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      一種反應(yīng)等離子熔覆原位合成TiN涂層的制作方法

      文檔序號(hào):3321431閱讀:474來源:國知局
      一種反應(yīng)等離子熔覆原位合成TiN涂層的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種反應(yīng)等離子熔覆原位合成TiN復(fù)合涂層,該涂層相成分主要包括TiN、α-Fe、Ti相,無氧化物相;涂層較致密,無孔隙,涂層內(nèi)TiN彌散分布,涂層與基體處無裂紋等微觀缺陷,與基體呈冶金結(jié)合。本發(fā)明利用反應(yīng)等離子熔覆技術(shù)原位合成TiN涂層可以在短時(shí)間內(nèi)制備出較厚的涂層,大大提高了粉末的沉積效率,節(jié)約了成本;涂層內(nèi)孔隙率低,涂層質(zhì)量好,涂層與基體可以形成冶金結(jié)合,大大提高了涂層的性能。
      【專利說明】一種反應(yīng)等離子溶覆原位合成TiN涂層

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及材料技術(shù)研究領(lǐng)域,具體的涉及一種TiN涂層。

      【背景技術(shù)】
      [0002] 反應(yīng)熔覆技術(shù)是在等離子或激光等高能量束熔覆過程中通過元素或化合物間的 化學(xué)反應(yīng)"原位合成"金屬陶瓷等涂層的一種新型涂層技術(shù)。原位合成工藝是在一定條件 下,通過元素和元素之間的物理化學(xué)反應(yīng),在基體內(nèi)部原位形成一種或多種高強(qiáng)度、高硬度 的增強(qiáng)顆粒,從而起到強(qiáng)化基體的作用。等離子熔覆技術(shù)是通過等離子束流熔化涂層材料 及基體表面的薄層,可在普通金屬材料表面獲得與基體呈冶金結(jié)合的表面功能涂層,從而 顯著改善基體材料的耐磨、耐蝕、耐熱性能。由于等離子熔覆技術(shù)得到的涂層相比其它方法 得到的涂層,具有熔覆層厚,與基體形成冶金結(jié)合、基體不需要前處理、效率高、成本低、涂 層質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn),已廣泛應(yīng)用于電力、煤炭、冶金和機(jī)械等工業(yè)領(lǐng)域。利用反應(yīng)等離子熔覆 技術(shù)原位合成TiN涂層可以在短時(shí)間內(nèi)制備出較厚的涂層,大大提高了粉末的沉積效率, 節(jié)約了成本;涂層內(nèi)孔隙率低,涂層質(zhì)量好,涂層與基體可以形成冶金結(jié)合,大大提高了涂 層的性能。
      [0003] TiN涂層具有低的摩擦系數(shù)和高的硬度,以及良好的耐腐蝕性被廣泛應(yīng)用為裝飾 涂層、耐磨涂層、耐腐蝕涂層。目前,許多研究者通過反應(yīng)熱噴涂、化學(xué)氣相沉積(CVD)、物 理氣相沉積(PVD)、電弧鍍、等技術(shù)制備了 TiN涂層,并對(duì)涂層的沉積過程,顯微結(jié)構(gòu)和性能 進(jìn)行了研究。采用CVD、PVD等技術(shù)制備的TiN涂層厚度較薄,降低涂層的機(jī)械性能;而利用 熱噴涂反應(yīng)技術(shù)可以制備較厚的TiN涂層,但涂層內(nèi)含有較多的孔隙,脆性較大,涂層質(zhì)量 不易控制??梢岳玫入x子熔覆技術(shù),采用同軸送粉方式,在熔覆過程中,使熔覆粉末與送 粉氣N 2發(fā)生反應(yīng),原位生成TiN,采用反應(yīng)等離子熔覆技術(shù)原位合成制備的TiN涂層厚度較 厚,與基體結(jié)合良好,可以達(dá)到冶金結(jié)合,同時(shí)熔覆層內(nèi)缺陷較少,涂層性能較好。
      [0004] 目前,許多研究者通過反應(yīng)熱噴涂、化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)、電 弧鍍、等技術(shù)制備了 TiN涂層,并對(duì)涂層的沉積過程,顯微結(jié)構(gòu)和性能進(jìn)行了研究。采用 CVD、PVD等技術(shù)制備的TiN涂層厚度較薄,降低涂層的機(jī)械性能;而利用熱噴涂反應(yīng)技術(shù)可 以制備較厚的TiN涂層,但涂層內(nèi)含有較多的孔隙,脆性較大,涂層質(zhì)量不易控制。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005] 為了解決上述問題,本發(fā)明的目的是提供一種反應(yīng)等離子熔覆原位合成TiN涂 層。
      [0006] 為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的,本發(fā)明提供了一種反應(yīng)等離子熔覆原位合成TiN復(fù)合涂 層,該涂層相成分主要包括TiN、a -Fe、Ti相,無氧化物相;涂層較致密,無孔隙,涂層內(nèi)TiN 彌散分布,涂層與基體處無裂紋等微觀缺陷,與基體呈冶金結(jié)合。
      [0007] 優(yōu)選地,該涂層包括兩個(gè)區(qū)域,區(qū)域1主要元素為Ti-72. 3%、N-27. 7%,區(qū)域2主 要元素為Ti-52. 5%、Fe-47. 5%,可知區(qū)域1黑色相為TiN相,區(qū)域2主要為Ti和a -Fe 相。
      [0008] 優(yōu)選地,該涂層是由Ti粉和送粉氣N2在熔覆過程中發(fā)生反應(yīng)原位合成TiN制備 得到。
      [0009] 進(jìn)一步地,該TiN涂層的制備方法包括以下步驟:
      [0010] (I)Ti粉原料處理;
      [0011] (2)模具表面預(yù)處理;
      [0012] (3)熔覆,由Ti粉原料和送粉氣N2在熔覆過程中發(fā)生反應(yīng)原位合成反應(yīng);
      [0013] (4)制得TiN復(fù)合涂層,熔覆后制得涂層相成分主要包括TiN、a -Fe、Ti相,且無 氧化物相的復(fù)合涂層。
      [0014] 本發(fā)明的有益效果如下:
      [0015] 本發(fā)明直接對(duì)Ti粉末進(jìn)行熔覆,可以再零件表面直接制備耐磨陶瓷涂層,涂層的 硬度較高,(Ti, Fe)共晶相提高了涂層的韌性。反應(yīng)等離子熔覆原位合成的TiN復(fù)合涂層 避免傳統(tǒng)的采用反應(yīng)噴涂TiN層較大的脆性和工藝復(fù)雜,需要較多的人力和物力資源。
      [0016] 本發(fā)明采用反應(yīng)等離子熔覆制備TiN復(fù)合涂層,涂層較致密,與基體結(jié)合良好,達(dá) 到冶金結(jié)合,厚度約800 μ m,采用壓痕法測量涂層斷裂韌性為

