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      一種電子倍增器打拿極的曲面成膜方法

      文檔序號:3321467閱讀:526來源:國知局
      一種電子倍增器打拿極的曲面成膜方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電子倍增器打拿極曲面成膜方法,以間接鍍膜的方式,有效解決電子倍增器打拿極特定曲面鍍制薄膜均勻性以及穩(wěn)定性等問題。首先,按照電子倍增器打拿極外殼待鍍膜內(nèi)表面的尺寸和弧度,加工兩端留有待彎折區(qū)的曲面內(nèi)襯片;其中一端的待彎折區(qū)向曲面外反折180°,形成折起部;另一端的待彎折區(qū)切割型成n個矩形齒牙卡扣;然后進(jìn)行曲面內(nèi)襯片的鍍膜;將鍍膜后的曲面內(nèi)襯片安裝在電子倍增器打拿極外殼內(nèi)表面,并采用折起部和矩形齒牙卡扣固定。
      【專利說明】一種電子倍增器打拿極的曲面成膜方法

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及電子倍增器打拿極的制備工藝【技術(shù)領(lǐng)域】,具體涉及一種電子倍增器打拿極曲面成膜方法。

      【背景技術(shù)】
      [0002]電子倍增器的性能決定著原子鐘的使用壽命,而打拿極曲面鍍膜是電子倍增器的核心技術(shù)。圖1為電子倍增器打拿極外殼的結(jié)構(gòu)示意圖,其待鍍膜面為弧形內(nèi)表面,針對電子倍增器打拿極這種特殊的曲面,直接在打拿極外殼內(nèi)表面鍍膜,因打拿極外殼兩側(cè)壁面與曲面成直角的設(shè)計,會使得鍍膜工藝不方便實施,造成內(nèi)表面成膜不均勻,直接影響了電子倍增器穩(wěn)定性。
      [0003]因此,針對這種特殊的曲面,直接在其表面鍍膜不能滿足電子倍增器二次電子發(fā)射功能薄膜鍍制要求。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]有鑒于此,本發(fā)明提供了一種電子倍增器打拿極曲面成膜方法,以間接鍍膜的方式,有效解決電子倍增器打拿極特定曲面鍍制薄膜均勻性以及穩(wěn)定性等問題。
      [0005]為解決上述問題,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
      [0006]一種電子倍增器打拿極曲面成膜方法,包括:
      [0007]步驟1、按照電子倍增器打拿極外殼待鍍膜內(nèi)表面的尺寸和弧度,加工兩端留有待彎折區(qū)的曲面內(nèi)襯片;其中一端的待彎折區(qū)向曲面外反折180°,形成折起部;另一端的待彎折區(qū)切割型成η個矩形齒牙卡扣;η為大于或等于3的整數(shù);
      [0008]步驟2、對曲面內(nèi)襯片的內(nèi)曲面進(jìn)行二次電子發(fā)射功能薄膜鍍制;
      [0009]步驟3、將鍍膜后的曲面內(nèi)襯片置于電子倍增器打拿極外殼內(nèi)表面,并通過折起部和矩形齒牙卡扣與電子倍增器打拿極外殼進(jìn)行固定。
      [0010]優(yōu)選地,所述折起部長度為0.5mm。
      [0011]優(yōu)選地,在加工曲面內(nèi)襯片時,將所述矩形齒牙卡扣向曲面外反折一定角度,令矩形齒牙卡扣與折起部平行。
      [0012]所述步驟2具體包括:
      [0013](1)清洗:將步驟1獲得的曲面內(nèi)襯片放入干凈器皿中,用水沖洗干凈,再分別用分析純丙酮及分析純酒精各超聲波清洗10分鐘?30分鐘,然后用分析純易揮發(fā)的有機(jī)溶液沖洗干凈,用無屑擦拭紙擦拭至表面無劃痕、擦痕和液滴殘留痕跡;
