻，金屬鑰片需蝕刻區(qū)域腐蝕爛 穿后停止； 所述的動中蝕刻步驟是在裝有三氯化鐵蝕刻溶液的蝕刻機(jī)上完成，三氯化鐵濃度在 35%?40%，比重1. 40?1. 50,溫度48?54°C，酸度0. 1?1. 0N ;將靜止蝕刻步驟從金屬 鑰片上腐蝕爛穿后脫落的鑰片材用水清洗后放入蝕刻機(jī)，蝕刻機(jī)內(nèi)的三氯化鐵蝕刻溶液進(jìn) 行流動蝕刻。
[0006] 所述的靜止蝕刻步驟采用的蝕刻液溫度控制在30°C?55°C。
[0007] 本發(fā)明的有益效果為：本發(fā)明方法采用先在由硫酸、硝酸、水及乙二胺四乙酸二鈉 組成蝕刻液中進(jìn)行靜止蝕刻，金屬鑰片需蝕刻區(qū)域被快速腐蝕爛穿后，清洗后放入三氯化 鐵蝕刻溶液的蝕刻機(jī)，蝕刻機(jī)內(nèi)的三氯化鐵蝕刻溶液進(jìn)行動中蝕刻，流動的化學(xué)蝕刻溶液 對鑰片產(chǎn)品體的精密度，公差，坡度等精密技術(shù)條件有了更進(jìn)一步的修正和鞏固，保證產(chǎn)品 的高質(zhì)量。本發(fā)明的方法可以廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)，光學(xué)儀表工業(yè)，石化工業(yè)，制藥設(shè)備工 業(yè)，核工業(yè)，半導(dǎo)體加工業(yè)，燃料電池和軍事裝備等的重要元器件和結(jié)構(gòu)件的金屬鑰片化學(xué)
【權(quán)利要求】
1. 一種用于金屬鑰片的化學(xué)蝕刻方法，其特征在于所述方法包括有靜止蝕刻步驟及 動中蝕刻步驟；所述的靜止蝕刻步驟采用的蝕刻液由硫酸、硝酸、水及乙二胺四乙酸二鈉 組成，各物質(zhì)含量分別為：硫酸150ml?300ml/L，硝酸150ml/L?250ml/L，水500ml? 650ml/L，乙二胺四乙酸二鈉0. 1 g?0. 8g/L ;所述的硫酸的濃度為98%，硝酸的濃度66% ;將 金屬鑰片靜置浸泡在上述各物質(zhì)攪拌均勻后制得的蝕刻液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻，金屬鑰片需蝕 刻區(qū)域腐蝕爛穿后停止；所述的動中蝕刻步驟是在裝有三氯化鐵蝕刻溶液的蝕刻機(jī)上完 成，三氯化鐵濃度在35%?40%，比重1. 40?1. 50,溫度48?54°C，酸度0. 1?1. 0N ;將靜 止蝕刻步驟從金屬鑰片上腐蝕爛穿后脫落的鑰片材用水清洗后放入蝕刻機(jī)，蝕刻機(jī)內(nèi)的三 氯化鐵蝕刻溶液進(jìn)行流動蝕刻。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于金屬鑰片的化學(xué)蝕刻方法，其特征在于：所述的靜 止蝕刻步驟采用的蝕刻液溫度控制在30°C?55°C。
【文檔編號】C23F1/26GK104060267SQ201410340866
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年7月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月17日
【發(fā)明者】連大學(xué) 申請人:深圳市卓力達(dá)電子有限公司