      【權(quán)利要求】
      1. 一種反應(yīng)等離子熔覆原位合成TiN復(fù)合涂層,該涂層相成分主要包括TiN、a -Fe、Ti 相,無氧化物相;涂層較致密,無孔隙,涂層內(nèi)TiN彌散分布,涂層與基體處無裂紋等微觀缺 陷,與基體呈冶金結(jié)合。
      2. 如權(quán)利要求1所述的涂層,其特征在于,該涂層包括兩個(gè)區(qū)域,區(qū)域1主要元素為 Ti-72. 3%、N-27. 7%,區(qū)域2主要元素為Ti-52. 5%、Fe-47. 5%,可知區(qū)域1黑色相為TiN 相,區(qū)域2主要為Ti和a -Fe相。
      3. 如權(quán)利要求1或2所述的涂層,其特征在于,該涂層是由Ti粉和送粉氣N2在熔覆過 程中發(fā)生反應(yīng)原位合成TiN制備得到。
      4. 如權(quán)利要求3所述的涂層,其特征在于,該TiN涂層的制備方法包括以下步驟: (1) Ti粉原料處理; (2) 模具表面預(yù)處理; (3) 熔覆,由Ti粉原料和送粉氣N2在熔覆過程中發(fā)生反應(yīng)原位合成反應(yīng); (4) 制得TiN復(fù)合涂層,熔覆后制得涂層相成分主要包括TiN、a-Fe、Ti相,且無氧化 物相的復(fù)合涂層。
      【文檔編號(hào)】C23C24/10GK104372335SQ201410539639
      【公開日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2014年10月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月13日
      【發(fā)明者】邢志國, 王海斗, 崔華威, 金國 申請(qǐng)人:中國人民解放軍裝甲兵工程學(xué)院
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