電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝，包括底堝（1）和上覆堝（3），其中鍍膜材料（2）放置在底堝（1）上，上覆堝（3）頂蓋上具有用于材料蒸氣的出口（4），上覆堝（3）完全覆蓋底堝（1）的上表面，并且上覆堝（3）與底堝（1）之間的配合方式是間隙配合（6）。采用本實用新型的坩堝避免了電子束直接作用于材料，降低了電子束的溫度，材料在合理的溫度下蒸發(fā)，從而保證了材料本身的特性，使得鏡片表面防水和防油污性能的增加，提高了鏡片的附加值。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝，通過用間接加熱的方法實現(xiàn)較低蒸發(fā)溫度的 材料的蒸發(fā)，比如眼鏡用鏡片的防水和超防水材料的蒸發(fā)。 電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著眼鏡技術(shù)的發(fā)展，現(xiàn)在開發(fā)了鏡片表面用來防水的防水鍍膜材料和用來防油 污的超硬防水材料，而這些均是有機化合物，所以蒸發(fā)溫度很低，傳統(tǒng)的蒸發(fā)方法采用電子 束直接作用于鍍膜材料，這會引起材料的變異，導致防水和防油污等功能的下降。 實用新型內(nèi)容
[0003] 針對以上不足，本實用新型的目的在于提供電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝，通過間接傳 熱的方式，從而確保材料在蒸發(fā)時溫度較低，較低蒸發(fā)溫度的材料沒有變異，從而保證材料 本身的特性。
[0004] 具體來說，本實用新型采用以下技術(shù)方案：
[0005] -種電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝，包括底堝1和上覆堝3,其特征在于，鍍膜材料2放置 在底堝1上，上覆堝3頂蓋上具有用于材料蒸氣的出口 4,上覆堝3完全覆蓋底堝1的上表 面，并且上覆堝3與底堝1之間的配合方式是間隙配合6。
[0006] 優(yōu)選地，在底堝1的中心還設(shè)置有材料支座5用于支撐鍍膜材料2。
[0007] 優(yōu)選地，材料蒸氣出口 4在上覆堝3頂蓋上是偏心設(shè)置。
[0008] 更優(yōu)選地，材料蒸氣出口 4是設(shè)置在上覆堝3頂蓋上靠近邊緣處。
[0009] 有益效果：本實用新型采用封閉的坩堝構(gòu)型，電子束作用于坩堝，對材料進行間接 加熱，降低了對材料的加熱溫度，保證了材料的性能。偏心設(shè)置的出口使得材料蒸氣不能直 接沖出坩堝，使得鍍膜更加均勻。為進一步使得對材料的加熱均勻，保證材料的鍍膜性能， 在底堝的中心設(shè)置突出的支座，使得由坩堝對材料的直接傳導加熱最少，更多的是坩堝內(nèi) 環(huán)境對材料的整體加熱，保證加熱的均勻一致。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010] 圖1是本實用新型的電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011] 圖2是本實用新型的石墨坩堝接受電子槍照射時候的示意圖。
[0012] 在圖中：1底堝；2鍍膜材料；3上覆堝；4出口； 5材料支座；6間隙配合。

【具體實施方式】
[0013] 下面將結(jié)合附圖來詳細說明本實用新型。
[0014] 如圖1所示，本實用新型的電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝包括底堝1和上覆堝3,底堝1 和上覆堝3為高純石墨制造，中間放置鍍膜材料2。底堝1和上覆堝3之間優(yōu)選為間隙配合 6,方便鍍膜材料的放入以及廢舊鍍膜材料的取出。底堝1和上覆堝3為石墨制造耐高溫， 可以提高使用壽命，減少更換次數(shù)。
[0015] 如圖2所示，工作時電子槍所發(fā)出來的電子束作用于底堝1和上覆堝3上，通過 上覆堝3對材料2的輻射以及底堝1對材料2的傳導來加熱材料2。在底堝1的中心還設(shè) 置有材料支座5用于支撐鍍膜材料2,突出了輻射加熱的作用，而減弱了直接傳導加熱的作 用，使得傳導加熱限于材料的底部，保證了對材料加熱的均勻。這種加熱方式降低了電子束 的溫度，材料2在合理的溫度下蒸發(fā)，從而保證了材料2本身的特性，使得鏡片表面防水和 防油污性能的增加，提高了鏡片的附加值。
[0016] 上覆堝3頂蓋上具有用于材料蒸氣的出口 4,材料蒸氣出口 4優(yōu)選在上覆堝3頂蓋 上是偏心設(shè)置，以優(yōu)化蒸氣鍍膜的過程，保證鍍膜的性能。更優(yōu)選地，材料蒸氣出口 4是設(shè) 置在上覆堝3頂蓋上靠近邊緣處。
[0017] 本實用新型采用封閉的坩堝構(gòu)型，電子束作用于坩堝，對材料進行間接加熱，降低 了對材料的加熱溫度，保證了材料的性能。偏心設(shè)置的出口使得材料蒸氣不能直接沖出坩 堝，使得鍍膜更加均勻。為進一步使得對材料的加熱均勻，保證材料的鍍膜性能，在底堝的 中心設(shè)置突出的支座，使得由坩堝對材料的直接傳導加熱最少，更多的是坩堝內(nèi)環(huán)境對材 料的整體輻射加熱，保證加熱的均勻一致。
[0018] 上面結(jié)合附圖對本實用新型的實施方式作了詳細的說明，但是本實用新型不限于 上述實施方式，在所屬【技術(shù)領(lǐng)域】普通技術(shù)人員所具備的知識范圍內(nèi)，還可以在不脫離本實 用新型宗旨的前提下做出各種變化。
【權(quán)利要求】
1. 一種電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝，包括底堝（1)和上覆堝（3)，其特征在于，鍍膜材料 (2 )放置在底堝（1)上，上覆堝（3 )頂蓋上具有用于材料蒸氣的出口（ 4 )，上覆堝（3 )完全覆 蓋底堝（1)的上表面，并且上覆堝（3)與底堝（1)之間的配合方式是間隙配合（6)。
2. 如權(quán)利要求1所述的電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝，其特征在于，在底堝（1)的中心還設(shè) 置有材料支座（5 )用于支撐鍍膜材料（2 )。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝，其特征在于，材料蒸氣出口（4)在 上覆堝（3)頂蓋上是偏心設(shè)置。
4. 如權(quán)利要求3所述的電子槍蒸發(fā)用石墨坩堝，其特征在于，材料蒸氣出口（4)是設(shè) 置在上覆堝（3)頂蓋上靠近邊緣處。
【文檔編號】C23C14/30GK203904447SQ201420284907
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年5月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月30日
【發(fā)明者】劉鋒 申請人:江蘇淘鏡有限公司