      [0014](2)鍍膜:將清洗后的曲面內(nèi)襯片放入真空室,打開機(jī)械泵預(yù)抽,將真空室抽真空至IPa,然后在機(jī)械泵保持工作的同時打開分子泵,待分子泵運轉(zhuǎn)平穩(wěn)后開啟分子泵的抽氣開關(guān),將真空室抽真空至3.0 X 10_5Pa,然后加熱曲面內(nèi)襯片至所需溫度后保溫,在曲面內(nèi)襯片的內(nèi)曲面上進(jìn)行二次電子發(fā)射薄膜沉積。
      [0015]優(yōu)選地,將清洗后的曲面內(nèi)襯片放入真空室之前,先清洗真空室,具體步驟包括:清除真空室內(nèi)脫落的膜層及空氣中的污染物,然后用脫脂紗布蘸無水乙醇擦拭干凈真空室內(nèi)壁。
      [0016]有益效果
      [0017]本發(fā)明在一定弧度的不銹鋼曲面內(nèi)襯片上先鍍制二次電子發(fā)射功能薄膜,再安裝到電子倍增器打拿極。由于是在曲面內(nèi)襯片上鍍膜,能夠有效解決打拿極曲面鍍膜中成膜均勻性、穩(wěn)定性等問題,因此按照該成膜方法能夠滿足電子倍增器打拿極曲面基片的鍍膜要求。
      [0018]本發(fā)明設(shè)計曲面內(nèi)襯片一端為完整的折起部,另一端處理為卡扣,從而便于在安裝曲面內(nèi)襯片時,令三個卡扣作為著力點與打拿極更好的貼合。而且與整體彎折相比,點的彎折更加容易處理。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0019]圖1為電子倍增器打拿極外殼的結(jié)構(gòu)圖。;
      [0020]圖2為本發(fā)明曲面內(nèi)襯片的結(jié)構(gòu)圖的三視圖;左上為俯視圖,左下為正視圖(曲面內(nèi)表面),右下為側(cè)視圖。1-折起部,2-矩形齒牙卡扣。

      【具體實施方式】
      [0021 ] 下面將參照附圖來說明本發(fā)明的實施例。
      [0022]本發(fā)明針對電子倍增器打拿極曲面鍍膜缺陷問題,為了滿足打拿極曲面鍍膜的要求,需采用一種全新的成膜思路:在一定弧度的不銹鋼曲面內(nèi)襯片上先鍍制二次電子發(fā)射功能薄膜,再安裝到電子倍增器打拿極。由于在曲面內(nèi)襯片上鍍膜能夠保證鍍膜均勻性,因此按照該成膜方法能夠滿足電子倍增器打拿極曲面基片鍍膜要求。
      [0023]該電子倍增器打拿極曲面成膜方法的實施步驟如下:
      [0024]步驟1、曲面內(nèi)襯片加工:
      [0025]參考圖2,按照電子倍增器打拿極外殼待鍍膜內(nèi)表面的尺寸和弧度,加工兩端留有待彎折區(qū)的曲面內(nèi)襯片,曲面內(nèi)襯片的弧度與待鍍膜內(nèi)表面的弧度相同,長度為待鍍膜內(nèi)表面長度加上兩端的待彎折區(qū)。曲面內(nèi)襯片的材料為304號不銹鋼,厚度為0.1mm。曲面內(nèi)襯片其中一端的待彎折區(qū)向曲面外反折180°,形成折起部1,從而預(yù)先形成一端的固定結(jié)構(gòu),折起部1的長度為0.5mm ;另一端的待彎折區(qū)切割型成η ( > 3)個矩形齒牙卡扣2,本實施例中η = 3,該齒牙卡扣在后續(xù)安裝時通過進(jìn)一步彎折形成另一端的固定結(jié)構(gòu)。
      [0026]本發(fā)明設(shè)計曲面內(nèi)襯片一端為完整的折起部,另一端處理為卡扣,從而便于在安裝曲面內(nèi)襯片時,令三個卡扣作為著力點與打拿極更好的貼合。而且與整體彎折相比,點的彎折更加容易處理。
      [0027]為了進(jìn)一步便于鍍膜和后續(xù)的安裝,可以在加工時將矩形齒牙卡扣向曲面外反折一定角度,令矩形齒牙卡扣與折起部平行,如圖2右下側(cè)視圖所示。
      [0028]步驟2、曲面內(nèi)襯片鍍膜:
      [0029](1)清洗曲面內(nèi)襯片:將304號不銹鋼曲面內(nèi)襯片放入干凈器皿中,用去離子水沖洗干凈,再將304號不銹鋼曲面內(nèi)襯片分別用分析純丙酮及分析純酒精各超聲波清洗15分鐘,然后用分析純無水乙醇沖洗干凈,用無屑擦拭紙擦拭至表面無劃痕、擦痕和液滴殘留痕跡。
      [0030](2)清潔真空室:開真空室,清除真空室內(nèi)脫落的膜層及空氣中的污染物,然后用脫脂紗布蘸無水乙醇擦拭干凈真空室內(nèi)壁。
      [0031](3)真空室抽真空:將清洗后的304號不銹鋼曲面內(nèi)襯片放入真空室的基片架上,打開機(jī)械泵預(yù)抽,將真空室抽真空至IPa,然后在機(jī)械泵繼續(xù)工作的情況下打開分子泵,待分子泵運轉(zhuǎn)平穩(wěn)后開啟分子泵的抽氣開關(guān),將真空室抽至3.0X10_5Pa,然后加熱基片架至400°C后保溫1個小時。
      [0032](4) 二次電子發(fā)射薄膜沉積:在304號不銹鋼曲面內(nèi)襯片上鍍制氧化鎂薄膜,厚度為lOOnm,結(jié)束膜層鍍制。
      [0033]步驟3、安裝曲面內(nèi)襯片:
      [0034]將鍍膜后的曲面內(nèi)襯片置于電子倍增器打拿極外殼內(nèi)表面,曲面內(nèi)襯片一端折起部套在電子倍增器打拿極外殼一端,將曲面內(nèi)襯片另一端的矩形齒牙卡扣向曲面外進(jìn)行彎曲,以扣接在電子倍增器打拿極外殼另外一端,使曲面內(nèi)襯片牢固貼合在電子倍增器打拿極外殼內(nèi)表面。
      [0035]綜上所述,以上僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并非用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種電子倍增器打拿極曲面成膜方法,其特征在于,該方法包括: 步驟1、按照電子倍增器打拿極外殼待鍍膜內(nèi)表面的尺寸和弧度,加工兩端留有待彎折區(qū)的曲面內(nèi)襯片;其中一端的待彎折區(qū)向曲面外反折180°,形成折起部;另一端的待彎折區(qū)切割型成η個矩形齒牙卡扣;η為大于或等于3的整數(shù); 步驟2、對曲面內(nèi)襯片的內(nèi)曲面進(jìn)行二次電子發(fā)射功能薄膜鍍制; 步驟3、將鍍膜后的曲面內(nèi)襯片置于電子倍增器打拿極外殼內(nèi)表面,并通過折起部和矩形齒牙卡扣與電子倍增器打拿極外殼進(jìn)行固定。
      2.如權(quán)利要求1所述的成膜方法,其特征在于,所述折起部長度為0.5mm。
      3.如權(quán)利要求1所述的成膜方法,其特征在于,在加工曲面內(nèi)襯片時,將所述矩形齒牙卡扣向曲面外反折一定角度,令矩形齒牙卡扣與折起部平行。
      4.如權(quán)利要求1所述的成膜方法,其特征在于,所述步驟2具體包括: (1)清洗:將步驟I獲得的曲面內(nèi)襯片放入干凈器皿中,用水沖洗干凈,再分別用分析純丙酮及分析純酒精各超聲波清洗10分鐘?30分鐘,然后用分析純易揮發(fā)的有機(jī)溶液沖洗干凈,用無屑擦拭紙擦拭至表面無劃痕、擦痕和液滴殘留痕跡; (2)鍍膜:將清洗后的曲面內(nèi)襯片放入真空室,打開機(jī)械泵預(yù)抽,將真空室抽真空至IPa,然后在機(jī)械泵保持工作的同時打開分子泵,待分子泵運轉(zhuǎn)平穩(wěn)后開啟分子泵的抽氣開關(guān),將真空室抽真空至3.0X 10_5Pa,然后加熱曲面內(nèi)襯片至所需溫度后保溫,在曲面內(nèi)襯片的內(nèi)曲面上進(jìn)行二次電子發(fā)射薄膜沉積。
      5.如權(quán)利要求4所述的成膜方法,其特征在于,將清洗后的曲面內(nèi)襯片放入真空室之前,先清洗真空室,具體步驟包括:清除真空室內(nèi)脫落的膜層及空氣中的污染物,然后用脫脂紗布蘸無水乙醇擦拭干凈真空室內(nèi)壁。
      【文檔編號】C23C14/22GK104362058SQ201410541534
      【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月15日
      【發(fā)明者】李得天, 李晨, 王多書, 張玲 申請人:蘭州空間技術(shù)物理研究所
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